JPS6275912A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダあるいはフロッピーデ
ィスクドライグなどの磁気記録再生装置□ に適用ａｔｔａ磁気゛″′・“０製造方法１°関″ｔ　
　　　　：る。　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１〔従来の技術〕 っ８１３ｉ！１＆＋−、ｔｌＥｍ６ゎ７５．６３ｏ□い
７．：の−例を示す。

この図に示すように、この種磁気ヘッドは、例えばＭｎ
−Ｚｎフェライトなど透磁率および飽和磁束密度の高い
材料にて形成されたＩ形コア半体３０およびこれと同様
の材料にて形成されたＣ形コア半体３１を、例えば８１
０２などの非磁性体からなる磁気ギャップ３２を介して
突き合わせ、上記■形コア半体３０およびＣ形コア半体
３１のギャップ形成側に形成される巻線窓３３の一部分
および接合用孔３４に接合材３４を充填することによっ
て、上記Ｉ形コア半体３０およびＣ形コア半体３１が接
合され、上記巻線窓３３に励磁コイル３５が巻回されて
いる。

以下、かかる磁気ヘッドの製造方法の一例を第９図乃至
第１２図によって概説する。

まず、第９図に示すように、Ｉ形コア半体３０およびＣ
形コア半体３１のもとになるコアブロック４０．４１を
、所要の磁性材料にて形成する。

次いで、上記コアブロック４０．４１のうちのいずれか
一方のコアブロックに、太幅の凹溝４３と細幅の凹１ｌ
Ｉ４４を相平行に凹設して、上記Ｃ形コア半体３１とな
るＣ形コアブロック４５を形成するとともに、他方のコ
アブロックの上記細幅の凹溝４４と対応する位置に細幅
の凹溝４６を凹設して、上記■形コア半体３０となる■
形コアブロック４７を形成する。

次いで、上記２つのコアブロック４０．４１のうち、少
なくともいずれか一方のコアブロックの凹＊４３，４４
　（４６）形成側の面の全体に、例えばスパッタリング
あるいは真空蒸着などの薄膜形成手段を用いて、　５ｉ
Ｏｚを主成分とする非磁性体をやや厚めに塗布する。

次いで、上記Ｃ形コアブロック４５および■形コアブロ
ック４７のギャップ突き合せ面および凹溝４３，４４　
（４６）内を研摩し、第１０図に示すように、ギャップ
突き合せ面に所要の厚さの磁気ギャップ４２が形成され
たＣ形コアブロック４５およびＩ形コアブロック４７を
形成する。

次いで、第１１図に示すように、磁気ギャップ４２が被
着されたＣ形コアブロック４５および■形コアブロック
４７の磁気ギャップ形成側の面を突き合わせ、上記太幅
の凹溝４３とｌ形コアブロックにて形成される巻線窓３
３、および上記２つノ細幅の凹１１４４．４６によって
形成される接合用孔３４に固形の接合材４８を挿入し、
予じめ設定された加圧および加熱条件の下で、上記接合
材４８を溶融して両コアブロック４５．４７を接合する
。

最後に、第１２図に示すように、前記のようにして一体
に接合されたコアブロック４９を、同図に記した一点鎖
線に沿ってスライスすることにより、所定形状の磁気ヘ
ッドを得る。

〔従来技術の問題点〕

ところで、上記コア半体３０．３１を構成する磁性材料
としては、透磁率および飽和磁束密度が高いことが要求
され、近年では、単結晶Ｍｎ−Ｚｎフェライトや単結晶
Ｎｉ−Ｚｎフェライトが賞月されている。一方、接合材
４８としては、この単結晶Ｍｎ−Ｚｎフェライトや単結
晶Ｎｊ−Ｚｎフェライトに対してぬれ性が良好で接着性
が良く、かつ、必要な強度を備えていることが要求され
、かかる観点より、例えばＰｂ０ｚを主成分とする低融
点ガラスが賞月されている。

かように接合材には、コア半体を構成する材料に対して
ぬれ性が良く、接着性に優れていることが要求されるが
、反面、コア半体を構成する材料に対する接合材のぬれ
性が良好であるということは、巻線窓３３に固形の接合
材４８を挿入し、加熱、溶融した場合に、第８図に示す
ように、接合材４８の一部が巻線窓３３の壁面を伝って
不要領域Ａに付着するという不具合の原因ともなる。従
来は不要領域Ａに接合材４８が付着するのを防止するた
めの手段が何ら施されていないため、巻線窓３３の不必
要領域Ａに接合材４８が付着し、巻線窓３３の容積が小
さくなって所要数の巻線を巻回することができなくなっ
たり、あるいは必要領域Ｂに付着されるべき接合材４８
の量が少なくなってコア半体３０．３１が剥離し易くな
るといった不具合を生じていた。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上記必要領域Ｂにのみ充分な接合材が充填さ
れ、上記不必要領域Ａには接合材が付着されないように
することによって上記した問題点を解決しようとするも
のであって、コア半体の巻線窓となる領域のうちの接合
材不必要領域Ａに、接合材とのぬれ性が悪い物質をもっ
て接合材防止膜を形成したことを特徴とするものである
。

