JPS628221B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS628221B2 JPS628221B2 JP15534982A JP15534982A JPS628221B2 JP S628221 B2 JPS628221 B2 JP S628221B2 JP 15534982 A JP15534982 A JP 15534982A JP 15534982 A JP15534982 A JP 15534982A JP S628221 B2 JPS628221 B2 JP S628221B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing container
- magnetic field
- processing
- container
- moving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Disintegrating Or Milling (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は固体、粉体、液体等の被処理物と一
諸に強磁性あるいは非磁性導電材で作られたワー
キングピースを処理容器内に収容し、これに外部
より移動磁界を作用させることによつてワーキン
グピースに激しいランダム運動を生起させて、被
処理物の粉砕、混合、撹拌等の処理を行う電磁式
処理装置の改良に関する。
諸に強磁性あるいは非磁性導電材で作られたワー
キングピースを処理容器内に収容し、これに外部
より移動磁界を作用させることによつてワーキン
グピースに激しいランダム運動を生起させて、被
処理物の粉砕、混合、撹拌等の処理を行う電磁式
処理装置の改良に関する。
この種の処理装置として第１図および第２図に
示すような装置がすでに提案されている。すなわ
ち第１図において、１は被処理物２とともに強磁
性あるいは非磁性導電材で作られた例えばスピン
ドル形状の多数のワーキングピース３を収容した
処理容器であり、この容器１を中央に挾んで、そ
の上下には移動磁界発生装置４，５が対向配置さ
れており、その発生磁界の移動方向は矢印φ１，
φ２で示すように互に逆方向に定められている。
この移動磁界発生装置４，５はいわゆるリニアモ
ータとしてよく知られており、（以下「移動磁界
発生装置」を「リニアモータ」と呼称する。）例
えば３相交流巻線６を鉄心７に沿つて多極を形成
するように巻装して構成され、多相交流電源より
給電を受けて移動磁界φ１とφ２を生成する。
示すような装置がすでに提案されている。すなわ
ち第１図において、１は被処理物２とともに強磁
性あるいは非磁性導電材で作られた例えばスピン
ドル形状の多数のワーキングピース３を収容した
処理容器であり、この容器１を中央に挾んで、そ
の上下には移動磁界発生装置４，５が対向配置さ
れており、その発生磁界の移動方向は矢印φ１，
φ２で示すように互に逆方向に定められている。
この移動磁界発生装置４，５はいわゆるリニアモ
ータとしてよく知られており、（以下「移動磁界
発生装置」を「リニアモータ」と呼称する。）例
えば３相交流巻線６を鉄心７に沿つて多極を形成
するように巻装して構成され、多相交流電源より
給電を受けて移動磁界φ１とφ２を生成する。
第１図の構成により、移動磁界φ１とφ２を作
用する磁場の中に置かれたワーキングピース３は
磁化および渦電流の作用による電磁力が働き、ワ
ーキングピース３はそれ自身の重心のまわりで回
転運動を行うとともに、移動磁界φ１，φ２によ
るその移動磁界方向に向けての推進力および浮上
力に加えて、ワーキングピース同士の衝突、容器
壁面との間の衝突も加わつて、容器１の中で激し
くランダムな運動を生起する。そしてこのランダ
ム運動により、被処理物２はワーキングピース３
との衝突等により粉砕あるいは混合、撹拌が進行
する。
用する磁場の中に置かれたワーキングピース３は
磁化および渦電流の作用による電磁力が働き、ワ
ーキングピース３はそれ自身の重心のまわりで回
転運動を行うとともに、移動磁界φ１，φ２によ
るその移動磁界方向に向けての推進力および浮上
