JPS6284085A - 1,4―ジヒドロ―4―オキソナフチリジン誘導体またはその塩 - Google Patents
1,4―ジヒドロ―4―オキソナフチリジン誘導体またはその塩Info
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- JPS6284085A JPS6284085A JP60225515A JP22551585A JPS6284085A JP S6284085 A JPS6284085 A JP S6284085A JP 60225515 A JP60225515 A JP 60225515A JP 22551585 A JP22551585 A JP 22551585A JP S6284085 A JPS6284085 A JP S6284085A
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、一般式
で表わされる1、4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジ
ン誘導体およびその塩に関する。
ン誘導体およびその塩に関する。
従来、ナフチリジン系合成抗菌剤としてナリジクス酸が
広く用いられているが、抗菌スペクトルおよび吸収面に
おいて未だ不十分であり、とりわけダラム陽性菌感染症
や難治性疾患である緑膿菌感染症の治療に対する効果は
満点すべきものではなかった。
広く用いられているが、抗菌スペクトルおよび吸収面に
おいて未だ不十分であり、とりわけダラム陽性菌感染症
や難治性疾患である緑膿菌感染症の治療に対する効果は
満点すべきものではなかった。
ダラム陽性菌およびダラム陰性菌、とりわけ抗生物質耐
性勇に対して強力な抗菌作用を示し、かつ安全性が高い
ナフチリジン系合成抗菌剤が求められていた。
性勇に対して強力な抗菌作用を示し、かつ安全性が高い
ナフチリジン系合成抗菌剤が求められていた。
このような状況下において1本発明者らは鋭意研究を行
った結果、一般式[I]で表わされる1、4−ジヒドロ
−4−オキソナフチリジン誘導体およびその塩が上記の
目的を達成することを見出し。
った結果、一般式[I]で表わされる1、4−ジヒドロ
−4−オキソナフチリジン誘導体およびその塩が上記の
目的を達成することを見出し。
本発明を完成するに至った。
本明細jにおいて、特にことわらない限り、ノへロゲン
原子とは、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
、ヨウ素原子などを;アルカンスルホニルオキシ基とは
、たトエば、メタンスルホニルオキシ基などを;アレー
ンスルホニルオキシ基とは、タトえば、p−)ルエシス
ルホニルオキシ基などをそれぞれ意味する。
原子とは、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
、ヨウ素原子などを;アルカンスルホニルオキシ基とは
、たトエば、メタンスルホニルオキシ基などを;アレー
ンスルホニルオキシ基とは、タトえば、p−)ルエシス
ルホニルオキシ基などをそれぞれ意味する。
そして、種々の用語中に、たとえば、ノ10ゲン。
アルカンスルホニルオキシ、アレーンスルホニルオキシ
などの用語を有する場合も、特にことわらない限す上述
した意味を示す。
などの用語を有する場合も、特にことわらない限す上述
した意味を示す。
以下1本発明化合物を詳説する。
本発明化合・物は次の一般式[I]で表わされる。
(以下余白)
一般式[I]の化合物およびその塩において、R1のカ
ルボキシル保持基としては、たとえば、接触還元、化学
的還元もしくはその他の緩和な条件で処理することによ
り脱離するエステル形成基、または生体内において容易
に脱離するエステル形成基、または水もしくはアルコー
ルで処理することにより容易に脱離する有機シリル基、
有機リン基もしくはi8!スズ基など、その他の糧々の
公知のエステル形成基が挙げられる。
ルボキシル保持基としては、たとえば、接触還元、化学
的還元もしくはその他の緩和な条件で処理することによ
り脱離するエステル形成基、または生体内において容易
に脱離するエステル形成基、または水もしくはアルコー
ルで処理することにより容易に脱離する有機シリル基、
有機リン基もしくはi8!スズ基など、その他の糧々の
公知のエステル形成基が挙げられる。
これらのカルボキシル保護基のうち、好適な保!1基と
しては、たとえば、特開昭59−80665号に記載さ
れたカルボキシル保護基が挙げられる。
しては、たとえば、特開昭59−80665号に記載さ
れたカルボキシル保護基が挙げられる。
R2はハロゲン原子または置換されていてもよい環状ア
ミノ基を示すが、ハロゲン原子としては、たとえば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられ、また環状ア
ミン基としては、該環を形成する異項原子として1つ以
上の窒素原子のほかに。
ミノ基を示すが、ハロゲン原子としては、たとえば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられ、また環状ア
ミン基としては、該環を形成する異項原子として1つ以
上の窒素原子のほかに。
さらに1つ以上の酸累原子を含んでいてもよい5員ま゛
たは6員環状アミノ基、たとえば、1−ピロリジニル、
ピペリジノ、1−ピペラジニル、モルホリノなどが挙げ
られる。上記した環状アミン基は、アルキル基、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチ/Lz、See、−ブチル、 t
ert、−ブチルなどのC1−+4アルキル基;アミノ
基;アミノアルキル基、たとえば、アミノメチル、2−
アミノエチル、3−アミノプロピルなどのアミノC1〜
4アルキル基;ヒドロキシアルキル基、たとえば、ヒド
ロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
プロピルなどのヒドロキシ−01〜4アルキル基;ヒド
ロキ/ル基;アルケニル基、たとえば、ビニル、アリル
などのC2〜4アルケニル基;アシル基、たとえば、ホ
ルミル、アセチル、グロピオニル、ブチリルなどのC1
〜4アシル基;トリフルオロアセチル基;アルキルアミ
ノ基、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プ
ロピルアミノ−インプロビルアミノなどのC1〜4アル
キルアミノ基;ジアルキルアミノ基、たとえば、ジメチ
ルアミノ。
たは6員環状アミノ基、たとえば、1−ピロリジニル、
ピペリジノ、1−ピペラジニル、モルホリノなどが挙げ
られる。上記した環状アミン基は、アルキル基、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチ/Lz、See、−ブチル、 t
ert、−ブチルなどのC1−+4アルキル基;アミノ
基;アミノアルキル基、たとえば、アミノメチル、2−
アミノエチル、3−アミノプロピルなどのアミノC1〜
4アルキル基;ヒドロキシアルキル基、たとえば、ヒド
ロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
プロピルなどのヒドロキシ−01〜4アルキル基;ヒド
ロキ/ル基;アルケニル基、たとえば、ビニル、アリル
などのC2〜4アルケニル基;アシル基、たとえば、ホ
ルミル、アセチル、グロピオニル、ブチリルなどのC1
〜4アシル基;トリフルオロアセチル基;アルキルアミ
ノ基、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プ
ロピルアミノ−インプロビルアミノなどのC1〜4アル
キルアミノ基;ジアルキルアミノ基、たとえば、ジメチ
ルアミノ。
ジエチルアミノ、ジ−n−プロピルアミン、メチルエチ
ルアミノなどのジ−01〜4アルキルアミノ基;シアノ
基;オキソ基;アルアルキルアミノ基。
ルアミノなどのジ−01〜4アルキルアミノ基;シアノ
基;オキソ基;アルアルキルアミノ基。
たとえば、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ。
トリチルアミノなどのアル−C1〜4アルキルアミノ基
;アシルアミノ基、たとえば、ホルミルアミノ、アセチ
ルアミノ、グロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、te
rt、−ブトキシカルボニルアミノなどのC1〜4アシ
ルアミノ基;アルコキシカルボニル基、たとえば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシ
カルボニル、インプロポキシカルボニル、 tert、
−ブトキシカルボニルナトの01〜4アルコキシカルボ
ニル基;N−7フルーN−アルキルアミノ基、たとえば
、上記と同様のアルキルアミノ基の窒素原子がアシル基
、たとえば、アセチル、プロピオニル、ブチリルなどの
C1〜4アシル基で置換されているN−アシル−N−ア
ルキルアミノ基などから選ばれる1つ以上の置換基で置
換されていてもよい。
;アシルアミノ基、たとえば、ホルミルアミノ、アセチ
ルアミノ、グロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、te
rt、−ブトキシカルボニルアミノなどのC1〜4アシ
ルアミノ基;アルコキシカルボニル基、たとえば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシ
カルボニル、インプロポキシカルボニル、 tert、
−ブトキシカルボニルナトの01〜4アルコキシカルボ
ニル基;N−7フルーN−アルキルアミノ基、たとえば
、上記と同様のアルキルアミノ基の窒素原子がアシル基
、たとえば、アセチル、プロピオニル、ブチリルなどの
C1〜4アシル基で置換されているN−アシル−N−ア
ルキルアミノ基などから選ばれる1つ以上の置換基で置
換されていてもよい。
R3は置換されていてもよいアリールまたは複素環式基
を示すが、アリール基としては、たとえば。
を示すが、アリール基としては、たとえば。
フェニル、ナフチルなど;複素環式基としては。
酸素、窒素および硫黄原子から選ばれる1つ以上の異項
原子を含む5員または6員環またはそれらの縮合環、た
とえば、フリル、ピロリル、チェニル、オキサシリル、
イミダゾリル、チアゾリル。
原子を含む5員または6員環またはそれらの縮合環、た
とえば、フリル、ピロリル、チェニル、オキサシリル、
イミダゾリル、チアゾリル。
ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、モルホリ
