JPS6284449A - 多数溝同時形成方法 - Google Patents
多数溝同時形成方法Info
- Publication number
- JPS6284449A JPS6284449A JP22377285A JP22377285A JPS6284449A JP S6284449 A JPS6284449 A JP S6284449A JP 22377285 A JP22377285 A JP 22377285A JP 22377285 A JP22377285 A JP 22377285A JP S6284449 A JPS6284449 A JP S6284449A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- interruption
- reflection plates
- points
- plural
- light
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は元ディスク,元カード.元テープの媒体作[時
に行われる元ビーム案内#1を同時に多数本形成する方
法に関するものでるる。
に行われる元ビーム案内#1を同時に多数本形成する方
法に関するものでるる。
〔従来の技術)
元ディスクに、約lμmφ程度の記録ピットを用いて記
録を行うために、高精管表位置決めの手法を必要とし、
これを実現するために記鎌丁る部分に前もってマーカを
形成する必要がらる。このマーカは、λ/8の探さ(λ
は使用する光波長)とし、約700〜900λの深さを
持つ微細な溝とするのが一般的で69、これを形成する
ために、Arイオンレーザ,He−Cdレーザ等を用い
てし8厚さに塗布されたレジストを露覚した後、現像を
行うのが一般的である。
録を行うために、高精管表位置決めの手法を必要とし、
これを実現するために記鎌丁る部分に前もってマーカを
形成する必要がらる。このマーカは、λ/8の探さ(λ
は使用する光波長)とし、約700〜900λの深さを
持つ微細な溝とするのが一般的で69、これを形成する
ために、Arイオンレーザ,He−Cdレーザ等を用い
てし8厚さに塗布されたレジストを露覚した後、現像を
行うのが一般的である。
〔発明が解決しようとする問題点]
し力為しながら、このような従来の溝形成方法において
は、レーザ元を一点に絞り込んで、ディスクを回転させ
ながら行うために、一枚のディスクもし7〈はディスク
用の原!1を作製するの(て3〜6時間を要し、生産性
が低いという不都合があった。
は、レーザ元を一点に絞り込んで、ディスクを回転させ
ながら行うために、一枚のディスクもし7〈はディスク
用の原!1を作製するの(て3〜6時間を要し、生産性
が低いという不都合があった。
又、このように一枚を製造するのに時間を必要とするた
めに、どうし゜Cも原盤を作り、これをもとに複製する
沈め工程がa雑となり、この工程において発生するエラ
ーの原因が多数となり、原盤ではl口−7〜10”の程
度であったものが10−l〜10″″@になってしまう
欠点t−VL,ていた。又、一本のビームで全面を描画
するために、回転系,送り系に非常に精密な精度が要求
される。即ち溝と溝の間隔は、±0.05μm以内とい
う機械精度としては極限のものが要求され、約10g+
の長スパンで精度が10−@〜10−8という値t7寮
現させなければならないために、描画系自体が非常に複
M、高価に力らざるf:得な力・つ友。
めに、どうし゜Cも原盤を作り、これをもとに複製する
沈め工程がa雑となり、この工程において発生するエラ
ーの原因が多数となり、原盤ではl口−7〜10”の程
度であったものが10−l〜10″″@になってしまう
欠点t−VL,ていた。又、一本のビームで全面を描画
するために、回転系,送り系に非常に精密な精度が要求
される。即ち溝と溝の間隔は、±0.05μm以内とい
う機械精度としては極限のものが要求され、約10g+
の長スパンで精度が10−@〜10−8という値t7寮
現させなければならないために、描画系自体が非常に複
M、高価に力らざるf:得な力・つ友。
本発明に係る多数溝同時形成方法は上述り、7’Lよう
な問題t−S決丁べくなされたもので、多重干渉による
光学的な縞模材を形成し、シリンドリカルレンズを用い
て一軸的に絞り込むことによp光の輝点の点列を形成し
、この点りlI¥r走査することにより多数点の軌跡を
同時°に生じせしめる工うVこしたものでるる。
な問題t−S決丁べくなされたもので、多重干渉による
光学的な縞模材を形成し、シリンドリカルレンズを用い
て一軸的に絞り込むことによp光の輝点の点列を形成し
、この点りlI¥r走査することにより多数点の軌跡を
同時°に生じせしめる工うVこしたものでるる。
本発明においてL光の輝点の点列を形成し、この点列を
走査しているので多数#Iを一括訂元でき、溝の幅のみ
ならす溝間のピッチをも一定に保つことが可能でろる。
走査しているので多数#Iを一括訂元でき、溝の幅のみ
ならす溝間のピッチをも一定に保つことが可能でろる。
1にだ、同時に多数の#を描画できるため、従来よりも
数倍の描画速肚が得られ、生産性を著しく向上させる。
数倍の描画速肚が得られ、生産性を著しく向上させる。
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明をで係る多数溝同時形成方法の基本構成
図でるる。同図において、図示しないレーザ光源力≧ら
出たレーザ光管通常のエクスパンダ(光の幅を広げる機
械)を通し、さらにレンズ(いずれも図示せず〕によp
平行ビーム1とり、7を後、この平行ビーム11に1第
2図に示すように傾斜角ψで交差する2枚の反射板2.