力に加えて、ワーキングピース同士の衝突、容器
壁面との間の衝突も加わつて、容器１の中で激し
くランダムな運動を生起する。そしてこのランダ
ム運動により、被処理物２はワーキングピース３
との衝突等により粉砕あるいは混合、撹拌が進行
する。
ところで、前記処理容器１が置かれるリニアモ
ータ４と５との間の磁場空間における磁界強度の
分布についての解析を行つたところによれば、第
３図に示すような磁界分布を示すことが明らかに
なつた。ここでリニアモータ４，５はＵ、Ｖ、
W3相の交流巻線が施されており、かつともに同
じ周波数の交流電源で励磁されるものとする。す
なわち鉄心７に巻装された巻線６の極ピツチをＰ
とすれば、処理容器内の作用空間における磁界
は、時間の経過に関係なく定常時に、その絶体値
が移動磁界方向に沿つて極ピツチＰの1/2の間隔
で強、弱をくり返すような分布となる。このよう
な磁界分布は、リニアモータ４，５の各相巻線電
流とこれによつて生起される磁界の関係を時間の
進行にしたがつて遂時追跡することによつて求め
られ、またこの分布は実際に測定した磁界分布と
も一致する。ここで前記の強磁界領域の中心を
Ａ、弱磁界領域の中心をＢとして表わすと、Ａと
Ｂが移動磁界方向に沿つて1/2極ピツチ間隔で交
互に並ぶようになる。
ータ４と５との間の磁場空間における磁界強度の
分布についての解析を行つたところによれば、第
３図に示すような磁界分布を示すことが明らかに
なつた。ここでリニアモータ４，５はＵ、Ｖ、
W3相の交流巻線が施されており、かつともに同
じ周波数の交流電源で励磁されるものとする。す
なわち鉄心７に巻装された巻線６の極ピツチをＰ
とすれば、処理容器内の作用空間における磁界
は、時間の経過に関係なく定常時に、その絶体値
が移動磁界方向に沿つて極ピツチＰの1/2の間隔
で強、弱をくり返すような分布となる。このよう
な磁界分布は、リニアモータ４，５の各相巻線電
流とこれによつて生起される磁界の関係を時間の
進行にしたがつて遂時追跡することによつて求め
られ、またこの分布は実際に測定した磁界分布と
も一致する。ここで前記の強磁界領域の中心を
Ａ、弱磁界領域の中心をＢとして表わすと、Ａと
Ｂが移動磁界方向に沿つて1/2極ピツチ間隔で交
互に並ぶようになる。
また、上記の磁界分布のもとで処理容器内を運
動するワーキングピースの動きを高速度カメラで
観察すると、ワーキングピースは強磁界領域では
激しくランダム運動するが、弱磁界領域ではワー
キングピースの動きが緩慢になることが認められ
た。この観察結果はそのまま実際に砕料の粉砕処
理を行つた場合にも当てはまり、実機運転テスト
からも、弱磁界領域に位置する処理容器１の四隅
では、粉砕動作が十分に進行せず、この部分に粒
度の大きな砕料がそのまま多く滞留していること
が認められる。つまり、第１図に示したこの種の
処理装置は、一見したところでは処理容器内の全
域で処理動作が均一に行われているかのように見
えるが、厳密に考察すると、容器内には定常的に
磁界強度が弱く、このためにワーキングピースの
運動が活発でない不動作空間が部分的に存在して
いることが明らかになつた。
動するワーキングピースの動きを高速度カメラで
観察すると、ワーキングピースは強磁界領域では
激しくランダム運動するが、弱磁界領域ではワー
キングピースの動きが緩慢になることが認められ
た。この観察結果はそのまま実際に砕料の粉砕処
理を行つた場合にも当てはまり、実機運転テスト
からも、弱磁界領域に位置する処理容器１の四隅
では、粉砕動作が十分に進行せず、この部分に粒
度の大きな砕料がそのまま多く滞留していること
が認められる。つまり、第１図に示したこの種の
処理装置は、一見したところでは処理容器内の全
域で処理動作が均一に行われているかのように見
えるが、厳密に考察すると、容器内には定常的に
磁界強度が弱く、このためにワーキングピースの
運動が活発でない不動作空間が部分的に存在して
いることが明らかになつた。
一方、上記装置の処理動作中は、処理容器内部
でのワーキングピースと砕料等の被処理物とが激
しく衝突、こすり合うことに加え、容器との間で
も衝突、こすり合いがくり返し行われることか
ら、この動作による摩擦熱が生じて処理容器自
身、およびその内部温度がかなり昇温することが
