JPS6276624A - レジスト剥離装置 - Google Patents
レジスト剥離装置Info
- Publication number
- JPS6276624A JPS6276624A JP21646585A JP21646585A JPS6276624A JP S6276624 A JPS6276624 A JP S6276624A JP 21646585 A JP21646585 A JP 21646585A JP 21646585 A JP21646585 A JP 21646585A JP S6276624 A JPS6276624 A JP S6276624A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- cooling water
- cooling
- waste liquid
- processing tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は例えば半導体ウェハに付着されたレジストを剥
離する装置の改良に関する。
離する装置の改良に関する。
（発明の技術的背景）
従来のレジスト剥離装置を第２図を参照して説明する。
第２図において、処理槽１内には薬品バイブ２から加熱
されたレジスト剥離用の薬品（例えば硫酸、過酸化水素
水の５：１混合液）３が供給され、この薬品３に例えば
レジストが付着した半導体ウェハ４が浸漬される。
されたレジスト剥離用の薬品（例えば硫酸、過酸化水素
水の５：１混合液）３が供給され、この薬品３に例えば
レジストが付着した半導体ウェハ４が浸漬される。
前記処理槽１内の温度１５０℃前後の処理ずみの廃液は
処理槽１下部に取付けられた耐熱バルブ５を開放するこ
とにより一度に廃液冷却槽６に流入する。この廃液冷却
槽６上部の冷却水バイブ７からは冷却水が供給されて廃
液を冷却する。そして、温度の下がった廃液８は廃液冷
却槽６に取付けられた耐熱管９から排出される。なお、
処理槽１、廃液冷却槽６等は液温の関係から石英で形成
されている。
処理槽１下部に取付けられた耐熱バルブ５を開放するこ
とにより一度に廃液冷却槽６に流入する。この廃液冷却
槽６上部の冷却水バイブ７からは冷却水が供給されて廃
液を冷却する。そして、温度の下がった廃液８は廃液冷
却槽６に取付けられた耐熱管９から排出される。なお、
処理槽１、廃液冷却槽６等は液温の関係から石英で形成
されている。
しかしながら、上記のような従来のレジスト剥離装置で
は、例えば耐熱バルブ５の劣化により薬品３の漏れが発
生することがある。また、廃液冷却槽６に入っている大
ｍの廃液８に冷却水を流し込むと、硫酸を主成分とする
薬品の性質上、最初は温度を低下させることが困難であ
り、むしろ温度が上昇する場合もある。このため、廃液
８を排出できる温度まで冷却するのに長時間を要する。
は、例えば耐熱バルブ５の劣化により薬品３の漏れが発
生することがある。また、廃液冷却槽６に入っている大
ｍの廃液８に冷却水を流し込むと、硫酸を主成分とする
薬品の性質上、最初は温度を低下させることが困難であ
り、むしろ温度が上昇する場合もある。このため、廃液
８を排出できる温度まで冷却するのに長時間を要する。
更に、処理槽１は薬品３を流出させた後でも温度が低下
せず、連続的に行なわれるレジスト剥離工程のプロセス
制御の安定性に欠けていた。
せず、連続的に行なわれるレジスト剥離工程のプロセス
制御の安定性に欠けていた。
本発明は上記事情を考慮してなされたものであり、装置
の安全性及び稼働率を向上するとともに、レジスト剥離
工程のプロセス制御を安定化できるレジスト剥ＩＩ装置
を提供しようとするものである。
の安全性及び稼働率を向上するとともに、レジスト剥離
工程のプロセス制御を安定化できるレジスト剥ＩＩ装置
を提供しようとするものである。
〔発明の概要〕
本発明のレジスト剥離装置は、レジスト剥離用の薬品が
収容され、レジストが付着した被処理体が浸漬される処
理槽と、該処理槽の外周を囲むように設けられた廃液冷
却槽と、冷却水及び冷却水の流動によって吸引される処
理槽内の薬品を廃液冷却槽に導入する冷却水アスビレー
タと、前記処理槽と廃液冷却槽との間に設けられ、これ
らを冷却するとともに、廃液を冷却する冷却水シャワー
とを具漏したことを特徴とするものである。
収容され、レジストが付着した被処理体が浸漬される処
理槽と、該処理槽の外周を囲むように設けられた廃液冷
却槽と、冷却水及び冷却水の流動によって吸引される処
理槽内の薬品を廃液冷却槽に導入する冷却水アスビレー
タと、前記処理槽と廃液冷却槽との間に設けられ、これ
らを冷却するとともに、廃液を冷却する冷却水シャワー
とを具漏したことを特徴とするものである。
このようなレジスト剥離装置によれば、処理槽の外周を
囲むように廃液冷却槽を配置しているので、外部へ薬品
が漏れるおそれがない。また、冷却水アスビレータによ
り処理槽内の薬品を適当な流量で廃液冷却槽内に導入し
、冷却水アスビレータ及び冷却水シャワーからの冷却水
により冷却することができるので、冷却時間を短縮する
ことができる。更に、冷却水シャワーにより次のレジス
ト剥離工程までに処理槽を冷却することができるので、
プロセス制御を安定化することができる。
囲むように廃液冷却槽を配置しているので、外部へ薬品