3の多重干渉条件を形成せる部分に上方より透過させる
。この時、反射板2.3の間隔をdとしたとき、2d/
λ−m(但し、λは使用せる元の波長、mit整数〕に
最大透過管(、,2d/λ=m+7の条件全満た丁dに
おいて、最小透過となるような干渉波形が得られ、反射
板2.3の平面性が十分間いものであれば、第2図に示
すJうな干渉波形が得られ、ピークからピークまでの間
隔Pは−ψ=”−’ よP 2P 9−足と々し得る。例えば、2つの反射板2.3の傾斜
角度ψを19.5度とし、光源としてHeN・レーザ(
λ−0.6328μm)を用いれば、1.6#mピッチ
の多数の干渉縞を形成できる。また、Arイオンレーザ
の0.488μmを用いれば、傾斜角度ψは15.2度
で1い。これらの反射板2,3によって形成され7を第
2図に示す干渉波形は、スリット4を通して整形さね、
さらにシリンドリカルレンズ5にjクー軸的VC絞り込
普れることにより、無点m6上に多数の元の輝点からな
る点列Tを形成する。したがって、この方法を用いれば
多数の点列7を用いて同時に描画が可能でめる。
図でるる。同図において、図示しないレーザ光源力≧ら
出たレーザ光管通常のエクスパンダ(光の幅を広げる機
械)を通し、さらにレンズ(いずれも図示せず〕によp
平行ビーム1とり、7を後、この平行ビーム11に1第
2図に示すように傾斜角ψで交差する2枚の反射板2.
3の多重干渉条件を形成せる部分に上方より透過させる
。この時、反射板2.3の間隔をdとしたとき、2d/
λ−m(但し、λは使用せる元の波長、mit整数〕に
最大透過管(、,2d/λ=m+7の条件全満た丁dに
おいて、最小透過となるような干渉波形が得られ、反射
板2.3の平面性が十分間いものであれば、第2図に示
すJうな干渉波形が得られ、ピークからピークまでの間
隔Pは−ψ=”−’ よP 2P 9−足と々し得る。例えば、2つの反射板2.3の傾斜
角度ψを19.5度とし、光源としてHeN・レーザ(
λ−0.6328μm)を用いれば、1.6#mピッチ
の多数の干渉縞を形成できる。また、Arイオンレーザ
の0.488μmを用いれば、傾斜角度ψは15.2度
で1い。これらの反射板2,3によって形成され7を第
2図に示す干渉波形は、スリット4を通して整形さね、
さらにシリンドリカルレンズ5にjクー軸的VC絞り込
普れることにより、無点m6上に多数の元の輝点からな
る点列Tを形成する。したがって、この方法を用いれば
多数の点列7を用いて同時に描画が可能でめる。
〔実施例1〕
第3図はポジ型レジストを111布せるガラス円盤10
に回転描画を行う場合の例會示すもので、ガラス円盤1
0の上方に′ts1図會て示した構成からなる露光手段
11を、スリットの長手軸がガラス円盤10の#P径方
向と一致するように配置し、レーザーパワー1600m
wとし、ガラス円盤10を10Or、p、mで回転させ
た。この時、スリットの長手方向は10 mm とした
。露光後、現像処理を施したところ、複数の#12t−
等間隔に形成できたO 〔実施例2〕 第4図は実施例1と同様、ガラス円盤10に回転描画を
行う場合の例を示すものでらるが、スリット長手軸をガ
ラス円盤10の中径方向に対して角度θ(θ−60°)
だけ傾斜させた点が相異している。このような配置構成
においてFi冥施例1のl/’2 (60°の場合、(
2)60°=し2となって1/2 となる)のピッチ
の溝12が形成できる。
に回転描画を行う場合の例會示すもので、ガラス円盤1
0の上方に′ts1図會て示した構成からなる露光手段
11を、スリットの長手軸がガラス円盤10の#P径方
向と一致するように配置し、レーザーパワー1600m
wとし、ガラス円盤10を10Or、p、mで回転させ
た。この時、スリットの長手方向は10 mm とした
。露光後、現像処理を施したところ、複数の#12t−
等間隔に形成できたO 〔実施例2〕 第4図は実施例1と同様、ガラス円盤10に回転描画を
行う場合の例を示すものでらるが、スリット長手軸をガ
ラス円盤10の中径方向に対して角度θ(θ−60°)
だけ傾斜させた点が相異している。このような配置構成
においてFi冥施例1のl/’2 (60°の場合、(
2)60°=し2となって1/2 となる)のピッチ
の溝12が形成できる。
つiり、2枚の反射板2.8の傾斜角ψヲ費えずとも、
スリット長手軸の傾き角θを制御することにより、溝1
2の間隔を自由に変え得るものでるる。
スリット長手軸の傾き角θを制御することにより、溝1
2の間隔を自由に変え得るものでるる。
〔実施例3〕
平板上にレジストを塗布し、一方−1に平板を動かし描
画させたところ、平行な多数の溝が同時に形成できた。
画させたところ、平行な多数の溝が同時に形成できた。
この方法を用いることによって、元カード用の溝形成が
連続して行えることを確認したO 〔実施例4〕 5j!施例1において、従来、300rpmで200r
mφの溝基板を作製する沈めに、同心円を描く場合3〜
4時間が必要でめったが本方法を用いることによってわ
ずか20分程度で作製が可能でめった。
連続して行えることを確認したO 〔実施例4〕 5j!施例1において、従来、300rpmで200r
mφの溝基板を作製する沈めに、同心円を描く場合3〜
4時間が必要でめったが本方法を用いることによってわ
ずか20分程度で作製が可能でめった。
又、本方法で得られた基板を用い、Tθ′f蒸着せしめ
、光ディスクとしてエラー レートを畔価したところ、
転写法を用いた従来の手法では2 X 10−6のエラ
ー率でめったものが、5X]0−7以下と、特性の良い
結果が得られた。また、拳法で得られた溝のピッチむら
は1005μm以下と々つた。
、光ディスクとしてエラー レートを畔価したところ、
転写法を用いた従来の手法では2 X 10−6のエラ
ー率でめったものが、5X]0−7以下と、特性の良い
結果が得られた。また、拳法で得られた溝のピッチむら
は1005μm以下と々つた。
以上説明したように本発明に係る多数溝同時形成方法は
、多重干渉による縞模様をシリンドリカルレンズで一軸
的に絞り込むことにエリ、元の輝点の点列を形成し、こ
の点列を走査して多数の溝を同時に描画するようにして
いるので、高速描画が達成でき、生産性を著しく向上さ
せ得る。the従来の1ビームで描画する場合は、どう
[2ても原盤作製を行って複写、転写を重ねるため、基
板の欠陥の増加ヲマねいていたが、本発明ブJ法によれ