認められている。このために処理容器の熱変形、
寿命低下を来たす恐れがあるし、また被粉砕物、
被混合物等の種類によつては、高温にさらされて
変質してしまうものもあり、このような場合には
できるだけ処理容器、およびその内部の熱放散を
助成し、過度な温度上昇を抑制することが必要と
なる。かかる点、従来装置では、一般にブロア等
を用いて処理容器の周域に冷却風を強制的に送
り、冷却を図つているが、この方式では処理容器
を十分冷却することができても、その内部に収容
されている被処理物に対する十分な冷却を行うこ
とができないため、この点の改善策が望まれてい
る。他方、特別な例として種類の異なる液体の撹
拌を高温度の下で行うのが好ましい場合がある。
この場合には処理容器の周囲に熱風で送風するこ
とで対処していたが、しかし処理容器内の中央域
にまで十分に熱を与えることが困難である。
でのワーキングピースと砕料等の被処理物とが激
しく衝突、こすり合うことに加え、容器との間で
も衝突、こすり合いがくり返し行われることか
ら、この動作による摩擦熱が生じて処理容器自
身、およびその内部温度がかなり昇温することが
認められている。このために処理容器の熱変形、
寿命低下を来たす恐れがあるし、また被粉砕物、
被混合物等の種類によつては、高温にさらされて
変質してしまうものもあり、このような場合には
できるだけ処理容器、およびその内部の熱放散を
助成し、過度な温度上昇を抑制することが必要と
なる。かかる点、従来装置では、一般にブロア等
を用いて処理容器の周域に冷却風を強制的に送
り、冷却を図つているが、この方式では処理容器
を十分冷却することができても、その内部に収容
されている被処理物に対する十分な冷却を行うこ
とができないため、この点の改善策が望まれてい
る。他方、特別な例として種類の異なる液体の撹
拌を高温度の下で行うのが好ましい場合がある。
この場合には処理容器の周囲に熱風で送風するこ
とで対処していたが、しかし処理容器内の中央域
にまで十分に熱を与えることが困難である。
この発明は上記の点にかんがみなされたもので
あり、その目的は粉砕、混合等の処理性能を殆ど
損うことなしに、処理容器内の作用空間の冷却な
いしは必要に応じての加熱を効果的に行えるよう
にした電磁式粉砕混合等処理装置を得ることにあ
る。
あり、その目的は粉砕、混合等の処理性能を殆ど
損うことなしに、処理容器内の作用空間の冷却な
いしは必要に応じての加熱を効果的に行えるよう
にした電磁式粉砕混合等処理装置を得ることにあ
る。
かかる目的は、この発明により、移動磁界発生
装置の極ピツチ間隔に対応して処理容器内に定常
的に生じる各弱磁界領域を設置箇所としてここに
容器内部を仕切る二重仕切壁を設け、この二重仕
切壁の壁と壁との間に処理容器を横切る冷却ある
いは加熱体流通路を画成したことにより達成され
る。
装置の極ピツチ間隔に対応して処理容器内に定常
的に生じる各弱磁界領域を設置箇所としてここに
容器内部を仕切る二重仕切壁を設け、この二重仕
切壁の壁と壁との間に処理容器を横切る冷却ある
いは加熱体流通路を画成したことにより達成され
る。
以下この発明を図示実施例に基づき詳述する。
まず第４図および第５図において、リニアモー
タ４，５の巻線１に付した符号Ｕ，Ｖ，Ｗ，
U′，V′，W′は三相交流巻線の電流方向と相順を
表わしている。そして同相の巻線が上下で対向す
るＢ領域では、リニアモータ４と５の磁界が互に
打ち消し合うように作用するので、第３図で述べ
たように該部に定常的な弱磁界領域が生じる。ま
たこの弱磁界領域はリニアモータの極ピツチＰの
間隔ごとに生成される。ところでこの発明によ
り、上記の弱磁界領域を占有するように位置を合
わせて、この部分に処理容器１の内部を移動磁界
方向φ１，φ２に沿つて区分するような二重の仕
切壁８Ａと８Ｂからなる中仕切壁８が設置してあ
り、この二重仕切８Ａと８Ｂの間に容器１の内部
を横切る断面巾ｄの通風路９が画成されている。
そして冷却媒体としての冷却風が第５図のように
側方よりブロア１０によつて強制送風され、処理
容器内部の発生熱を効率よく除熱する。また特別
な処理の場合として、処理容器１内部の作動空間
を高温に保つ必要のある場合には、前記の冷却風