また、一方のコアブロックに巻線窓のもとになる凹溝を
形成したのち、この凹溝の接合材不要領域および突き合
せ後肢凹溝と対向する他方のコアブロックの接合材不要
領域に接合材とのぬれ性が悪い物質をもって接合材防止
膜を形成する工程を含むことを製造上の特徴とするもの
である。

〔実施例〕

以下、本発明の第１実施例を第１図に基づいて説明する
。

第１図は第１実施例の磁気ヘッドの側面図であって、１
は磁気ヘッド、２は磁気ヘッドＩを構成するＣ形コア半
体、３は磁気ヘッド１を構成するＩ形コア半体、４は上
記コア半体２．３の間に介設された磁気ギャップ、５は
巻線窓、６は接合用孔、７は上記巻線、１５の一部分お
よび接合用孔６に充填された接合材、８は上記巻線窓５
の接合材不要領域に形成された接合材防止膜を示してい
る。

上記コア半体２．３は、例えば単結晶Ｍｎ−Ｚｎフェラ
イト、単結晶Ｎｉ−Ｚｎフェライトなど、透磁率および
飽和磁束密度の高い磁性材料によって形成される。

上記磁気ギャップ４は、例えばＳｉＯ２、Ｔ１、ＣＴ３
、Ｂｅの如き非磁性のギャップ規制材の薄膜を。

上記２つのコア半体２．３のうちの、少なくともいずれ
か一方のコア半体のギャップ形成側の面に。

約０．２μｍの厚さに成膜することによって形成される
。上記磁気ギャップ４は、スパッタリング、真空蒸着、
ケミカル蒸着、めっきなど任意の薄膜形成手段を用いて
形成することができる。

上記接合材７としては１例えばＰｂ０ｚを主成分とする
低融点ガラスが用いられる。この接合材７は、上記コア
半体２．３のギャップ形成側の面を所要の押圧力で突き
合わせたのち、巻線窓５の。

上記磁気ギャップ４を介してその両側に配置された両コ
ア半体２，３にまたがる領域、および接合用孔６に充填
される。

上記接合材防止膜８は、不要領域への上記接合＝７− 材７の付着を防止するためのものであって、上記コア半
体２，３を構成する単結晶Ｍｎ−Ｚｎフェライトや単結
晶Ｎｉ−Ｚｎフェライトに対してぬれ性（付着性）が良
く、上記接合材７の主成分であるＰｂ０ｚ　　に対して
ぬれ性が悪い材料１例えばグラファイト、Ｍｏ５ｚ、ｈ
−ＢＮなどの潤滑性非酸化物セラミックス、それにポリ
イミドなどの耐熱性高分子材料などが用いられる。これ
らの接合材防止膜８は、上記巻線窓５を構成するＣ形コ
ア半体２の立壁５ａおよび底壁５ｂ、それに■形コア半
体３の上記巻線窓５に臨む部分のうちの下部５ｃに形成
される。

この接合材防止膜８の形成手段としては、スパッタリン
グ、真空蒸着、ケミカル蒸着などの薄膜形成手段のほか
、スプレーや刷毛塗り等の手段を用いることができる。

上記第１実施例の磁気ヘッド１は、巻線窓５の接合材不
要部分に接合材防止膜８を形成したので、必要領域にの
み充填されるべき接合材７が腋部に流出することがなく
、従って、従来のように、巻線が不可能になったり、あ
るいは必要領域に付着される接合材７の量が少なくなっ
てコア半体２゜３が剥離し易くなるといった不具合を防
止することができる。

次に１本発明の第２実施例について説明する。

本発明の第２実施例は、コア基体のギャップ突き合せ側
に高透磁率および高飽和磁束密度の金属磁性層が形成さ
れたいわゆる複合型磁気ヘッドに本発明を適用したこと
を特徴とするものである。

