JPS6286054U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6286054U JPS6286054U JP17754085U JP17754085U JPS6286054U JP S6286054 U JPS6286054 U JP S6286054U JP 17754085 U JP17754085 U JP 17754085U JP 17754085 U JP17754085 U JP 17754085U JP S6286054 U JPS6286054 U JP S6286054U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- ion
- rotation
- disks
- center
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るイオンビ
ームエツチング装置を示す概略側面図である。第
２図は、第１図の装置の動作の一例を示すタイム
チヤートである。第３図は、この考案の他の実施
例に係るイオンビームエツチング装置を示す概略
側面図である。第４図は、この考案の更に他の実
施例に係るイオンビームエツチング装置を示す概
略平面図である。第５図は、従来のバツチ式のイ
オンビームエツチング装置の一例を示す概略側面
図である。 １ａ〜１ｄ……イオン源、２ａ〜２ｄ……イオ
ンビーム、３ａ〜３ｄ……デイスク、４……ウエ
ハ（試料）、６……デイスク回転・並進機構。
ームエツチング装置を示す概略側面図である。第
２図は、第１図の装置の動作の一例を示すタイム
チヤートである。第３図は、この考案の他の実施
例に係るイオンビームエツチング装置を示す概略
側面図である。第４図は、この考案の更に他の実
施例に係るイオンビームエツチング装置を示す概
略平面図である。第５図は、従来のバツチ式のイ
オンビームエツチング装置の一例を示す概略側面
図である。 １ａ〜１ｄ……イオン源、２ａ〜２ｄ……イオ
ンビーム、３ａ〜３ｄ……デイスク、４……ウエ
ハ（試料）、６……デイスク回転・並進機構。
Claims (1)
- 真空容器内において、デイスク回転・並進機構
によつて回転および並進させられるデイスクの同
一半径上に装着される複数枚の試料にイオン源か
らイオンビームを順次照射して当該試料を処理す
るイオン処理装置において、共通のデイスク回転
・並進機構に複数枚のデイスクをそれぞれがその
並進方向に平行になるように取り付け、かつ各デ
イスクに対してイオン源をそれぞれ、それらから
の各イオンビームの中心と各デイスクの回転中心
との間の距離が互いに常に等しくなるように配置
していることを特徴とするイオン処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17754085U JPS6286054U (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17754085U JPS6286054U (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6286054U true JPS6286054U (ja) | 1987-06-01 |
Family
ID=31118832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17754085U Pending JPS6286054U (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6286054U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012169270A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-09-06 | Leica Mikrosysteme Gmbh | 試料作製のための装置及び方法 |
| JP2016511524A (ja) * | 2013-03-13 | 2016-04-14 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | 回転プラテン装置および回転ユニオン |
-
1985
- 1985-11-18 JP JP17754085U patent/JPS6286054U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012169270A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-09-06 | Leica Mikrosysteme Gmbh | 試料作製のための装置及び方法 |
| JP2016511524A (ja) * | 2013-03-13 | 2016-04-14 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | 回転プラテン装置および回転ユニオン |
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