が漏れるおそれがない。また、冷却水アスビレータによ
り処理槽内の薬品を適当な流量で廃液冷却槽内に導入し
、冷却水アスビレータ及び冷却水シャワーからの冷却水
により冷却することができるので、冷却時間を短縮する
ことができる。更に、冷却水シャワーにより次のレジス
ト剥離工程までに処理槽を冷却することができるので、
プロセス制御を安定化することができる。
以下、本発明の実施例を第１図を参照して説明する。
第１図において、処理槽１１内には薬品バイブ１２から
加熱されたレジスト剥離用の薬品（例えば硫酸、過酸化
水素水の５：１混合液）１３が供給され、この薬品１３
に例えばレジストが付置した半導体ウェハ１４が浸漬さ
れる。前記処理槽１１外周には、これを囲むように廃液
冷却槽１５が設けられている。また、前記処理１１１１
と廃液冷却槽１５との間には冷却水アスビレータ１６が
設けられ、これに接続された吸引管１７が前記処理槽１
１内の薬品１３中に挿入されている。
加熱されたレジスト剥離用の薬品（例えば硫酸、過酸化
水素水の５：１混合液）１３が供給され、この薬品１３
に例えばレジストが付置した半導体ウェハ１４が浸漬さ
れる。前記処理槽１１外周には、これを囲むように廃液
冷却槽１５が設けられている。また、前記処理１１１１
と廃液冷却槽１５との間には冷却水アスビレータ１６が
設けられ、これに接続された吸引管１７が前記処理槽１
１内の薬品１３中に挿入されている。
所定時間レジスト剥離処理を行なった後、前記冷却水ア
スビレータ１６に冷却水を流すことにより、処理槽１１
内の温度１５０℃前後の処理ずみの薬品１３が吸引され
、冷却水とともに廃液冷却槽１５に導入される。また、
前記処理１ａ１１内部には冷却水シャワー１８が設けら
れ、この冷却水シャワー１８には冷却水バイブ１９から
冷却水を供給することにより、処理槽１１を冷却できる
ようになっている。同様に処理槽１１と廃液冷却槽１５
との間には冷却水シャワー２０が設けられ、この冷却水
シャワー２０には冷却水バイブ２１から冷却水を供給す
ることにより・、処理槽１１、廃液冷却槽１５及び廃液
冷却槽１５内の廃液２２を冷却できるようになっている
。更に、廃液冷却槽１５内の廃液２２中には温度センサ
２３が挿入されており、廃液２２の温度が所定温度（例
えば３０℃）より高いか低いかが表示部２４に表示され
る。そして、廃液２２の温度が十分低くなれば、耐熱管
２５から廃液２２が排出される。なお、上記処理槽１１
、廃液冷却槽１５等は石英で形成されている。
スビレータ１６に冷却水を流すことにより、処理槽１１
内の温度１５０℃前後の処理ずみの薬品１３が吸引され
、冷却水とともに廃液冷却槽１５に導入される。また、
前記処理１ａ１１内部には冷却水シャワー１８が設けら
れ、この冷却水シャワー１８には冷却水バイブ１９から
冷却水を供給することにより、処理槽１１を冷却できる
ようになっている。同様に処理槽１１と廃液冷却槽１５
との間には冷却水シャワー２０が設けられ、この冷却水
シャワー２０には冷却水バイブ２１から冷却水を供給す
ることにより・、処理槽１１、廃液冷却槽１５及び廃液
冷却槽１５内の廃液２２を冷却できるようになっている
。更に、廃液冷却槽１５内の廃液２２中には温度センサ
２３が挿入されており、廃液２２の温度が所定温度（例
えば３０℃）より高いか低いかが表示部２４に表示され
る。そして、廃液２２の温度が十分低くなれば、耐熱管
２５から廃液２２が排出される。なお、上記処理槽１１
、廃液冷却槽１５等は石英で形成されている。
このようなレジスト剥Ｍ装置によれば、処理槽１１の外
周を囲むように廃液冷却槽１５を配置しているので、例
えば冷却水アスビレータ１Ｇが劣化したとしても外部へ
薬品１３が漏れるおそれがなく、安全性が高い。、對た
、冷却水アスビレータ１６により処理槽１１内の処理ず
みの薬品１３を適当な流量で廃液冷却槽１５内に導入し
、冷却水アスビレータ１６及び冷却水シャワー２０から
の冷却水により効率よく冷却することができる。このた
め、冷却時間を短縮することができ、装置の稼動率を向
上することができる。更に、処理Ｗ！１１内外の冷却水
シャワー１８．２０により次のレジスト剥離工程までに
処理槽１１を冷却することができるので、プロセス制御
を安定化することができる。しかも、上記実施例のレジ
スト剥離装置では廃液冷却槽１５内の廃液２２中に温度
センサ２３を挿入し、廃液温度を検知しているので、安
全な温度で廃液２２の排出が行なえる。
周を囲むように廃液冷却槽１５を配置しているので、例
えば冷却水アスビレータ１Ｇが劣化したとしても外部へ
薬品１３が漏れるおそれがなく、安全性が高い。、對た
、冷却水アスビレータ１６により処理槽１１内の処理ず
みの薬品１３を適当な流量で廃液冷却槽１５内に導入し
、冷却水アスビレータ１６及び冷却水シャワー２０から
の冷却水により効率よく冷却することができる。このた
め、冷却時間を短縮することができ、装置の稼動率を向
上することができる。更に、処理Ｗ！１１内外の冷却水
シャワー１８．２０により次のレジスト剥離工程までに
処理槽１１を冷却することができるので、プロセス制御
を安定化することができる。しかも、上記実施例のレジ
スト剥離装置では廃液冷却槽１５内の廃液２２中に温度
センサ２３を挿入し、廃液温度を検知しているので、安
全な温度で廃液２２の排出が行なえる。
以上詳述した如く本発明によれば、安全性及び稼働率が