第２図は本発明の第２実施例を示す磁気ヘッドの正面図
であって、１１は磁気ヘッド、１２は磁気へラド１１を
構成するＣ形コア半体、１３は磁気゛ラド１１を構成す
る１形１ア半体・　１４は磁　　　　　１気ギヤツプ、
１５は前記一方のコア半体１２を構成する一方のコア基
体、１６はこの一方のコア基　　　　　１□ 体１５の前記磁気ギャップ１４と対向する面に形成され
た金属磁性層、１７は前記他方のコア半体１３を構成す
る他方のコア基体、１８はこの他方のコア基体１７の前
記磁気ギャップ１４と対向する面に形成された金属磁性
層を示し、その他第１図に示したと同様の部材について
は、同一の符号が表示されている。

上記コア基体１５．１７は、例えば、Ｍｎ−Ｚｎフェラ
イト、Ｎｉ−Ｚｎフェライトなど、透磁率および飽和磁
束密度の高い磁性材料によって形成されている。

また、これらコア基体１５．１７に被着される金属磁性
層１６．１８の素材としては、例えば。

Ｆｅ−８ｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ−８ｉ合金、Ｎｉ−Ｆｅ合
金などの高透磁率および高飽和磁性密度の結晶質磁性合
金、あるいは非晶質磁性合金が用いられる。

また、金属磁性層１６．１８の形成手段としては、スパ
ッタリング、真空蒸着、化学蒸着、めっきなど、任意の
薄膜形成手段を用いることができる。

上記磁気ギャップ１４は、上記第１実施例の磁気ヘッド
の場合と同様に、例えば５ｉＯｚ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｂｅの
如き非磁性のギャップ規制材を、上記２つのコア半体１
２．１３を構成する２つの金属磁性層１６．１８のうち
の、少なくともいずれか一方の金属磁性層のギャップ形
成側の面に成膜することによって形成される。

上記第２実施例の磁気ヘッド１１は、上記第１実施例の
磁気ヘッド１と同様の効果を奏するほか。

コア基体１５．１７のギャップ形成側の面に高透磁率お
よび高飽和密度の金属磁性層１６．１８が形成されてい
るので、磁気ギャップ部の飽和磁気密度が改善され、そ
の分磁気ヘッドの磁気特性を向上することができる。

以下、本発明の磁気ヘッドの製造方法の一例を第３図乃
至第７図に基づいて説明する。

まず、第３図に示すように、Ｃ形コア半体２およびＩ形
コア半体３のもとになるコアブロック２０．２１を、Ｍ
ｎ−ＺｎフェライトやＮｉ−Ｚｎフェライトなど、所要
の磁性材料にて形成する。

次いで、上記コアブロック２０．２１のうちのいずれか
一方のコアブロックに、太幅の凹溝２３と細幅の凹溝２
４を相平行に凹設して、上記Ｃ形コア半体２となるＣ形
コアブロック２５を形成するとともに、他方のコアブロ
ックの上記細幅の凹溝２４と対応する位置に細幅の凹溝
２６を凹設して、上記Ｉ形コア半体３となる■形コアブ
ロック２７を形成する。

次いで、上記２つのコアブロック２０．２１のうち、少
なくともいずれが一方のコアブロックのギャップ形成側
の面および凹溝２３，２４（２６）の全体に、例えばス
パッタリングあるいは真空蒸着などの薄膜形成手段を用
いて、　　５ｊＯｚなどの非磁性体をやや厚めに塗布、
形成する。

次いで、上記コアブロック２０．２１のギャップ形成側
の面および凹溝２３，２４（２６）内を研摩し、第４図
に示すように、ギャップ形成側の面に所要の厚さの磁気
ギャップ２２が形成されたＣ形コアブロック２５および
■形コアブロック２７を形成する。

次いで、第５図に示すように、Ｃ形コアブロック２５に
形成された太幅の凹溝２３の立壁２３ａおよび底壁２３
ｂ、それに突き合せ後上記太幅の凹溝２３と共に巻線窓
５を形成するＩ形コアブロック２７の巻線窓形成部の下
部２３ｃに１例えばスパッタリング、真空蒸着、ケミカ
ル蒸着、スプシー法、刷毛塗り法などの手段をもって１
例えばグラファイト、Ｍｏ５ｇ、ｈ　　ＢＮなどの潤滑
性非酸化物セラミックス、それにポリイミドなどの耐熱
性高分子材料などの接合材防止膜８を形成する。

次いで、第６図に示すように、上記Ｃ形コアブロック２
５および■形コアブロック２７の磁気ギャップ形成側の
面を突き合わせ、上記太幅の凹溝２３とＩ形コアブロッ
クにて形成される巻線窓５の壁面のうち上記接合材防止
膜が形成されていない領域、および上記２つの細幅の凹
＠２４，２Ｂによって形成される接合用孔６に固形の接
合材２８を挿入し、予じめ設定された加圧および加熱条
件の下で、上記接合材２８を溶融して両コアブロック２
５．２７を接合する。

