JPS5894149A - 光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 - Google Patents
光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法Info
- Publication number
- JPS5894149A JPS5894149A JP56192113A JP19211381A JPS5894149A JP S5894149 A JPS5894149 A JP S5894149A JP 56192113 A JP56192113 A JP 56192113A JP 19211381 A JP19211381 A JP 19211381A JP S5894149 A JPS5894149 A JP S5894149A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- guide groove
- optical
- type guide
- photo resist
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
原板のｍａ法に関し、更に詳しくはレーザー光等のコヒ
ーレンスの高い光を干渉させて得られる干渉縞を利用す
ることによりなる精度のすぐれたしかも検出の容易な案
内溝ン有し、ランダムアクセスが容易で量産に適した光
ディスク作製用原板の製造法に関する。
ーレンスの高い光を干渉させて得られる干渉縞を利用す
ることによりなる精度のすぐれたしかも検出の容易な案
内溝ン有し、ランダムアクセスが容易で量産に適した光
ディスク作製用原板の製造法に関する。
光学記録方式は一気記録方式にくらべて記録密度が１桁
以上高くすることができるすぐれた記録方式であるが、
特定の情報ケ所定の位置に記録し、又、検出１行なうに
は記録位置ｒ示す標識が必要である。
以上高くすることができるすぐれた記録方式であるが、
特定の情報ケ所定の位置に記録し、又、検出１行なうに
は記録位置ｒ示す標識が必要である。
標識がないときは書き込まれる情報の位置の精度は機械
的な位置決めの精度によって決めるしかなく、従って任
意の位置への記録及びその位置からの再生や書き込まれ
た情報のメンテナンス（追加、削除及び変更等）は不可
能になって、いわゆるランダムアクセスには適し得ない
。
的な位置決めの精度によって決めるしかなく、従って任
意の位置への記録及びその位置からの再生や書き込まれ
た情報のメンテナンス（追加、削除及び変更等）は不可
能になって、いわゆるランダムアクセスには適し得ない
。
又、種木の情報ｖ１枚の光デイスク１用いて記録及び再
生する際には、記録区域は同心円状に設けられている方
がレコードディスク（音楽等の録音板）のごときスパイ
ラル上に設けるよりも、情報群どうしの区別が容易であ
る．しかしながら同心円状に記録・再生する際の標識で
ある光干渉型案内溝Ｙ原板上に設けるには、従来、フォ
トレジスト等を表面に形成した線材に対し、レーザー光
ｌ用いて一本ずつ、即ち円Ｙ一つずつ露光した後現像し
ていたため、能率が悪く、シかも各日の隣接する円との
間ｌｉｌｌ（ピッチ）は機械的な精度によって決めるし
かなかった。
生する際には、記録区域は同心円状に設けられている方
がレコードディスク（音楽等の録音板）のごときスパイ
ラル上に設けるよりも、情報群どうしの区別が容易であ
る．しかしながら同心円状に記録・再生する際の標識で
ある光干渉型案内溝Ｙ原板上に設けるには、従来、フォ
トレジスト等を表面に形成した線材に対し、レーザー光
ｌ用いて一本ずつ、即ち円Ｙ一つずつ露光した後現像し
ていたため、能率が悪く、シかも各日の隣接する円との
間ｌｉｌｌ（ピッチ）は機械的な精度によって決めるし
かなかった。
本発明は上記の従来の欠点ｖｖＡ消せんがために為され
たものであって、レーザー光の干渉ン利用した、作製の
能率がよく、しかも精度のすぐれた光干渉型案内溝Ｙ作
成することが可能な原板の製造法Ｙ開示するものである
。却ち、本発明は基板上に形成されたフォトレジスト層
に２光束のレーザー光ン照射して干渉縞Ｙ記録し、しか
る後現像することＹ特徴とする、光ディスクの光干渉型
案内溝作製用原板の製造法に関するものである。
たものであって、レーザー光の干渉ン利用した、作製の
能率がよく、しかも精度のすぐれた光干渉型案内溝Ｙ作
成することが可能な原板の製造法Ｙ開示するものである
。却ち、本発明は基板上に形成されたフォトレジスト層
に２光束のレーザー光ン照射して干渉縞Ｙ記録し、しか
る後現像することＹ特徴とする、光ディスクの光干渉型
案内溝作製用原板の製造法に関するものである。
以下、本発明について詳細なる説明ケ行なう。
本発明に適する光ディスクの型としては、材質、記録・
再生の原理Ｖ１．！わないが、量産ケ考慮すると熱可塑
性合成樹脂のシート又は板を基体とし、光学記録層とし