ノなどの基が挙げられる。これらのアリール基および複
素環式基は、ハロゲン原子;アルキル基、たとえば、メ
チル、エチル、イソプロピル。
ノなどの基が挙げられる。これらのアリール基および複
素環式基は、ハロゲン原子;アルキル基、たとえば、メ
チル、エチル、イソプロピル。
tert、−ブチル、ペンチル、オクチルなどのC1〜
1゜ノアルキル基;保護されていてもよいヒドロキシル
基;アルコキシ基、たとえば、メトキシ、エトキシ、イ
ンプロポキシ、tert、−ブトキシ、ペンチルオキシ
、オクチルオキシなどのC1〜10のアルコキシ基;シ
アノ基;アミノ基;アシル基、たとえば、ホルミル、ア
セチル、グロピオニル、ブチリルなどのC1〜4アシル
基;アルアルキル基1.たとえば、ベンジル、フェネチ
ルなどから選ばれる1つ以上の置換基で置換されていて
もよい。
1゜ノアルキル基;保護されていてもよいヒドロキシル
基;アルコキシ基、たとえば、メトキシ、エトキシ、イ
ンプロポキシ、tert、−ブトキシ、ペンチルオキシ
、オクチルオキシなどのC1〜10のアルコキシ基;シ
アノ基;アミノ基;アシル基、たとえば、ホルミル、ア
セチル、グロピオニル、ブチリルなどのC1〜4アシル
基;アルアルキル基1.たとえば、ベンジル、フェネチ
ルなどから選ばれる1つ以上の置換基で置換されていて
もよい。
Aはハロゲン原子、ヒドロキシル、アルカンスルホニル
オキシまたはアレーンスルホニルオキシ基で置換されて
いてもよい低級アルキレン、イミノ、低級アルキルイミ
ノまたは低級アルケニ/+4を示すが、低級アルキレン
としては、たとえば。
オキシまたはアレーンスルホニルオキシ基で置換されて
いてもよい低級アルキレン、イミノ、低級アルキルイミ
ノまたは低級アルケニ/+4を示すが、低級アルキレン
としては、たとえば。
メチレン、エチVン、プロピレンなどのC1〜4アルキ
レン基;低級アルキルイミノとしては、たとえば、メチ
ルイミノなどの01〜4アルキルイミノ基:低級アルケ
ニレンとしては、たとえば、ビニレン、プロピレンなど
のC2〜4アルケニレン基などが挙げられる。
レン基;低級アルキルイミノとしては、たとえば、メチ
ルイミノなどの01〜4アルキルイミノ基:低級アルケ
ニレンとしては、たとえば、ビニレン、プロピレンなど
のC2〜4アルケニレン基などが挙げられる。
一般式[I]の化合物の塩としては1通常知られている
アミノ基などの塩基性基またはヒドロキシル基もしくは
カルボキシル基などの酸性基における塩を挙げることが
できる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸
、硫酸などの鉱酸との塩:ギ酸、トリクロロ酢酸、トリ
フルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスル
ホン酸。
アミノ基などの塩基性基またはヒドロキシル基もしくは
カルボキシル基などの酸性基における塩を挙げることが
できる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸
、硫酸などの鉱酸との塩:ギ酸、トリクロロ酢酸、トリ
フルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスル
ホン酸。
P−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などの
スルホン酸との塩を、e性基における塩としては、たと
えば、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩
;カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属と
の塩;アンモニウム塩;プロ力イン、ジベンジルアミン
、N−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフエナ
ミン、N。
スルホン酸との塩を、e性基における塩としては、たと
えば、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩
;カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属と
の塩;アンモニウム塩;プロ力イン、ジベンジルアミン
、N−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフエナ
ミン、N。
N−ジベンジルエチレンジアミン、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N、
N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メ
チルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルア
ミンなどの含窒素有機塩基との塩を挙げることができる
。
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N、
N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メ
チルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルア
ミンなどの含窒素有機塩基との塩を挙げることができる
。
また、一般式[I]の化合物およびその塩において、異
性体Cたとえば、、光学異性体、幾何異性体。
性体Cたとえば、、光学異性体、幾何異性体。
互変異性体など)が存在する場合1本発明は、それらす
べての異性体を包含し、またすべての結晶形および水和
物におよぶものである。
べての異性体を包含し、またすべての結晶形および水和
物におよぶものである。
つぎに本発明化合物の製造法について述べる。
本発明化合物を製造する方法としては自体公知の方法が
挙げられるが、以下代表的製造方法に関して詳説する。
挙げられるが、以下代表的製造方法に関して詳説する。
本発明化合物は、たとえば、以下の製造ルートに従って
製造することができる。
製造することができる。
c以下余白)
製造ルート
一般式〔I&〕、〔Ib〕、(Ia:]および〔■〕の
化合物の塩としては、一般式〔I〕の化合物の塩として
挙げられたものと同様の塩が挙げられる。
化合物の塩としては、一般式〔I〕の化合物の塩として
挙げられたものと同様の塩が挙げられる。
(1) 一般式(II)の化合物またはその塩は、特
開昭57−72981号、特開昭58−74638号お
よび特開昭58−74667号などに記載の方法に準じ
て製造された一般式(II)の化金物に、無水酢酸中、
オルトギ酸エチルまたはオルトギ酸メチルを反応させた
後、一般式%式%[1 (R3およびAIは前記と同様の意味を有する)で表わ
されるアミン類を反応させることによって得られる。
開昭57−72981号、特開昭58−74638号お
よび特開昭58−74667号などに記載の方法に準じ
て製造された一般式(II)の化金物に、無水酢酸中、
オルトギ酸エチルまたはオルトギ酸メチルを反応させた
後、一般式%式%[1 (R3およびAIは前記と同様の意味を有する)で表わ
されるアミン類を反応させることによって得られる。
この反応に使用される溶媒としては1反応に不活性な溶
媒であれば特に限定されないが、た、!Iば、ベンゼン
、トルエン、キシレン々どの芳香族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジメチルセロソルブなどの
エーテル類;メタノール、エタノール、プロパツールな
どのアルコール類;塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;N、N−ジメ
チルホルムアミド、N。
媒であれば特に限定されないが、た、!Iば、ベンゼン
、トルエン、キシレン々どの芳香族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジメチルセロソルブなどの
エーテル類;メタノール、エタノール、プロパツールな
どのアルコール類;塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;N、N−ジメ
チルホルムアミド、N。
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これ
らの溶媒を2種以上混合して使用してもよい。オルトギ
酸エチルまたはオルトギ酸メチルの使用量は、一般式〔
■〕の化合物に対して等モル以上、とりわけ約1〜10
倍モルが好ましい。本反応は通常O〜150℃、好まし
くは、50〜150℃で行われ、反応時間は、通常20
分〜50時間、好ましくは、1〜3時間である。ついで
、一般式[IV]のアミン類を反応させるには、該アミ
ン類を一般式[I[]の化合物に対して等モルもしくは
等モル以上使用し1通常O〜100℃、好ましくは、1
0〜60℃で1通常20分〜30時間、好ましくは、1
〜5時間反応させる。
ルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これ
らの溶媒を2種以上混合して使用してもよい。オルトギ
酸エチルまたはオルトギ酸メチルの使用量は、一般式〔
■〕の化合物に対して等モル以上、とりわけ約1〜10
倍モルが好ましい。本反応は通常O〜150℃、好まし
くは、50〜150℃で行われ、反応時間は、通常20
分〜50時間、好ましくは、1〜3時間である。ついで
、一般式[IV]のアミン類を反応させるには、該アミ
ン類を一般式[I[]の化合物に対して等モルもしくは
等モル以上使用し1通常O〜100℃、好ましくは、1
0〜60℃で1通常20分〜30時間、好ましくは、1
〜5時間反応させる。
また、別法として、一般式[Ir〕の化合物に、N、N
−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールまたはN、
N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタールなどのア
セタール類を反応させた後、一般式[IV]のアミン類
を反応させて、一般式■]の化合物またはその塩へと導
くことができる。
−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールまたはN、
N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタールなどのア
セタール類を反応させた後、一般式[IV]のアミン類