の代りに熱風を送り込めばよい。なお冷却、加熱
媒体は気体に限るものではなく、液体であつても
よい。この場合には、前記の通路９に外部の熱媒
液ラインが接続配管される。また通路９に面する
仕切壁８Ａと８Ｂにフインを設けておくことによ
り一層の熱交換効率の向上が図れる。しかも前記
の二重壁構造の中仕切壁８は弱磁界領域Ｂ、つま
り粉砕、混合等の処理動作が殆ど有効に働かない
非動作空間部分に設けてあるので、いささかも処
理動作、性能を損うこともないし、加えて粉砕処
理の場合には、仕切壁で仕切られた処理室の作動
空間はすべて強磁界領域となるので、室内の四隅
に砕料が未粉砕のまま停滞することもなくなり、
より一層の性能向上の利点が得られる。
タ４，５の巻線１に付した符号Ｕ，Ｖ，Ｗ，
U′，V′，W′は三相交流巻線の電流方向と相順を
表わしている。そして同相の巻線が上下で対向す
るＢ領域では、リニアモータ４と５の磁界が互に
打ち消し合うように作用するので、第３図で述べ
たように該部に定常的な弱磁界領域が生じる。ま
たこの弱磁界領域はリニアモータの極ピツチＰの
間隔ごとに生成される。ところでこの発明によ
り、上記の弱磁界領域を占有するように位置を合
わせて、この部分に処理容器１の内部を移動磁界
方向φ１，φ２に沿つて区分するような二重の仕
切壁８Ａと８Ｂからなる中仕切壁８が設置してあ
り、この二重仕切８Ａと８Ｂの間に容器１の内部
を横切る断面巾ｄの通風路９が画成されている。
そして冷却媒体としての冷却風が第５図のように
側方よりブロア１０によつて強制送風され、処理
容器内部の発生熱を効率よく除熱する。また特別
な処理の場合として、処理容器１内部の作動空間
を高温に保つ必要のある場合には、前記の冷却風
の代りに熱風を送り込めばよい。なお冷却、加熱
媒体は気体に限るものではなく、液体であつても
よい。この場合には、前記の通路９に外部の熱媒
液ラインが接続配管される。また通路９に面する
仕切壁８Ａと８Ｂにフインを設けておくことによ
り一層の熱交換効率の向上が図れる。しかも前記
の二重壁構造の中仕切壁８は弱磁界領域Ｂ、つま
り粉砕、混合等の処理動作が殆ど有効に働かない
非動作空間部分に設けてあるので、いささかも処
理動作、性能を損うこともないし、加えて粉砕処
理の場合には、仕切壁で仕切られた処理室の作動
空間はすべて強磁界領域となるので、室内の四隅
に砕料が未粉砕のまま停滞することもなくなり、
より一層の性能向上の利点が得られる。
次に前記実施例の応用実施例を第６図に示す。
この実施例はリニアモータ４，５の極ピツチＰよ
りも多少短かい寸法で構成された各独立した複数
個の箱形処理容器１′をリニアモータ４，５に沿
つて相互に間隔ｄを隔てて相並べ、かつ各容器
１′の相互を上下に配した非磁性の連結板１１と
１２との間に連結したものであり、かつ隣接し合
う容器１′と上下の連結板１１，１２とで囲まれ
た断面巾ｄの空間がリニアモータ４と５の間の磁
場空間における定常的な弱磁界領域Ｂに対応位置
するように定めてある。そして容器相互間に画成
された空間９′が冷却あるいは加熱媒体流通路と
して用いられる。
この実施例はリニアモータ４，５の極ピツチＰよ
りも多少短かい寸法で構成された各独立した複数
個の箱形処理容器１′をリニアモータ４，５に沿
つて相互に間隔ｄを隔てて相並べ、かつ各容器
１′の相互を上下に配した非磁性の連結板１１と
１２との間に連結したものであり、かつ隣接し合
う容器１′と上下の連結板１１，１２とで囲まれ
た断面巾ｄの空間がリニアモータ４と５の間の磁
場空間における定常的な弱磁界領域Ｂに対応位置
するように定めてある。そして容器相互間に画成
された空間９′が冷却あるいは加熱媒体流通路と
して用いられる。
以上述べたようにこの発明は、従来では処理動
作に殆ど有効に働いてない弱磁界領域の不動作空
間部分を利用してここに容器を貫通する冷却ある
いは加熱媒体流通路を設けたものであり、したが
つて処理性能を損うことなしに処理容器内部空間
の効果的な冷却あるいは加熱を容易に達成できる
実用的効果が得られる。
作に殆ど有効に働いてない弱磁界領域の不動作空
間部分を利用してここに容器を貫通する冷却ある
いは加熱媒体流通路を設けたものであり、したが