ては、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｐｂ等の低融点金属薄膜、並
びに該金属薄膜の積層体等が好ましい。
再生の原理Ｖ１．！わないが、量産ケ考慮すると熱可塑
性合成樹脂のシート又は板を基体とし、光学記録層とし
ては、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｐｂ等の低融点金属薄膜、並
びに該金属薄膜の積層体等が好ましい。
次に光ディスクの表面に設けられてなる光学的記録及び
再生時の記録位置Ｙ示すため光干渉型案内溝について述
べると第１図に模式的に示すように六Ｙ有する光ディス
ク２の表面に符号１で示すように同心円状に設けられて
なる。第形状Ｙ示す部分縦断面図であって光干渉型案内
溝１は凸部の頂部３及び凹部の底部４が平担でかつそれ
らの面は基体と平行である。第２図において凸部３の図
面の左右方向の巾は実際使用上０５〜２μｌ、凹部の巾
は同様に（１５〜２μが好ましいがこの限りではない。
再生時の記録位置Ｙ示すため光干渉型案内溝について述
べると第１図に模式的に示すように六Ｙ有する光ディス
ク２の表面に符号１で示すように同心円状に設けられて
なる。第形状Ｙ示す部分縦断面図であって光干渉型案内
溝１は凸部の頂部３及び凹部の底部４が平担でかつそれ
らの面は基体と平行である。第２図において凸部３の図
面の左右方向の巾は実際使用上０５〜２μｌ、凹部の巾
は同様に（１５〜２μが好ましいがこの限りではない。
又、凹部の底から凸部の頂までの長さ、即ち光干渉型案
内溝の深さとしてＶｉ（１，１〜１０声属が可能である
が、光干渉型案内溝の探さは記録及び再生に使用するレ
ーザー光の波長と密接な関係Ｙ有し、使用するレーザー
光の波長ｖＪとすると、２／４、λ４、・・・・・・で
あることが望ましい。
内溝の深さとしてＶｉ（１，１〜１０声属が可能である
が、光干渉型案内溝の探さは記録及び再生に使用するレ
ーザー光の波長と密接な関係Ｙ有し、使用するレーザー
光の波長ｖＪとすると、２／４、λ４、・・・・・・で
あることが望ましい。
以上のような光干渉型案内溝！有する光ディスクにレー
ザー光Ｙ所要ナイズのスポット状にて照射すると該案内
溝の凸部の頂で反射した光と凹部の底で反射した光とが
、前記したごとくが起きて記録位置の検出が容属に出来
るものである。
ザー光Ｙ所要ナイズのスポット状にて照射すると該案内
溝の凸部の頂で反射した光と凹部の底で反射した光とが
、前記したごとくが起きて記録位置の検出が容属に出来
るものである。
以上のような光干渉型案内溝【有する光ディスクの製造
法について次に述べる。
法について次に述べる。
第５因及び第４図は本発明の一実施態様Ｙ示す模式図で
ある。
ある。
まず、ガラス等の適宜な平担な基板１０ａにフォトレジ
スト液Ｙスピンナーコーティング等により塗布し、フォ
トレジスト１０ｂｌ形成してフォトレジスト原板１０ｖ
形成する。フォトレジスト１０ｂはポジ型であってもネ
ガ型であっても差支えない。次に第３図に示すごとく、
レーザー光源５より発するレーザー光Ｙ〕１−フミラー
にて２光束に分割レミラー７ａ及び７ｂにて反射させ２
枚の凸レンズ７１組として例示するレンズ系８ａ、８ｂ
Ｙ用いて２光束とも発散光とした後角度−〇交角Ｙもっ
て２光束を前記フォトレジストに照射すると、 λ ３１ｎｌＴ なる関係式で決まるｄのピッチン有する同心円状の光の
干渉縞が生じる。以上のような照射の腺に同転台１１上
にフォトレジスト原板ＩＤ％−真空テヤック等により固
定しておき、フオトレジス）ＩＩ成板上該原板の半径方
間に旧ってスリット状の窓を有するマスク１２を近接さ
せて固定しておき、回転台１１を回転しつつ照射を行な
えば同心円状の干渉縞がフォトレジスト層に記録され、
所定の現像を行なうことにより干渉縞ｇ二おける光の強
弱に応じた凹凸が形成される。
スト液Ｙスピンナーコーティング等により塗布し、フォ
トレジスト１０ｂｌ形成してフォトレジスト原板１０ｖ
形成する。フォトレジスト１０ｂはポジ型であってもネ
ガ型であっても差支えない。次に第３図に示すごとく、
レーザー光源５より発するレーザー光Ｙ〕１−フミラー
にて２光束に分割レミラー７ａ及び７ｂにて反射させ２
枚の凸レンズ７１組として例示するレンズ系８ａ、８ｂ
Ｙ用いて２光束とも発散光とした後角度−〇交角Ｙもっ
て２光束を前記フォトレジストに照射すると、 λ ３１ｎｌＴ なる関係式で決まるｄのピッチン有する同心円状の光の
干渉縞が生じる。以上のような照射の腺に同転台１１上
にフォトレジスト原板ＩＤ％−真空テヤック等により固
定しておき、フオトレジス）ＩＩ成板上該原板の半径方
間に旧ってスリット状の窓を有するマスク１２を近接さ
せて固定しておき、回転台１１を回転しつつ照射を行な
えば同心円状の干渉縞がフォトレジスト層に記録され、
所定の現像を行なうことにより干渉縞ｇ二おける光の強