を反応させて、一般式■]の化合物またはその塩へと導
くことができる。
この反応に使用される溶媒としては1反応に不活性な溶
媒であれば特に限定されないが、具体的には前述と同様
の溶媒が挙げられる。アセタール類の使用量は、一般式
[IDの化合!吻に対して等モル以上、とりわけ、約1
.0〜1.3倍モルが好ましい。本反応は通常0−10
0℃、好ましくは、50〜80℃で行われ1反応時間は
、通常20分〜50時間、好ましくは、1〜3時間であ
る。ついで、一般式[IV]のアミン類を反応させるに
は、該アミン類を一般式[II]の化合物に対して等モ
ルもしくは等モル以上使用し。
媒であれば特に限定されないが、具体的には前述と同様
の溶媒が挙げられる。アセタール類の使用量は、一般式
[IDの化合!吻に対して等モル以上、とりわけ、約1
.0〜1.3倍モルが好ましい。本反応は通常0−10
0℃、好ましくは、50〜80℃で行われ1反応時間は
、通常20分〜50時間、好ましくは、1〜3時間であ
る。ついで、一般式[IV]のアミン類を反応させるに
は、該アミン類を一般式[II]の化合物に対して等モ
ルもしくは等モル以上使用し。
通常O〜100℃、好ましくは、10〜60’Cで、通
常20分〜30時間、好ましくは、1〜5時間反厄させ
る。
常20分〜30時間、好ましくは、1〜5時間反厄させ
る。
(11)一般式rIa)の化合物またはその塩は、一般
式皿〕の化合物またはその塩を、塩基の存在下または不
存在下に閉環反応(好ましくは加熱下)に付すことによ
って得られる。この反応に使用される溶媒としては1反
応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、たとえ
ば、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類;ジオキサン、アニソール
、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルセ
ロソルブなどのエーテル類;ジメチルスルホキシドなど
のスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を2櫨
以上混合して使用してもよい。塩基としては、たとえば
、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウムter
t 、−ブトキシド、水素化ナトリウムなどが挙げられ
。
式皿〕の化合物またはその塩を、塩基の存在下または不
存在下に閉環反応(好ましくは加熱下)に付すことによ
って得られる。この反応に使用される溶媒としては1反
応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、たとえ
ば、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類;ジオキサン、アニソール
、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルセ
ロソルブなどのエーテル類;ジメチルスルホキシドなど
のスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を2櫨
以上混合して使用してもよい。塩基としては、たとえば
、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウムter
t 、−ブトキシド、水素化ナトリウムなどが挙げられ
。
その使用量は、一般式旧〕の化合物またはその塩に対し
て0.5〜5倍モルが好ましく1本反応は1通常20〜
160℃、好ましくは、80〜150℃で行われ1反応
時間は1通常5分〜30時間、好ましくは、5分〜5時
間である。
て0.5〜5倍モルが好ましく1本反応は1通常20〜
160℃、好ましくは、80〜150℃で行われ1反応
時間は1通常5分〜30時間、好ましくは、5分〜5時
間である。
(iii) 一般式[1b〕の化合物またはその塩は
、一般式[Ia〕の化合物またはその塩に、一般式%式
%[] (R2bはR2と同様の置換されていてもよい環状アミ
ノ基を示す)で表わされる環状アミン類またはその塩を
反応させることによって得られる。
、一般式[Ia〕の化合物またはその塩に、一般式%式
%[] (R2bはR2と同様の置換されていてもよい環状アミ
ノ基を示す)で表わされる環状アミン類またはその塩を
反応させることによって得られる。
この反応に使用される溶媒としては1反応に不活性な溶
媒であれば特に限定されないが、たとエバ、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メタノー
ル、エタノール、プロパツールなどのアルコール類;ジ
オキサン。
媒であれば特に限定されないが、たとエバ、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メタノー
ル、エタノール、プロパツールなどのアルコール類;ジ
オキサン。
テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテルなどのエーテル類;塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水
素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を
2種以上混合して使用してもよい。一般式[■の環状ア
ミン類またはその塩の使用量は。
ルジエチルエーテルなどのエーテル類;塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水
素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を
2種以上混合して使用してもよい。一般式[■の環状ア
ミン類またはその塩の使用量は。
一般式CI&]の化合物またはその塩に対して過剰量、
特に、2〜5倍モルが好ましく、その使用量が約1〜1
.3倍モルである場合、一般式Et&]の化合物または
その塩に対して等モル量の脱酸剤を使用すればよい。脱
酸剤としては、トリエチルアミン、1.8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]ウンデセーフ−エン(DBU)、カ
リウム tert。
特に、2〜5倍モルが好ましく、その使用量が約1〜1
.3倍モルである場合、一般式Et&]の化合物または
その塩に対して等モル量の脱酸剤を使用すればよい。脱
酸剤としては、トリエチルアミン、1.8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]ウンデセーフ−エン(DBU)、カ
リウム tert。
−ブトキシド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム。
水素化す) IJウムなどの有機または無機塩基が挙げ
られる。本反応は1通常0〜150℃、好ましくは、2
0〜100℃で行われ1反応時間は、通常5分〜30時
間、好ましくは、30分〜10時間である。
られる。本反応は1通常0〜150℃、好ましくは、2
0〜100℃で行われ1反応時間は、通常5分〜30時
間、好ましくは、30分〜10時間である。
(1v)一般式〔■c〕の化合物またはその塩は一般式
[Ib〕の化合物またはその塩においてA1がヒドロキ
シル基で置換されている低級アルキレンである化合物ま
たはその塩をハロゲン化またはスルホニル化し、ついで
、Aがハロゲン原子またはアルカンスルホニルオキシも
しくはアレーンスルホニルオキシで置換されている低級
アルキレン基である化合物に誘導し、これを塩基と反応
させることにより得ることができる。このときR2bの
環状アミン基が1−ピペラジニル基である場合は、その
4位を、また該環状アミノ基が置換基としてアミノ基を
有する場合は、該アミノ基をそれぞれあらかじめアミノ
保護基として通常知られている保護基で保障しておくこ
とが好ましい。
[Ib〕の化合物またはその塩においてA1がヒドロキ
シル基で置換されている低級アルキレンである化合物ま
たはその塩をハロゲン化またはスルホニル化し、ついで
、Aがハロゲン原子またはアルカンスルホニルオキシも
しくはアレーンスルホニルオキシで置換されている低級
アルキレン基である化合物に誘導し、これを塩基と反応
させることにより得ることができる。このときR2bの
環状アミン基が1−ピペラジニル基である場合は、その
4位を、また該環状アミノ基が置換基としてアミノ基を
有する場合は、該アミノ基をそれぞれあらかじめアミノ
保護基として通常知られている保護基で保障しておくこ
とが好ましい。
溶媒としては1反応に不活性な溶媒であれば特に限定さ
れないが、たとえば、前述したと同様の溶媒が挙げられ
る。
れないが、たとえば、前述したと同様の溶媒が挙げられ
る。
ハロゲン化剤としては、たとえば、塩化チオニル、臭化
チオニルまたはオキシ塩化リンなどが挙げられ、またス
ルホニル化剤としては、たとえば、塩化メタンスルホニ
ル、塩化p−)ルエンスルホニルなどが挙げられる。
チオニルまたはオキシ塩化リンなどが挙げられ、またス
ルホニル化剤としては、たとえば、塩化メタンスルホニ
ル、塩化p−)ルエンスルホニルなどが挙げられる。
この反応は塩基の存在下または不存在下で行われるが、
塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウムなどの無機塩基;トリエチルアミン、ピリジンな
どの有機塩基が挙げられる。ハロゲン化剤またはスルホ
ニル化剤の使用量は、一般式[Ib〕の化合物またはそ
の塩に対して等モル以上、とりわけ約1〜10倍モルが
好ましい。本反応は1通常0〜150℃、好ましくは、
0〜80℃で行われ1反応時間は通常10〜20時間、
好ましくは、10分〜5時間である。
塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウムなどの無機塩基;トリエチルアミン、ピリジンな
どの有機塩基が挙げられる。ハロゲン化剤またはスルホ
ニル化剤の使用量は、一般式[Ib〕の化合物またはそ
の塩に対して等モル以上、とりわけ約1〜10倍モルが
好ましい。本反応は1通常0〜150℃、好ましくは、
0〜80℃で行われ1反応時間は通常10〜20時間、
好ましくは、10分〜5時間である。
ついで、ハロゲン化またはスルホニル化された一般式〔
Ib〕の化合物またはその塩を塩基と反応させる。ここ
で使用される塩基としては、たとえば、1.8−ジアザ
ビシクロ(5,4,0)つンデセー7一二ン(DBU)
、カリウムtert。
