JPS6284542A - Mos半導体回路装置 - Google Patents

Mos半導体回路装置

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Publication number
JPS6284542A
JPS6284542A JP60224296A JP22429685A JPS6284542A JP S6284542 A JPS6284542 A JP S6284542A JP 60224296 A JP60224296 A JP 60224296A JP 22429685 A JP22429685 A JP 22429685A JP S6284542 A JPS6284542 A JP S6284542A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor circuit
polysilicon
circuit device
mos semiconductor
protection circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP60224296A
Other languages
English (en)
Inventor
Shozo Shirota
城田 省三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP60224296A priority Critical patent/JPS6284542A/ja
Publication of JPS6284542A publication Critical patent/JPS6284542A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Protection Of Static Devices (AREA)
  • Amplifiers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はMOS半導体回路における破壊防止用の入力
保護回路に関するものである。
〔従来の技術] MOS半導体回路においては、−役にゲート絶縁膜が数
百A程度の非常に薄い酸化膜で形成さ八ているため、外
部より過大なサージ電圧が印加された場合にこのゲート
酸化膜が絶縁破壊を起こし、致命不良となる恐れがある
そのためMO3半導体回路においては、その入力端子に
サージ電圧による破壊?防止するための入力保護回路が
付いていることがほとんどである。
従来の入力保護回路としては例えば第3図に示すような
ものがある。同図においてla、 lbはMOS半導体
回路の入力端子、2a、2bは不純物打ち込み層あるい
はポリシリコンによって形成された抵抗、3は電源側へ
のサージ吸収用ダイオード、4は接地側へのサージ吸収
用ダイオード、5a、5bは入力端子からの信号を受け
るMOSトランジスタである。
第3図のla、2aあるいはlb、2b付近について、
実際のMOS半導体回路でのレイアクトパターンを示し
たのが第2図である。同図において、1はアルミボンデ
ィングパッド、2t/′iポリシリコンあるいは不純物
打ち込み屑、7はガラスコート窓、8は下敷ポリシリコ
ン、9はアルミと抵抗2の接合コンタクトである。
次に動作について説明する。第3図(a)に示した入力
保護回路はCMO3半導体回路でよく用いられる入力保
護回路である。入力端子1a上り印加されるサージ電圧
は、抵抗2aと、トランジスタ5aのゲート容量、浮遊
容量等の容量できまる時定数に従って、トランジスタ仝
aのゲートに印加される。
ダイオード3.4はこのゲートに印加される電圧がゲー
ト絶縁破壊電圧に達する前にサージ電圧を吸収し、ゲー
トに破壊電圧以上の電圧がかからないようクランプダイ
オードの役目をする。
ダイオード3Fi正櫃件のサージ電圧に対するクランプ
ダイオードとして働き、ダイオード4は負極性のサージ
電圧に対するクランプダイオードとして働く。
次に第3図(b)に示した入力保護回路は、片チャネル
のMO3半導体回路等で用いられている入力保護回路で
ある。動作は第1図(a)の場合とほぼ同じであるが、
この場合は常にオフ状態のトランジスタ6が正負両極性
のサージ電圧に対するクランプの役目をする。
[発明が解決しようとする問題点] 従来の入力保護回路は以上のような構成となっており、
前記の抵抗としては不純物打ち込みによって形成された
P+あるいはN“層、又はポリシリコンが用いられてい
る。P+あるいriN層を用いた場合、過大なサージ電
圧により不純物打ち込み層を半導体基板との闇に形成さ
れるPN接合が破壊されやすいという問題があった。
又抵抗としてポリシリコンを用いた場合、放熱が悪いた
めにサージ電圧によりポリシリコンが溶断するという問
題がありfe。
この発明は上記のような従来の入力保護回路の欠点を除
去し、より大きなサージ電圧に耐え得るような入力保護
回路を提供することを目的としている。
〔発明の実施例] 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図においてl、2.7.8.91d iQ図と同じく、
それぞれアルミボンディングパッド、ポリシリコン又は
不純物打ち込み層による抵抗、ガラスコート窓、下敷ポ
リシリコン、接合コンタクトである。10がこの発明の
要件をなすもので、アルミボンディングパッド1とド放
ポリシリコン8を接続する接合コンタクトとなっている
。このような構造にすることにより、外部より印加され
たサージ電圧のエネルギーが、抵抗2のみに集中せず下
敷ポリシリコン8にも分数することになり、抵抗2の破
壊、溶断が起こりにくく、なる。
次にこの発明の他の実施例を第2図に示す。この場合は
、接合コンタク)10により外部からの入力信号が下敷
ポリシリコン層を経由して内部へ入力される。一般にサ
ージ電圧のエネルギーはアルミボンディングパッドに近
い所に集中しゃすいが、このような構造にすることによ
り、サージエネルギーの集中しやすい部分を、チップ面
積を増やすことなく大面積のポリシリコンで構成するこ
とができサージ破壊耐量が向上する。
〔発明の幼果1 以上のように、この発明によればアルミポジディグバン
ドと下敷ポリシリコンを接続したととにより外部よりの
サージ電圧のエネルギーを分散させることができ、チッ
プ面積を増やすことなく、破壊耐量の大きな入力保護回
路が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図rよ本発明の入力保護回路の一実施例、第2図は
本発明の他の実施例、第3図は従来の入力保護回路、第
4図はそのレイアクト図である。 1%la、 lbはアルミボンディングパッド、2.2
a。 2bは抵抗、3.4はサーS″吸収用ダイオード、5a
、5bはトランジスタ、6Ir1オフトランジスタ、7
はガラスコート窓、8Fi下敷ポリシリコン、9.10
は接合コンタクトである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体内部の信号を外部に接続するためのアルミボンデ
    ィングパッドと、前記ボンディングパッドの下に絶縁膜
    を介して配置された下敷ポリシリコン層を有し、前記ボ
    ンディングパッドと下敷ポリシリコン層が少なくとも一
    個所以上で接続されていることを特徴とするMOS半導
    体回路装置。
JP60224296A 1985-10-08 1985-10-08 Mos半導体回路装置 Pending JPS6284542A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007000073A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Kubota Corp 収穫機
JP2007000074A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Kubota Corp 収穫機の照明構造
JP2007000075A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Kubota Corp 収穫機の照明構造
JP2010259442A (ja) * 2010-07-16 2010-11-18 Kubota Corp 収穫機

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