弱に応じた凹凸が形成される。
以上の製造法においては光干渉型案内溝の深さはレジス
ト層の４みによって決まるが、現像をコントロールする
ことにより更に深さを浅くすることも可能である。又、
前記のマスクのスリット巾は狭い方がよく、広くすると
フォトレジストに記録される干渉縞の精度を損なうので
α１ｕ〜ＩＤＪＥｊｌぐらいが好ましい。
ト層の４みによって決まるが、現像をコントロールする
ことにより更に深さを浅くすることも可能である。又、
前記のマスクのスリット巾は狭い方がよく、広くすると
フォトレジストに記録される干渉縞の精度を損なうので
α１ｕ〜ＩＤＪＥｊｌぐらいが好ましい。
以上説明した態様においてはフォトレジスト原板を回転
させているが、次のようにフォトレジスト原板を固定さ
せて記録する方法によっても行なえる。
させているが、次のようにフォトレジスト原板を固定さ
せて記録する方法によっても行なえる。
第膏図は本発明の他の実施態様を示す模式図であって、
レーザー光源５から発したレーデ−光を八−フミラー６
にて２光束ｇ：分割し、一方の光束はミラー７ａ、７ｂ
を経てレンズ系８により平行光とした後、フオトレジス
）ｍ１０ｂ及び基板１０亀からなるフォトレジスト原板
１０に導かれ、他方の光束は凸面鏡９により発散光とし
た後、フォトレジスト原板１０に導かれ両者が干渉する
ことにより干渉縞が生じる。但し、この実＆態様におい
ては交角−はフォトレジスト原板上の任意の点≦二おけ
る２光束の交角であるから、フォトレジスト１皇板の中
心に向かうほどＩが小さくなり、従って、干渉縞の間隔
はフォトレジスト１京板の中心Ｃ二面かうほど太き（な
る傾向を有する。
レーザー光源５から発したレーデ−光を八−フミラー６
にて２光束ｇ：分割し、一方の光束はミラー７ａ、７ｂ
を経てレンズ系８により平行光とした後、フオトレジス
）ｍ１０ｂ及び基板１０亀からなるフォトレジスト原板
１０に導かれ、他方の光束は凸面鏡９により発散光とし
た後、フォトレジスト原板１０に導かれ両者が干渉する
ことにより干渉縞が生じる。但し、この実＆態様におい
ては交角−はフォトレジスト原板上の任意の点≦二おけ
る２光束の交角であるから、フォトレジスト１皇板の中
心に向かうほどＩが小さくなり、従って、干渉縞の間隔
はフォトレジスト１京板の中心Ｃ二面かうほど太き（な
る傾向を有する。
上記した本発明のいずれの態様（二よっても、従来のご
とく一本ずつ、即ち円を一つずつ露光する方法にくらべ
て能率が高く、しかも、同心円の精度は肉〕記したごと
く、 ｓｉｎ＃ で決まり、露光用のレーザー光源を一定にすればＡは一
定であり、−は露光装置を一度固定すればバックかない
ものであるから、機械的な精度の影響を受けず、積度の
よい露光ができ、従板が得られるものである。
とく一本ずつ、即ち円を一つずつ露光する方法にくらべ
て能率が高く、しかも、同心円の精度は肉〕記したごと
く、 ｓｉｎ＃ で決まり、露光用のレーザー光源を一定にすればＡは一
定であり、−は露光装置を一度固定すればバックかない
ものであるから、機械的な精度の影響を受けず、積度の
よい露光ができ、従板が得られるものである。
第１図及び第２図は光干渉型案内溝を有するある。
１・・・・・・・・・・・・−・・・・・光干渉型案内
溝２・・・・・・−・・・・・・・・・・・光ディスク
３・−・・−・・・・・・・・・・・・・凸部の頂部４
・・・・・・・・・・・・・・・・・・凹部の底部５・
・・・・・・・・・・・・・・・・・レーザー光源６・
・・・・・・・・・・・・・・・・・ハーフミラ−７，
７ａ、７ｂ・・・・・ミラー ８ａ、８ｂ・・・・・・・・・レンズ系９・・・・・・
・・・・・・・・・・・・凸面鏡１０・・・・・・・・
・・・・・・・フォトレジスト原板（１ｏ＆・・・Ｍ板
、１０ｂ・・・フォトレジスト） １１・・・・・・・・・・・・・・・回転台１２・・・
・・・・・・・・・・・・マスク牙１図 牙８図 牙４図 才δ図
溝２・・・・・・−・・・・・・・・・・・光ディスク
３・−・・−・・・・・・・・・・・・・凸部の頂部４
・・・・・・・・・・・・・・・・・・凹部の底部５・
・・・・・・・・・・・・・・・・・レーザー光源６・
・・・・・・・・・・・・・・・・・ハーフミラ−７，
７ａ、７ｂ・・・・・ミラー ８ａ、８ｂ・・・・・・・・・レンズ系９・・・・・・
・・・・・・・・・・・・凸面鏡１０・・・・・・・・
・・・・・・・フォトレジスト原板（１ｏ＆・・・Ｍ板
、１０ｂ・・・フォトレジスト） １１・・・・・・・・・・・・・・・回転台１２・・・
・・・・・・・・・・・・マスク牙１図 牙８図 牙４図 才δ図
Claims (1)
- （１）基板上に形成されたフォトレジスト層に２光束の
レーザー光ｖｉｉｔ射して干渉縞Ｙ記録し、しかる後現
像することＹ特徴とする光ディスクの光干渉型案内溝作