Ib〕の化合物またはその塩を塩基と反応させる。ここ
で使用される塩基としては、たとえば、1.8−ジアザ
ビシクロ(5,4,0)つンデセー7一二ン(DBU)
、カリウムtert。
−ブトキシド、水素化ナトリウムまたはリチウムジイソ
プロピルアミド(LPA)などが挙げられる。本反応に
使用される溶媒としては1反応に不活性な溶媒であれば
特に限定されないが、たとえば、前述したと同様の溶媒
が挙げられる。
プロピルアミド(LPA)などが挙げられる。本反応に
使用される溶媒としては1反応に不活性な溶媒であれば
特に限定されないが、たとえば、前述したと同様の溶媒
が挙げられる。
塩基の使用量は、ハロゲン化またはスルホニル化された
一般式[Ib〕の化合物またはその塩に対して等モル以
上、とりわけ1〜10倍モルが好ましい。本反応は1通
常O〜150℃、好ましくは、50〜120℃で行われ
1反応は通常1〜10時間、好ましくは1〜5時間であ
る。
一般式[Ib〕の化合物またはその塩に対して等モル以
上、とりわけ1〜10倍モルが好ましい。本反応は1通
常O〜150℃、好ましくは、50〜120℃で行われ
1反応は通常1〜10時間、好ましくは1〜5時間であ
る。
また、R2bの環状アミノ基が置換基としてアミノ基を
有する場合は、あらかじめ該アミノ基は通常のアミノ基
を保護する方法により保護しておくが、このアミノ基の
保護基としては、たとえば、アセチル基、トリチル基、
ジtart、−ブトキシカルボニル基、トリフルオロア
セチル基マタハペンジルオキシカルポニル基などがl’
られる。
有する場合は、あらかじめ該アミノ基は通常のアミノ基
を保護する方法により保護しておくが、このアミノ基の
保護基としては、たとえば、アセチル基、トリチル基、
ジtart、−ブトキシカルボニル基、トリフルオロア
セチル基マタハペンジルオキシカルポニル基などがl’
られる。
一般式[1a工[Ib:L [:Ic]または〔皿の化
合物もしくはそれらの塩においてR1のカルボキシル保
再基またはR2bのアミノ保護基は、所望に応じて加水
分解反応において用いられる通常の酸またはアルカリの
存在下に1通常θ〜110℃、好ましくは。
合物もしくはそれらの塩においてR1のカルボキシル保
再基またはR2bのアミノ保護基は、所望に応じて加水
分解反応において用いられる通常の酸またはアルカリの
存在下に1通常θ〜110℃、好ましくは。
20〜110℃で5分〜50時間、好ましくは。
5分〜5時間加水分解することにより、それぞれ対応す
るカルボキシル基またはアミノ基へ導くことができる。
るカルボキシル基またはアミノ基へ導くことができる。
さらに一般式[I&]、[Ib上〔IC〕または皿〕の
化合物もしくはそれらの塩は、所望に応じて、自体公知
の塩形成反応またはエステル化反応に付して、それぞれ
対応する化合物の塩またはエステルへ導くことができる
。
化合物もしくはそれらの塩は、所望に応じて、自体公知
の塩形成反応またはエステル化反応に付して、それぞれ
対応する化合物の塩またはエステルへ導くことができる
。
なお、一般式(1aL [:1b’L [Ic]または
[I[[]の化合物もしくはそれらの塩が1反応部位以
外に活性基(たとえば、ヒドロキシル基など)を有する
場合、あらかじめ活性基を常法に従って保護しておき1
反応終了後、その保S基を脱離してもよい。
[I[[]の化合物もしくはそれらの塩が1反応部位以
外に活性基(たとえば、ヒドロキシル基など)を有する
場合、あらかじめ活性基を常法に従って保護しておき1
反応終了後、その保S基を脱離してもよい。
以上のようにして得られた化合物は、カラムクロマトグ
ラフィー、再結晶、抽出などの通常の単離精製操作に付
してもよい。
ラフィー、再結晶、抽出などの通常の単離精製操作に付
してもよい。
一般式[I]において、R2がハロゲン原子である化合
物(一般式Cl1l]の化合物に相当する)は、 R2
が置換されていてもよい環状アミノ基である化合物を得
るための中間体としても有用である。
物(一般式Cl1l]の化合物に相当する)は、 R2
が置換されていてもよい環状アミノ基である化合物を得
るための中間体としても有用である。
本発明化合物を医薬として使用する場合1通常製剤化に
使用される担体な適宜用い、常法に従って1錠剤、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射剤などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状に応じて適宜選択することができ
1通常酸人に対しては、経口または非経口(たとえば、
注射投与1点滴、直腸部位への投与など)的投与により
、0.1〜1.00η/#7日を1〜数回に分割して投
与すればよい。
使用される担体な適宜用い、常法に従って1錠剤、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射剤などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状に応じて適宜選択することができ
1通常酸人に対しては、経口または非経口(たとえば、
注射投与1点滴、直腸部位への投与など)的投与により
、0.1〜1.00η/#7日を1〜数回に分割して投
与すればよい。
つぎに1本発明の代表的化合物についての抗菌作用を示
す。
す。
抗菌作用
試験方法
日本化学療法学会標準法〔ケモセラピイ−(CHEMO
T)(ERAPY )第29巻、第1号、第76〜79
頁(1981年)〕に従いハート インフェージ目ン
ブロス(Heart Infusion−broth)
(栄研化学社製)で37℃、20時間培養した菌液な薬
剤を含むハート インフユージ目ンアガー()(ear
t Jnfusion agar )培地(栄研化学社
製)に接mL、37℃で20時間培養した後、菌の発育
の有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもっ
てMICrμg/sd)とした。ただし、液洩菌量は1
04個/プv−)(10’個/−)とした。その結果を
表−1に示す。
T)(ERAPY )第29巻、第1号、第76〜79
頁(1981年)〕に従いハート インフェージ目ン
ブロス(Heart Infusion−broth)
(栄研化学社製)で37℃、20時間培養した菌液な薬
剤を含むハート インフユージ目ンアガー()(ear
t Jnfusion agar )培地(栄研化学社
製)に接mL、37℃で20時間培養した後、菌の発育
の有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもっ
てMICrμg/sd)とした。ただし、液洩菌量は1
04個/プv−)(10’個/−)とした。その結果を
表−1に示す。
c以下余白)
試験化合物
表 −1
注)*:ペニシリネース産生菌
**:セフ10スポリネース産生菌
〔実施例〕
つぎに1本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
。
。
なお、参考例および実施例で使用されている記号は下記
の意味を有する。
の意味を有する。
Me:メチル基、Et;エチル基、Acニアセチル基、
Tr ; )リチル基、 Boa ; tert、−ブ
トキシカルボニル基、△;メチレン基、大;イソプロピ
ル基1、N;ビニレン基、〜;エチレン基参考例 2.6−シクロロー5−フルオロニコチン[150tを
クロロホルム450mに溶解させ、塩化チオニル127
1およびN、N−ジメチルホルムアミド1.5fを加え
、加fIjp−還流下4時間反応させる。反応終了後、
減圧下に溶媒を留去する。
Tr ; )リチル基、 Boa ; tert、−ブ
トキシカルボニル基、△;メチレン基、大;イソプロピ
ル基1、N;ビニレン基、〜;エチレン基参考例 2.6−シクロロー5−フルオロニコチン[150tを
クロロホルム450mに溶解させ、塩化チオニル127
1およびN、N−ジメチルホルムアミド1.5fを加え
、加fIjp−還流下4時間反応させる。反応終了後、
減圧下に溶媒を留去する。
マロン酸ジエチル120tをトルエン1.051に溶解
させ、マグネシウムエトキシド90Fを加え、加熱還流
下1時間反応させ1反応終了後、−12〜−10℃に冷
却する。この溶液に先に調111Lり2.6−シクロロ
ー5−フルオロニコチン酸クロリドを−12〜−10’
Cで30分間を要して滴下し、同温度で30分間反広さ
せた後、徐々に室温まで昇温し、1時間反応させる。反
応終了後、水1.5ILを加え、濃塩酸でpH0,5に
調整し、有機層を分取する。水層なトルエン75dで抽
出し、得られた有機層を先の有機層と合し、水200d
で洗浄後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に
水377−およびp−トルエンスルホン酸1.11Fを
加えて、激しく撹拌し壜から加熱還流下5時間反応させ
る。反応終了後、クロロホルム300dを加え、有機層
を分取し、水100−および飽和食塩水100−で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物にn−へΦサン30
0−を加え、氷冷下で1時間攪拌した後、析出結晶を炉
取すれば、2.6−シクロロー5−フルオロニコチノイ
ル酢酸エチルエステル118F(収率60.0%)を得
る。
させ、マグネシウムエトキシド90Fを加え、加熱還流
下1時間反応させ1反応終了後、−12〜−10℃に冷
却する。この溶液に先に調111Lり2.6−シクロロ
ー5−フルオロニコチン酸クロリドを−12〜−10’
Cで30分間を要して滴下し、同温度で30分間反広さ
せた後、徐々に室温まで昇温し、1時間反応させる。反
応終了後、水1.5ILを加え、濃塩酸でpH0,5に
調整し、有機層を分取する。水層なトルエン75dで抽
出し、得られた有機層を先の有機層と合し、水200d
で洗浄後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に
水377−およびp−トルエンスルホン酸1.11Fを
加えて、激しく撹拌し壜から加熱還流下5時間反応させ
る。反応終了後、クロロホルム300dを加え、有機層
を分取し、水100−および飽和食塩水100−で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物にn−へΦサン30
0−を加え、氷冷下で1時間攪拌した後、析出結晶を炉
取すれば、2.6−シクロロー5−フルオロニコチノイ
ル酢酸エチルエステル118F(収率60.0%)を得
る。
融点;64〜65℃
I R(KB r )3−1 ;νc=o 1650.