最後に、第８図に示すように、前記のようにして一体に
接合されたコアブロック２９を、同図に記した一点鎖線
に沿ってスライスすることにより、第１図に示す如き所
定形状の磁気ヘッド１を得る。

上記実施例の磁気ヘッド１の製造方法は、相接合されろ
２つのコアブロック２５．２７の接合材不要領域に接合
材防止膜８を形成することによって核部への接合材の流
出を防止するようにしたので、他に特別な治具などを必
要とせず、２つのコアブロック２５．２７を接合してな
る磁気ヘッド１を安価に、かっ歩留り良く製造すること
ができる。

尚、上記した接合材防止膜の材質およびその形成手段は
、実施の一例を示すものであって、本発明の要旨がこれ
に限定されるものではないことは勿論である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の磁気ヘッドは、巻線窓の
接合材不要部分に接合材防止膜を形成したので、該接合
材不要部分に接合材７が付着することがなく、従って、
従来のように巻線窓が狭くなって巻線が不可能になった
り、あるいは必要領域に付着されるべき接合材の量が少
なくなってコア半体が剥離し易くなるといった不具合を
防止することができる。

また１本発明の磁気ヘッドの製造方法は、相接合される
２つのコアブロックの接合材不要領域に接合材防止膜を
形成することによって核部への接合材の流出を防止する
ようにしたので、他に特別な治具などを必要とせず、２
つのコアブロックを接合してなる磁気ヘッドを安価に、
かっ歩留り良く製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例の磁気ヘッドを示す正面図
、第２図は本発明の第２実施例の磁気ヘッドを示す正面
図、第３図乃至第７図は本発明にかかる磁気ヘッドの製
造方法の一例を示す説明図であって、第３図はコアブロ
ックの斜視図、第４図は凹溝および磁気ギャップが形成
されたコアブロックの斜視図、第５図は接合材防止膜が
形成されたコアブロックの正面図、第６図は接合材の充
填方法を示す斜視図、第７図は磁気ヘッドのスライス位
置を示すコアブロックの平面図、第８図は従来の磁気ヘ
ッドの一例を示す正面図、第９図乃至第１２図は従来知
られている磁気ヘッドの製造方法の一例を示す説明図で
あって、第９図はコアブロックの斜視図、第１０図は凹
溝および磁気ギャップが形成されたコアブロックの斜視
図、第１１図は接合材の充填方法を示す斜視図、第１２
図は磁気ヘッドのスライス位置を示すコアブロックの平
面図である。 ｌ：磁気ヘッド、２：Ｃ形コア半体、３：Ｉ形コア半体
、４：磁気ギャップ、５：巻線窓、６：接合用孔、７：
接合材、８：接合材防止膜、１１：磁気ヘッド、１２：
Ｃ形コア半体、１３：Ｔ形コア半体、１４：ｉ気ギャッ
プ、１５ニ一方のコア基体、１６：金属磁性層、１７：
他方のコア基体、１８：金属磁性層、２０，２１ニブロ
ツク、２２：磁気ギャップ、２３，２４．２６：凹溝、
２５：Ｃ形コアブロック、２７：■形コアブロック、２
８：接合材 ４：磁気ギや、ブ　　　　　　８：　接合材防止膜范５
図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）別体に形成された２つのコア半体を非磁性の磁気
   ギャップを介して突き合わせ、これら２つのコア半体の
   接合側に形成される巻線窓の一部分に接合材を充填して
   これら２つのコア半体を接合してなる磁気ヘッドにおい
   て、上記コア半体として、突き合わせ後上記巻線窓を構
   成する領域のうち接合材不要領域に、接合材とのぬれ性
   が悪い物質をもって接合材防止膜が形成されたコア半体
   を用いたことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）コア半体のもとになる２つのコアブロックのうち
   少なくとも一方のコアブロックのギャップ形成側の面に
   非磁性材料をもって所要厚さの磁気ギャップを形成する
   工程、上記２つのコアブロックのうち少なくとも一方の
   コアブロックのギャップ形成側の面に巻線窓のもとにな
   る凹溝を形成する工程、上記凹溝の接合材不要領域およ
   び突き合せ後該凹溝と対向する他方のコアブロックの接
   合材不要領域に接合材とのぬれ性が悪い物質をもつて接
   合材防止膜を形成する工程、上記２つのコアブロックの
   ギャップ形成側の面を突き合わせ、上記巻線窓の接合材
   充填領域に接合材を充填して両ブロックを一体に接合す
   る工程、一体に接合されたブロックから所定形状の磁気
   ヘッドをスライスする工程を備えた磁気ヘッドの製造方
   法。