つて処理性能を損うことなしに処理容器内部空間
の効果的な冷却あるいは加熱を容易に達成できる
実用的効果が得られる。
第１図は従来における電磁式処理装置の構成原
理図、第２図は第１図の矢視−断面図、第３
図は第１図における処理容器内の磁界強度の分布
を模型的に表わした磁界分布図、第４図はこの発
明の一実施例の構成断面図、第５図は第４図にお
ける矢視−断面図、第６図は第４図と異なる
実施例の処理容器の構成断面図である。 １……処理容器、２……被処理物、３……ワー
キングピース、４，５……移動磁界発生装置、８
……二重仕切壁、９，９′……冷却、加熱媒体流
通路、φ１，φ２……移動磁界の移動方向、Ｐ…
…極ピツチ、Ａ……強磁界領域、Ｂ……弱磁界領
域。
理図、第２図は第１図の矢視−断面図、第３
図は第１図における処理容器内の磁界強度の分布
を模型的に表わした磁界分布図、第４図はこの発
明の一実施例の構成断面図、第５図は第４図にお
ける矢視−断面図、第６図は第４図と異なる
実施例の処理容器の構成断面図である。 １……処理容器、２……被処理物、３……ワー
キングピース、４，５……移動磁界発生装置、８
……二重仕切壁、９，９′……冷却、加熱媒体流
通路、φ１，φ２……移動磁界の移動方向、Ｐ…
…極ピツチ、Ａ……強磁界領域、Ｂ……弱磁界領
域。
Claims (1)
- １ 磁性材あるいは非磁性導電材で作られた多数
のワーキングピースが収容された処理容器と、こ
の処理容器を中央に挾んでその両側に対向配置さ
れたその磁界の移動方向が互に逆向きな一対の移
動磁界発生装置とからなり、移動磁界との相互作
用に基づく電磁力で処理容器内に生起するワーキ
ングピースのランダム運動により、処理容器に収
容した被処理物の粉砕、混合等の処理を行うもの
において、前記移動磁界発生装置の極ピツチ間隔
に対応して処理容器内に定常的に生じる各弱磁界
領域を設置箇所としてここに容器内部を仕切る二
重仕切壁を設け、この二重仕切壁の壁と壁との間
に処理容器を横切る冷却あるいは加熱体流通路を
画成したことを特徴とする電磁式粉砕混合等処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15534982A JPS5946149A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 電磁式粉砕混合等処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15534982A JPS5946149A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 電磁式粉砕混合等処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5946149A JPS5946149A (ja) | 1984-03-15 |
| JPS628221B2 true JPS628221B2 (ja) | 1987-02-21 |
Family
ID=15603943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15534982A Granted JPS5946149A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 電磁式粉砕混合等処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5946149A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2533903B2 (ja) * | 1988-02-08 | 1996-09-11 | 日本電信電話株式会社 | 直流補償回路 |
-
1982
- 1982-09-07 JP JP15534982A patent/JPS5946149A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5946149A (ja) | 1984-03-15 |
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