1630.1620NMR(CDCla )δ値; 1.25(1,29H,t、J=7Hz)、 1−3
3(1,71H,t。
1630.1620NMR(CDCla )δ値; 1.25(1,29H,t、J=7Hz)、 1−3
3(1,71H,t。
J=7Hz)、 4.07(1,14H,s)、
4.28(2H,q。
4.28(2H,q。
J=7Hz)、 5.82(0,43H,a)、
7.80(IH,d。
7.80(IH,d。
J=7Hz)、 12.62(0,43H,S)実施
例1 2.6−ジpロロー5−フルオロニコチノイル酢酸エチ
ルエステル3.Of、無水酢酸4.37tおよびオルト
ギ酸エチル6.35fの混合物を加熱還流下1時間反応
させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた
浅留物をエタノール15−に溶解させ、m−フルオロベ
ンジルアミン1.389を加え、室温で1.5時間反応
させる。
例1 2.6−ジpロロー5−フルオロニコチノイル酢酸エチ
ルエステル3.Of、無水酢酸4.37tおよびオルト
ギ酸エチル6.35fの混合物を加熱還流下1時間反応
させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた
浅留物をエタノール15−に溶解させ、m−フルオロベ
ンジルアミン1.389を加え、室温で1.5時間反応
させる。
反応終了後、水冷下で30分間攪拌した後、析出結晶を
戸数すれば、2−(2,6−ジクロロ−5−フルオロニ
コチノイル)−3−(3−フルオロベンジルアミノ)ア
クリル酸エチルエステル4.1Of(収率92.2係)
を得る。
戸数すれば、2−(2,6−ジクロロ−5−フルオロニ
コチノイル)−3−(3−フルオロベンジルアミノ)ア
クリル酸エチルエステル4.1Of(収率92.2係)
を得る。
融点;137〜138℃(再結溶媒;メタノール)I
R(KB r )m−1;シc−o 169ONMR(
CDCla )δ値; 7Hz)、 6.80〜7.60(5H,m)、
8.05〜8.55(IH,m)、 10.90〜1
1.70(IH,m)同様にして1表−2に示す化合物
を得る。
R(KB r )m−1;シc−o 169ONMR(
CDCla )δ値; 7Hz)、 6.80〜7.60(5H,m)、
8.05〜8.55(IH,m)、 10.90〜1
1.70(IH,m)同様にして1表−2に示す化合物
を得る。
表−2
表−2(続)
表−2(続)
実施例2
2−<z、s−ジpロロー5−フルオロニコチノイル)
−3−(3−フルオロベンジルアミノ)アクリル酸エチ
ルエステル3.95?をN、N−ジメチルホルムアミド
20−に溶解させ、炭酸水素ナトリウム95Qqを加え
、120℃で2時間反応させる。反応終了後、水80−
を加え、室温で1時間撹拌した後、析出結晶を戸数すれ
ば。
−3−(3−フルオロベンジルアミノ)アクリル酸エチ
ルエステル3.95?をN、N−ジメチルホルムアミド
20−に溶解させ、炭酸水素ナトリウム95Qqを加え
、120℃で2時間反応させる。反応終了後、水80−
を加え、室温で1時間撹拌した後、析出結晶を戸数すれ
ば。
7−クロロ−6−フル万ロー1−(3−フルオロベンジ
ル)−x、4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチ
リジン−3−カルボン酸エチルエステル3.38t(収
率93.8e6)を得る。
ル)−x、4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチ
リジン−3−カルボン酸エチルエステル3.38t(収
率93.8e6)を得る。
融点;211〜212℃(再結溶媒;酢酸エチル)IR
(KI3r)crI@−1;シc−o 1695NMR
(CDCl2)δ値; 1.38(3H,t、J=7Hz)、 4.37(2
H,q、J=7Hz)、 5.52(2H,s)、
6.63〜7.565(4H,m)。
(KI3r)crI@−1;シc−o 1695NMR
(CDCl2)δ値; 1.38(3H,t、J=7Hz)、 4.37(2
H,q、J=7Hz)、 5.52(2H,s)、
6.63〜7.565(4H,m)。
8.40(IH,d、J−7,5Hz)、 8.65
(IH,a)同様にして1表−3に示す化合物を得る。
(IH,a)同様にして1表−3に示す化合物を得る。
c以下余白)
表−3
表−3(続)
表−3(続)
実施例3
3・−アミノピロリジン・2塩酸塩250qおよびトリ
エチルアミン530■をエタノール5−に溶苓させ、7
−クロロ−6−フルオロ−1−(3−フルオロベンジル
)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリ
ジン−3−カルボン酸エチルエステル500119を加
えた後、クロロホルム5−を加え均一溶液とし、室温で
5時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物にエタノール2dを加え、さらに水1
0−を加え、室温で30分間攪拌した後、析出結晶を炉
取すれば、7−(3−7ミ/−1−ビOIJジニル)−
6−フルオロ−1−(3−フルオロベンジル)−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸エチルエステル47011F(収率83.1
4)を得る。
エチルアミン530■をエタノール5−に溶苓させ、7
−クロロ−6−フルオロ−1−(3−フルオロベンジル
)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリ
ジン−3−カルボン酸エチルエステル500119を加
えた後、クロロホルム5−を加え均一溶液とし、室温で
5時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物にエタノール2dを加え、さらに水1
0−を加え、室温で30分間攪拌した後、析出結晶を炉
取すれば、7−(3−7ミ/−1−ビOIJジニル)−
6−フルオロ−1−(3−フルオロベンジル)−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸エチルエステル47011F(収率83.1
4)を得る。
融点;218〜225℃(分解)(再結溶媒;メタノー
ル)IR(KBr )ctft−1;νc=o 170
ONMR(DMSO−da)δ値; 1.28(3H,t、J=7Hz)、 1.95〜2
.15(2H,m)。
ル)IR(KBr )ctft−1;νc=o 170
ONMR(DMSO−da)δ値; 1.28(3H,t、J=7Hz)、 1.95〜2
.15(2H,m)。
3.35〜4.65(9H,m)、 5.52(2H
,s)、 6.90〜7.90(5H,m)、8.8
0(IH,s)同様にして1表−4に示す化合物を得る
。
,s)、 6.90〜7.90(5H,m)、8.8
0(IH,s)同様にして1表−4に示す化合物を得る
。
表−4
実施例4
fl17−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フ
ルオロ−1−[2−(4−フルオロフェニル)−2−ヒ
ドロキシ−1−エチル]−1.4−ジヒドロー4−オキ
ソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエス
テル2.0Ofをクロロホルム5−およびエタノール5
ゴの混合溶媒に溶解させ、水冷下で無水酢酸470Wを
加え。
ルオロ−1−[2−(4−フルオロフェニル)−2−ヒ
ドロキシ−1−エチル]−1.4−ジヒドロー4−オキ
ソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエス
テル2.0Ofをクロロホルム5−およびエタノール5
ゴの混合溶媒に溶解させ、水冷下で無水酢酸470Wを
加え。
室温で1時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にクロロホルム10m1.水1
0IR1および飽和炭酸水素す) IJウム水溶液1−
を加えて析出結晶を戸数すれば。
留去し、得られた残留物にクロロホルム10m1.水1
0IR1および飽和炭酸水素す) IJウム水溶液1−
を加えて析出結晶を戸数すれば。
7−(3−アセチルアミノ−1−ピロリジニル)−6−
フルオロ−1−[2−(4−フルオロフェニル)−2−
ヒドロキシ−1−エチル〕−1゜4−ジヒドロ−4−オ
キソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエ
ステル1.93f(収率88.4係)を得る。
フルオロ−1−[2−(4−フルオロフェニル)−2−
ヒドロキシ−1−エチル〕−1゜4−ジヒドロ−4−オ
キソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエ
ステル1.93f(収率88.4係)を得る。
融点;154〜155℃(再結溶媒;エタノール)IR
(KBr)cm−1;νc=o 172ONMR(DM
SO−ds)δ値: 1.23(3H,t、J=7)(z)、1.60〜2.