高く、しかもプロセス制御を安定化できるレジスト剥離
装置を提供でき、ひいては装置価格を低減できる等顕著
な効果を奏するものである。
高く、しかもプロセス制御を安定化できるレジスト剥離
装置を提供でき、ひいては装置価格を低減できる等顕著
な効果を奏するものである。
第１図は本発明の実施例におけるレジスト剥離装置の断
面図、第２図は従来のレジスト剥離装置の断面図である
。 １１・・・処理槽、１２・・・薬品バイブ、１３・・・
薬品、１４・・・半導体ウェハ、１５・・・廃液冷却槽
、１６・・・冷却水アスビレータ、１７・・・吸引管、
１８．２゜・・・冷却水シャワー、１９．２１・・・冷
却水バイブ、２２・・・廃液、２３・・・温度センサ、
２４・・・表示部、２５・・・耐熱管。
面図、第２図は従来のレジスト剥離装置の断面図である
。 １１・・・処理槽、１２・・・薬品バイブ、１３・・・
薬品、１４・・・半導体ウェハ、１５・・・廃液冷却槽
、１６・・・冷却水アスビレータ、１７・・・吸引管、
１８．２゜・・・冷却水シャワー、１９．２１・・・冷
却水バイブ、２２・・・廃液、２３・・・温度センサ、
２４・・・表示部、２５・・・耐熱管。
Claims (3)
- （１）レジスト剥離用の薬品が収容され、レジストが付
着した被処理体が浸漬される処理槽と、該処理槽の外周
を囲むように設けられた廃液冷却槽と、冷却水及び冷却
水の流動によつて吸引される処理槽内の薬品を廃液冷却
槽に導入する冷却水アスビレータと、前記処理槽と廃液
冷却槽との間に設けられ、これらを冷却するとともに、
廃液を冷却する冷却水シャワーとを具備したことを特徴
とするレジスト剥離装置。 - （２）処理槽内に処理槽を冷却する冷却水シャワーを設
けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレジ
スト剥離装置。 - （３）廃液冷却槽内の廃液の温度を検知する温度センサ
を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
レジスト剥離装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21646585A JPS6276624A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | レジスト剥離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21646585A JPS6276624A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | レジスト剥離装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6276624A true JPS6276624A (ja) | 1987-04-08 |
Family
ID=16688897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21646585A Pending JPS6276624A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | レジスト剥離装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6276624A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015008443A1 (ja) * | 2013-07-17 | 2015-01-22 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 |
| JP2023026679A (ja) * | 2014-09-15 | 2023-02-24 | ザ チルドレンズ メディカル センター コーポレーション | ヒストンｈ３－リジントリメチル化を除去することによって体細胞核移入（ｓｃｎｔ）効率を増加させるための方法および組成物 |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21646585A patent/JPS6276624A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015008443A1 (ja) * | 2013-07-17 | 2015-01-22 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 |
| JP2015020100A (ja) * | 2013-07-17 | 2015-02-02 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 |
| JP2023026679A (ja) * | 2014-09-15 | 2023-02-24 | ザ チルドレンズ メディカル センター コーポレーション | ヒストンｈ３－リジントリメチル化を除去することによって体細胞核移入（ｓｃｎｔ）効率を増加させるための方法および組成物 |
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