製用原板の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56192113A JPS5894149A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56192113A JPS5894149A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2510489A Division JPH0656672B2 (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 光ディスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5894149A true JPS5894149A (ja) | 1983-06-04 |
| JPH0313652B2 JPH0313652B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=16285875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56192113A Granted JPS5894149A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5894149A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6284449A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多数溝同時形成方法 |
| JPS63271741A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Canon Inc | 光記録媒体の製造方法 |
| JPH02127648A (ja) * | 1988-11-08 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
| US20070274633A1 (en) * | 2006-04-24 | 2007-11-29 | Alex Raub | Large area patterning using interferometric lithography |
| US7459241B2 (en) * | 2003-09-22 | 2008-12-02 | Seagate Technology Llc | Rotary apertured interferometric lithography (RAIL) |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP56192113A patent/JPS5894149A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6284449A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多数溝同時形成方法 |
| JPS63271741A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Canon Inc | 光記録媒体の製造方法 |
| JPH02127648A (ja) * | 1988-11-08 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
| US7459241B2 (en) * | 2003-09-22 | 2008-12-02 | Seagate Technology Llc | Rotary apertured interferometric lithography (RAIL) |
| US7642041B2 (en) | 2003-09-22 | 2010-01-05 | Seagate Technology Llc | Rotary apertured interferometric lithography (RAIL) |
| US20070274633A1 (en) * | 2006-04-24 | 2007-11-29 | Alex Raub | Large area patterning using interferometric lithography |
| US8685628B2 (en) * | 2006-04-24 | 2014-04-01 | Stc.Unm | Large area patterning using interferometric lithography |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0313652B2 (ja) | 1991-02-25 |
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