40(5H,m)。
(KBr)cm−1;νc=o 172ONMR(DM
SO−ds)δ値: 1.23(3H,t、J=7)(z)、1.60〜2.
40(5H,m)。
3.00〜5.25(IOH,m)、5.50〜6.2
0(IH,bs)。
0(IH,bs)。
6.85〜7.80(5H,m)、 8.10〜8.
60(,2H,m)同様にして次の化合物を得る。
60(,2H,m)同様にして次の化合物を得る。
0 7−(3−アセチルアミノ−1−ピロリジニル)−
6−フルオロ−1−[2−(2−フルオロフェニル)−
2−ヒドロキシ−1−エチルクー1,4−ジヒドロー4
−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチ
ルエステル融;145〜150℃ IR(KBr )Cffl−1;シc−o 1720(
216−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−[2−ヒド
ロキシ−2−(2−チェニル)−1−エチルクー4−オ
キソ−7−(l−ピペラジニル)−1,8−+フチリシ
ンー3−カルボン酸エチルエステル700ηを塩化メチ
レン7dに懸濁させ、水冷下にトリエチルアミン360
9および塩化トリフェニルメチル1.00 fを順次加
え。
6−フルオロ−1−[2−(2−フルオロフェニル)−
2−ヒドロキシ−1−エチルクー1,4−ジヒドロー4
−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチ
ルエステル融;145〜150℃ IR(KBr )Cffl−1;シc−o 1720(
216−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−[2−ヒド
ロキシ−2−(2−チェニル)−1−エチルクー4−オ
キソ−7−(l−ピペラジニル)−1,8−+フチリシ
ンー3−カルボン酸エチルエステル700ηを塩化メチ
レン7dに懸濁させ、水冷下にトリエチルアミン360
9および塩化トリフェニルメチル1.00 fを順次加
え。
室温で3時間反応させる。反応終了後、水1゜−を加え
、有機層を分取し、水10−および飽和食塩水10−で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
、有機層を分取し、水10−および飽和食塩水10−で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し。
得られた残留物にジエチルエーテル10−を加えて析出
結晶を戸数すれば、6−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−
1−〔2−ヒドロキシ−2−(2−チェニル)−1−エ
チル〕−4−オキソーフ−(4−トリチル−1−ピペラ
ジニル)−1゜8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチ
ルエステル980Wli(収率90.7係)を得る。
結晶を戸数すれば、6−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−
1−〔2−ヒドロキシ−2−(2−チェニル)−1−エ
チル〕−4−オキソーフ−(4−トリチル−1−ピペラ
ジニル)−1゜8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチ
ルエステル980Wli(収率90.7係)を得る。
融点;237〜241℃(再結溶媒;エタノール)I
R(KB r )6n−1;シc−o 1725. 1
69ONMR(CDC1a)δ値; 1.34(3H,t、J”7Hz)、2.15〜2.7
0(4H,m)。
R(KB r )6n−1;シc−o 1725. 1
69ONMR(CDC1a)δ値; 1.34(3H,t、J”7Hz)、2.15〜2.7
0(4H,m)。
3.7(1−4,70(8H,m)、 4.85〜5
.23(IH,m)。
.23(IH,m)。
5.31〜5.68(IH,m)、 6.80〜7.
70(19H,m)。
70(19H,m)。
8.48(IH,5)
f317−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−1−〔2−ヒドロキシ−2
−(2−チェニル)−1−エチル〕−4−オキンー1.
8−す7チリジンー3−カルボン酸エチルエステル98
0■を塩化メチレン10−に懸濁させ、水冷下トリエチ
ルアミン350■および重炭酸ジtert、−ブチル7
501NIを順次加え、室温で1.5時間反応させる。
ルオロ−1,4−ジヒドロ−1−〔2−ヒドロキシ−2
−(2−チェニル)−1−エチル〕−4−オキンー1.
8−す7チリジンー3−カルボン酸エチルエステル98
0■を塩化メチレン10−に懸濁させ、水冷下トリエチ
ルアミン350■および重炭酸ジtert、−ブチル7
501NIを順次加え、室温で1.5時間反応させる。
反応終了後、水冷下で塩化メチレン10−および水10
−を加え、2N−塩酸でpH2に調整する。
−を加え、2N−塩酸でpH2に調整する。
有機層を分取し、 N−塩酸5−1水10−および飽和
食塩水10dで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
にジイソプロピルエーテル10mを加えて析出結晶を戸
数すれば、7− (3−tart、−ブトキシカルボニ
ルアミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−1−〔2−ヒドロキシ−2−(2−チェニ
ル)−1−エチル〕−4−オキンー1,8−ナフチリジ
ン−3−カルボン酸エチルエステル910η(収率75
.296)を得る。
食塩水10dで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
にジイソプロピルエーテル10mを加えて析出結晶を戸
数すれば、7− (3−tart、−ブトキシカルボニ
ルアミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−1−〔2−ヒドロキシ−2−(2−チェニ
ル)−1−エチル〕−4−オキンー1,8−ナフチリジ
ン−3−カルボン酸エチルエステル910η(収率75
.296)を得る。
融点;134〜137℃
I R(KB r )m−1; l’c=o 1725
.1710NMR(CDC1a)δ値; 1.1:3−1.45(12H,m)、1.83〜2.
35(2H,m)。
.1710NMR(CDC1a)δ値; 1.1:3−1.45(12H,m)、1.83〜2.
35(2H,m)。
3.38〜4.44(8H,m)、4.73〜5.70
(3H,m)。
(3H,m)。
6.50(IH,ba)、6.84〜7.32(4H,
m)。
m)。
8.3MIH,8)
同様にして次の化合物を得る。
0 7− (3−tert、−ブトキシカルボニルアミ
ノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1−(2−7
エニルー2−ヒドロキシ−1−エチル)−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボ
ン酸エチルエステル融点;208〜209℃(再結溶媒
;イソプロパツール)I R(KB r )cWL−1
;シc=o1700(4)6−フルオロ−1,4−ジヒ
ドロ−1−C2−ヒドロキシ−2−(2−フリル)−1
−エチルツー4−オキソ−7−(1−ピペラジニル)−
1゜8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル
1.70tを塩化メチレン17wtに懸濁させ。
ノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1−(2−7
エニルー2−ヒドロキシ−1−エチル)−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボ
ン酸エチルエステル融点;208〜209℃(再結溶媒
;イソプロパツール)I R(KB r )cWL−1
;シc=o1700(4)6−フルオロ−1,4−ジヒ
ドロ−1−C2−ヒドロキシ−2−(2−フリル)−1
−エチルツー4−オキソ−7−(1−ピペラジニル)−
1゜8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル
1.70tを塩化メチレン17wtに懸濁させ。
水冷下でトリエチルアミン1.60fを加え、ついで無
水トリフルオロ酢酸1.66 tを20分間を要して滴
下し、同温度で30分間反応させる。
水トリフルオロ酢酸1.66 tを20分間を要して滴
下し、同温度で30分間反応させる。
反応終了後、氷冷下、水20−およびエタノール3dを
加え、有機層を分取し、N−塩酸10−1飽和炭酸水素
す) IJウム水溶液10m、水1〇−および飽和食塩
水10mで順次洗浄した後烏水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラ
ムクロマトグラフィー〔和光シリカゲルC−200,溶
出溶a:クロロホルム:エタノール=30:1(容量比
)〕で精製すれば、6−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−
1−〔2−ヒドロキシ−2−(2−フリル〕−1−エチ
ル〕−4−オキソ−7−(4−)リフルオロアセチル−
1−ピペラジニル)−1,8−ナフチリジン−3−カル
ボン酸エチルエステル1.25t(収率61.61りを
得る。
加え、有機層を分取し、N−塩酸10−1飽和炭酸水素
す) IJウム水溶液10m、水1〇−および飽和食塩
水10mで順次洗浄した後烏水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラ
ムクロマトグラフィー〔和光シリカゲルC−200,溶
出溶a:クロロホルム:エタノール=30:1(容量比
)〕で精製すれば、6−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−
1−〔2−ヒドロキシ−2−(2−フリル〕−1−エチ
ル〕−4−オキソ−7−(4−)リフルオロアセチル−
1−ピペラジニル)−1,8−ナフチリジン−3−カル
ボン酸エチルエステル1.25t(収率61.61りを
得る。
融点;242〜244℃(再結溶媒;エタノール)IR
(KBr )cWL−1;νc=o 1720. 16
85NMR(CDC13)δ値; 1.32(3H,t、J’=7Hz)、 3.50〜
4.37(IIH。
(KBr )cWL−1;νc=o 1720. 16
85NMR(CDC13)δ値; 1.32(3H,t、J’=7Hz)、 3.50〜
4.37(IIH。
m)、 4.90〜5.67(2H,r+)、 6
.20〜6.60(3H。
.20〜6.60(3H。
m)、 7.10〜7.56(2H,m)、 8.