ば基板を固接形成可能であるために、低エラーレートが
突現でき、また、ピッチむらも従来±0,1μm程度で
めったものが±0.05μmを達成でき、高品質のもの
が得られる。′tた、元カード用の直接溝形成に適して
お91カードの連続生産が可能になる利点も有している
。
、多重干渉による縞模様をシリンドリカルレンズで一軸
的に絞り込むことにエリ、元の輝点の点列を形成し、こ
の点列を走査して多数の溝を同時に描画するようにして
いるので、高速描画が達成でき、生産性を著しく向上さ
せ得る。the従来の1ビームで描画する場合は、どう
[2ても原盤作製を行って複写、転写を重ねるため、基
板の欠陥の増加ヲマねいていたが、本発明ブJ法によれ
ば基板を固接形成可能であるために、低エラーレートが
突現でき、また、ピッチむらも従来±0,1μm程度で
めったものが±0.05μmを達成でき、高品質のもの
が得られる。′tた、元カード用の直接溝形成に適して
お91カードの連続生産が可能になる利点も有している
。
第1図は本発明方法の基本構成図、第2図は干渉波形と
傾斜角ψの関係を示す図、第3図はガラス円盤への婢描
画例を示す図、第4図はガラス円盤への溝描画例の他の
例を示す図でるる。
傾斜角ψの関係を示す図、第3図はガラス円盤への婢描
画例を示す図、第4図はガラス円盤への溝描画例の他の
例を示す図でるる。
Claims (1)
- 多重干渉による光学的な縞模様を形成し、シリンドリカ
ルレンズを用いて一軸的に絞り込むことにより光の輝点
の点列を形成し、この点列を走査することにより多数点
の軌跡を同時に生じせしめることを特徴とする多数溝同
時形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22377285A JPS6284449A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 多数溝同時形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22377285A JPS6284449A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 多数溝同時形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6284449A true JPS6284449A (ja) | 1987-04-17 |
Family
ID=16803466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22377285A Pending JPS6284449A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 多数溝同時形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6284449A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63271741A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Canon Inc | 光記録媒体の製造方法 |
| US5119359A (en) * | 1987-04-08 | 1992-06-02 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method and apparatus for fabricating an optical disc master and an optical disc |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894149A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
| JPS5933631A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-23 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク用基板に案内溝を形成する方法 |
| JPS6238417A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-19 | Fujitsu Ltd | 環状パタ−ン形成方法 |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP22377285A patent/JPS6284449A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894149A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
| JPS5933631A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-23 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク用基板に案内溝を形成する方法 |
| JPS6238417A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-19 | Fujitsu Ltd | 環状パタ−ン形成方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5119359A (en) * | 1987-04-08 | 1992-06-02 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method and apparatus for fabricating an optical disc master and an optical disc |
| JPS63271741A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Canon Inc | 光記録媒体の製造方法 |
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