52(IH,a)実施例5 +117−(3−アセチルアミノ−1−ピロリジニル)
−6−フルオロ−1−C2−(4−フルオロフェニル)
−2−ヒドロキシ−1−エチル〕−1.4−ジヒドロー
4−オキンー1.8−ナフチリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル1.001をクロロホルム10−に懸濁さ
せ、水冷下で塩化チオニル710119を加え、室温で
2.5時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をN、N−ジメチルホルムアミド
10−に溶解させ、1.8−ジアザビシクロ[5,4,
0]ウンデセ−7−二21.229を加え、90℃で1
時間反応させる。反応終了後。
52(IH,a)実施例5 +117−(3−アセチルアミノ−1−ピロリジニル)
−6−フルオロ−1−C2−(4−フルオロフェニル)
−2−ヒドロキシ−1−エチル〕−1.4−ジヒドロー
4−オキンー1.8−ナフチリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル1.001をクロロホルム10−に懸濁さ
せ、水冷下で塩化チオニル710119を加え、室温で
2.5時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をN、N−ジメチルホルムアミド
10−に溶解させ、1.8−ジアザビシクロ[5,4,
0]ウンデセ−7−二21.229を加え、90℃で1
時間反応させる。反応終了後。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にクロロホルム
15−および水5−を加え、有機層を分取する。水層を
さらにクロロホルム5−で2回抽出し、先の有機層と合
し、水5dおよび飽和食塩水5dで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和光
シリカゲルC−200,溶出溶媒;クロロホルム:エタ
ノール=30:1(容量比)〕で精製すれば、7−(3
−アセチルアミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ
−1−[2−(4−フルオロフェニル)ビニル]−1.
4−ジヒドロー4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3
−カルボン酸エチルエステル900ff (収率93.
34)を得る。
15−および水5−を加え、有機層を分取する。水層を
さらにクロロホルム5−で2回抽出し、先の有機層と合
し、水5dおよび飽和食塩水5dで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和光
シリカゲルC−200,溶出溶媒;クロロホルム:エタ
ノール=30:1(容量比)〕で精製すれば、7−(3
−アセチルアミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ
−1−[2−(4−フルオロフェニル)ビニル]−1.
4−ジヒドロー4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3
−カルボン酸エチルエステル900ff (収率93.
34)を得る。
融点;243〜244℃(再結溶媒;エタノール)I
R(KB r )cm−1;νc=o 1725NM
R(CDCl2)δ値; 1.30(3H,t、J=7Hz)、 1.90〜2
.50(5H,m)。
R(KB r )cm−1;νc=o 1725NM
R(CDCl2)δ値; 1.30(3H,t、J=7Hz)、 1.90〜2
.50(5H,m)。
3.40〜5.0O(7H,m)、 6.53(IH
,d、J=15Hz)。
,d、J=15Hz)。
6.90〜8.10(6H,m)、8.15〜8.60
(2H,m)同様にして表−5に示す化合物を得る。
(2H,m)同様にして表−5に示す化合物を得る。
(以下余白)
表−5
(2)6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−(2−ヒ
ドロキシ−2−(2−チェニル)−1−エチル〕−4−
オキソ−7−(4−トリーデ譬苓寒チルー1−ピペラジ
ニル)−1,8−ナスチリクン−3−カルボン酸エチル
エステル1.10fを塩化メチレン117!に溶解させ
、水冷下にトリエチルアミン59Qwjを加え、ついで
塩化メタンスルホニル600F7を5分間を要して滴下
し、同温度で1時間反応させる。反応終了後、減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチル20mおよ
び水20mを加え、有機層を分取し、水1(ldおよび
飽和食塩水10mjで順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させる。
ドロキシ−2−(2−チェニル)−1−エチル〕−4−
オキソ−7−(4−トリーデ譬苓寒チルー1−ピペラジ
ニル)−1,8−ナスチリクン−3−カルボン酸エチル
エステル1.10fを塩化メチレン117!に溶解させ
、水冷下にトリエチルアミン59Qwjを加え、ついで
塩化メタンスルホニル600F7を5分間を要して滴下
し、同温度で1時間反応させる。反応終了後、減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチル20mおよ
び水20mを加え、有機層を分取し、水1(ldおよび
飽和食塩水10mjで順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をN。
N−ジメチルホルムアミド10g/に溶解させ。
1.8−ジアザビシクロ[5,4,0:lウンデセ−7
−ニン1.2tを加え、80℃で1時間反応させる。
−ニン1.2tを加え、80℃で1時間反応させる。
反応終了後、析出結晶を炉取し、水50dおよび酢酸エ
チル20mで順次洗浄すれば、6−フルオロ−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−1−【2−(2−チェニル]ビ
ニル]−7−(4−)リール−1−ピペラジニル)−1
,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル7
80岬(収率72.9嗟)を得る。
チル20mで順次洗浄すれば、6−フルオロ−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−1−【2−(2−チェニル]ビ
ニル]−7−(4−)リール−1−ピペラジニル)−1
,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル7
80岬(収率72.9嗟)を得る。
M点; 262〜264℃(再結溶媒;クロロホルム−
エタノール)晶を戸数すれば、6−フルオE:I −1
,4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1−ピペラジニル
)−1−[2−(2−チェニル)ビニル]−1,8−ナ
フチリジン−3−カルボン酸エチルエステル2501M
?(収IK78.1 % )を得る。
エタノール)晶を戸数すれば、6−フルオE:I −1
,4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1−ピペラジニル
)−1−[2−(2−チェニル)ビニル]−1,8−ナ
フチリジン−3−カルボン酸エチルエステル2501M
?(収IK78.1 % )を得る。
融点;163〜165℃(再結溶媒;エタノール)IR
(KBr)、1;νc=o 1730. 169ONM
R(CDC13)δ値; 1.40(3H,t、J=7Hz)、 2.30(I
H,ba)。
(KBr)、1;νc=o 1730. 169ONM
R(CDC13)δ値; 1.40(3H,t、J=7Hz)、 2.30(I
H,ba)。
2.70〜3.25(4H+m)e 3.47〜4.
00(4Hsm)C4,38(2H,d、J=7Hz)
、 6.70〜7−35(4H,m)。
00(4Hsm)C4,38(2H,d、J=7Hz)
、 6.70〜7−35(4H,m)。
7.96(LH,d、J:=14Hz)、8.04(I
H,d、J=13Hz)、8.67(IH,a) f2) 7− (3−tart、−ブトキシカルボニ
ルアミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1−[2−(2−チェニケ)
ビニル] −1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル200qおよびトリフルオロ酢酸2tiの
混合物を室温で30分間反石窟せる。反応終了後減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物にクロロホルム10a
dおよヒ水10dを加え、飽和炭酸水素す) IJウム
水溶液でpa7に調整する。有機層を分取し、水10I
ntおよび飽和食塩水10mで順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物にジエチルエーテル10−を加え、析出
結晶を戸数すれば、7−(3−ア5)−x−ピロリジニ
ル)−8−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−4−オキソ−
1−[2−(2−チェニル)ビニル]−1.8−+フチ
リシン−3−カルボン酸エチルエステル150119を
得る。
H,d、J=13Hz)、8.67(IH,a) f2) 7− (3−tart、−ブトキシカルボニ
ルアミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1−[2−(2−チェニケ)
ビニル] −1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル200qおよびトリフルオロ酢酸2tiの
混合物を室温で30分間反石窟せる。反応終了後減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物にクロロホルム10a
dおよヒ水10dを加え、飽和炭酸水素す) IJウム
水溶液でpa7に調整する。有機層を分取し、水10I
ntおよび飽和食塩水10mで順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物にジエチルエーテル10−を加え、析出
結晶を戸数すれば、7−(3−ア5)−x−ピロリジニ
ル)−8−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−4−オキソ−
1−[2−(2−チェニル)ビニル]−1.8−+フチ
リシン−3−カルボン酸エチルエステル150119を
得る。
融点;166〜169℃
I R(KB r )cm−1;シc=01725NM
R(CDC13)δ値; 1.36r3H,t、J=7Hz)、 1.56〜2
.34(4H,m)。
R(CDC13)δ値; 1.36r3H,t、J=7Hz)、 1.56〜2
.34(4H,m)。
3.20〜4.05(5H,m)、 4.30(2H,
q、J=7Hz)。
q、J=7Hz)。
6.65〜7.30(4H,m)、 7.84(IH,
d、J=13Hz)。
d、J=13Hz)。
7.93(IH,d、J=15Hz)、 8.55(I
H,s)実施例7 (117−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フ
ルオロ−1−(3−フルオロベンジル)−1,4−ジヒ
ドロ←十−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カ
ルボン酸エチルエステル300■を6N−塩酸3II!
7!に懸濁させ、加熱還流下9時間反応させる。反応終
了後、析出結晶を戸数すれば、7−(3−アミノ−1−
ピロリジニル)−6−フルオロ−1−(3−フルオロベ
ンジル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナ
フチリジン−3−カルボン酸の塩酸塩220Wli(収
率71.9係)を得る。
H,s)実施例7 (117−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フ
ルオロ−1−(3−フルオロベンジル)−1,4−ジヒ
ドロ←十−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カ
ルボン酸エチルエステル300■を6N−塩酸3II!
7!に懸濁させ、加熱還流下9時間反応させる。反応終
了後、析出結晶を戸数すれば、7−(3−アミノ−1−
ピロリジニル)−6−フルオロ−1−(3−フルオロベ
ンジル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナ
フチリジン−3−カルボン酸の塩酸塩220Wli(収
率71.9係)を得る。
融点;203〜204℃(再結溶媒;2N−塩酸)IR
(KBr )cW&−1;νc=o 172ONMR(
TFA−di )δ値: 2.28〜3.08 (2H、m ) 、 3.65
〜5.00 (5H,m ) 。
(KBr )cW&−1;νc=o 172ONMR(
TFA−di )δ値: 2.28〜3.08 (2H、m ) 、 3.65
〜5.00 (5H,m ) 。
5.93(2H,s)、 6.75〜7.85(4H
,m)、8.12(H(、d、J=11Hz)、9.1
8(IH,s)同様にして表−7に示す化合物を得る。
,m)、8.12(H(、d、J=11Hz)、9.1
8(IH,s)同様にして表−7に示す化合物を得る。
表 −7(U)
+217−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1−C2−(
2−チェニル)ビニル]−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸エチルエステル100ηをIN−水酸化ナト
リウム水溶液1−およびエタノール1−の混合溶媒に溶
解させ。
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1−C2−(
2−チェニル)ビニル]−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸エチルエステル100ηをIN−水酸化ナト
リウム水溶液1−およびエタノール1−の混合溶媒に溶
解させ。
室温で1時間反応させる。反応終了後、水10−を加え
、IN−塩酸でpH1に調整゛し、析出結晶を戸数すれ
ば、7−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フル
オロ−1,4−−)ヒドロ−4−オキンー1−[2−(
2−チェニル)ビニル)−i、s−ナフチリジン−3−
カルボン酸−90w1(収率96゜3%)を得る。
、IN−塩酸でpH1に調整゛し、析出結晶を戸数すれ
ば、7−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フル
オロ−1,4−−)ヒドロ−4−オキンー1−[2−(
2−チェニル)ビニル)−i、s−ナフチリジン−3−
カルボン酸−90w1(収率96゜3%)を得る。
融点;256〜259℃(分解)(再結溶媒;ジメチい
々壇シト)I R(KB r ) cm−1;シc−o
172ONMR(TFA−di)δ値; 2.30〜2.95(2H,m)、 3.93〜4.
83(5H,!!l)。
々壇シト)I R(KB r ) cm−1;シc−o
172ONMR(TFA−di)δ値; 2.30〜2.95(2H,m)、 3.93〜4.
83(5H,!!l)。
6.85〜7.62(4H,m)、 8.07(IH
,d、J=14Hz)。
,d、J=14Hz)。
8.16(IH,d、J=12Hz)、 9.35(
IH,s)同様にして表−8に示す化合物を得る。
IH,s)同様にして表−8に示す化合物を得る。
C以下余白)
+317−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1−(2−チ
ェニルメチル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン
酸エチルエステル4oo11vをIN−水酸化す) I
Jウム水溶液4−およびエタノール41Itの混合溶媒
に溶解させ、室温で1時間反応させる。反応終了後、減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に水2dを加え、
2N−塩酸でpH1に調整し、析出結晶を戸数すれば。
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1−(2−チ
ェニルメチル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン
酸エチルエステル4oo11vをIN−水酸化す) I
Jウム水溶液4−およびエタノール41Itの混合溶媒
に溶解させ、室温で1時間反応させる。反応終了後、減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に水2dを加え、
2N−塩酸でpH1に調整し、析出結晶を戸数すれば。
7−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1−(2−チェニル
メチル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸の塩
酸塩340Mf(収率83.3係)を得る。
−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1−(2−チェニル
メチル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸の塩
酸塩340Mf(収率83.3係)を得る。
融点;248.7〜249.5℃(再結溶媒;エタノー
ル)IR(KBr)−@−1;シc=o170ONMR
(TFA−di)δ値; 2.25〜3.17(2H,m)、 3.63〜4.
95(5H,m)。
ル)IR(KBr)−@−1;シc=o170ONMR
(TFA−di)δ値; 2.25〜3.17(2H,m)、 3.63〜4.
95(5H,m)。
5.94〜6.35(2H,m)、 6.96〜7.
57(3H,m)。
57(3H,m)。
8.21(IH,d、J=12Hz)、 9.27(
IH,!l)同様にして1表−9に示す化合物を得る。
IH,!l)同様にして1表−9に示す化合物を得る。
表−9
+417−(3−アセチルアミノ−1−ピロリジニル)
−6−フルオロ−1−C2−(4−フルオロフェニル)
ヒニル]−1.4−ジヒドロー4−オキソ−1,8−ナ
フチリジン−3−カルボン酸エチルエステル200!+
19から実施例7−111と同様の方法により7−(3
−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1−[2−(4−フルオロフ
ェニル)ビニル]−1,8−ナフチリジン−3−カルボ
ン酸1651ng(収率88.7係)を得る。
−6−フルオロ−1−C2−(4−フルオロフェニル)
ヒニル]−1.4−ジヒドロー4−オキソ−1,8−ナ
フチリジン−3−カルボン酸エチルエステル200!+
19から実施例7−111と同様の方法により7−(3
−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1−[2−(4−フルオロフ
ェニル)ビニル]−1,8−ナフチリジン−3−カルボ
ン酸1651ng(収率88.7係)を得る。
融点;225〜230℃(分解)(再結溶媒;濃塩酸)
IR(KB r )cm−” ;シe−01725NM
R(TFA−dl)δ値; 2.20〜3.00(21H,m)、 3.80〜5
.00(5H,m)。
IR(KB r )cm−” ;シe−01725NM
R(TFA−dl)δ値; 2.20〜3.00(21H,m)、 3.80〜5
.00(5H,m)。
6.90〜8.45(7H,m)、 9.35(LH
,s)同様にして表−10に示す化合物を得る。
,s)同様にして表−10に示す化合物を得る。
表−10
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素原子またはカルボキシル保護基を
、R^2はハロゲン原子または置換されていてもよい環
状アミノ基を、R^3は置換されていてもよいアリール
または複素環式基を、Aはハロゲン原子、ヒドロキシル
、アルカン スルホニルオキシもしくはアレーンスルホニルオキシ基
で置換されていてもよい低級アルキレン、イミノ、低級
アルキルイミノまたは低級アルケニレン基を示す。 但し、R^3が置換されていないアリール基の場合は、
Aはハロゲン原子、ヒドロキシル、アルカンスルホニル
オキシもしくはアレーンスルホニルオキシ基で置換され
ている低級アルキレン、イミノ、低級アルキルイミノま
たは低級アルケニレン基を示す。〕 で表わされる1,4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジ
ン誘導体およびその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60225515A JPH0717642B2 (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 1,4―ジヒドロ―4―オキソナフチリジン誘導体またはその塩 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60225515A JPH0717642B2 (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 1,4―ジヒドロ―4―オキソナフチリジン誘導体またはその塩 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6218015A Division JP2630566B2 (ja) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | 1,4−ジヒドロー4−オキソナフチリジン誘導体またはその塩 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6284085A true JPS6284085A (ja) | 1987-04-17 |
| JPH0717642B2 JPH0717642B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=16830520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60225515A Expired - Lifetime JPH0717642B2 (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 1,4―ジヒドロ―4―オキソナフチリジン誘導体またはその塩 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717642B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8163769B2 (en) * | 2002-03-12 | 2012-04-24 | Abbott Laboratories | Antibacterial compounds |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50108277A (ja) * | 1974-02-12 | 1975-08-26 | ||
| JPS5547658A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-04 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | Substituted quinolinecarboxylic acid derivative |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP60225515A patent/JPH0717642B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50108277A (ja) * | 1974-02-12 | 1975-08-26 | ||
| JPS5547658A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-04 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | Substituted quinolinecarboxylic acid derivative |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8163769B2 (en) * | 2002-03-12 | 2012-04-24 | Abbott Laboratories | Antibacterial compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0717642B2 (ja) | 1995-03-01 |
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