JPS6286511A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS6286511A JPS6286511A JP22656885A JP22656885A JPS6286511A JP S6286511 A JPS6286511 A JP S6286511A JP 22656885 A JP22656885 A JP 22656885A JP 22656885 A JP22656885 A JP 22656885A JP S6286511 A JPS6286511 A JP S6286511A
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- magnetic
- head
- gap
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は磁気ヘッドに関し、特に酸化物磁性体てなる磁
気ヘッドに関するものである。
気ヘッドに関するものである。
〈従来の技術)
従来より、抗磁力の高い磁気記録媒体に対し良好な記録
再生を行うため4透磁率の高い鹸化物磁性体上に、飽和
磁束密度の高い磁性金属膜を被着してなるコアハーフを
有する磁気ヘッドが提案されている。
再生を行うため4透磁率の高い鹸化物磁性体上に、飽和
磁束密度の高い磁性金属膜を被着してなるコアハーフを
有する磁気ヘッドが提案されている。
この種の磁気ヘッドにおいては、媒体摺接面において磁
性金属膜と耐化物磁性体間の境界をギャップと平行とす
る構成が知られているが、この場合疑似ギャップとして
作用し特性が劣化してしまう。
性金属膜と耐化物磁性体間の境界をギャップと平行とす
る構成が知られているが、この場合疑似ギャップとして
作用し特性が劣化してしまう。
これに対し第5図に示す如きコア構造を有する磁気ヘッ
ドが、特公昭60−32107号公報等で提案されてい
る。第5図においてla、lbは夫々フェライト等の酸
化物磁性材部、2a、2bは夫々センダスト、アモルフ
ァス、パーマロイ等の磁性金属を酸化物磁性材部上にス
パッタリング、蒸着等の膜形成法にて被着してなる磁性
金属膜、3a、3.b、3c、3dは夫々ガラス等の非
磁性材部、4は巻線窓、5は磁気ギャップである。
ドが、特公昭60−32107号公報等で提案されてい
る。第5図においてla、lbは夫々フェライト等の酸
化物磁性材部、2a、2bは夫々センダスト、アモルフ
ァス、パーマロイ等の磁性金属を酸化物磁性材部上にス
パッタリング、蒸着等の膜形成法にて被着してなる磁性
金属膜、3a、3.b、3c、3dは夫々ガラス等の非
磁性材部、4は巻線窓、5は磁気ギャップである。
第5図の如き磁気ヘッドにおいては酸化物磁性材部1a
、lbと磁性金属膜2a、2bとの境界が磁気ギャップ
と非平行であり、疑似ギャップとして作用せず、かつギ
ャップ部のトラック輻方向の両端を耐摩耗性の高いフェ
ライトで支持している形状となり、媒体とのマツチング
、走行特性等も改良されている。
、lbと磁性金属膜2a、2bとの境界が磁気ギャップ
と非平行であり、疑似ギャップとして作用せず、かつギ
ャップ部のトラック輻方向の両端を耐摩耗性の高いフェ
ライトで支持している形状となり、媒体とのマツチング
、走行特性等も改良されている。
〈発明の解決しようとする問題点〉
しかしながら第5図に示す磁気ヘッドには製造上高精度
の加工技術を要する工程がある。第6図(A)〜(I)
は第5図に示すヘッドの製造工程の一例を示す図である
。尚第6図においては製造工程を製造後媒体摺接面とな
る一面側より見た図を示している。
の加工技術を要する工程がある。第6図(A)〜(I)
は第5図に示すヘッドの製造工程の一例を示す図である
。尚第6図においては製造工程を製造後媒体摺接面とな
る一面側より見た図を示している。
まず第6図(A)に示す如くフェライトブロック10に
7字状溝11を所定のピッチで多数形成する。ところで
このV字状溝の形成は等間隔ピッチで配置された研削用
砥石等を用いて行われるが、この7字状溝11の加工精
度については極めて高い精度が要求される。その理由を
以下に説明する。今、例えば第6図(A)にllaで示
す如く所望の深さに対して10gm程度のバラツキが生
じたと仮定する。この深さ方向への誤差(図中Xにて示
す)は、溝形成面におけるエツジ部の誤差(図中yにて
示す)となってしまう0例えば、溝の側面の溝形成面に
対してなす角度を45°とすると、x=yとなりyも1
0pmとなる。
7字状溝11を所定のピッチで多数形成する。ところで
このV字状溝の形成は等間隔ピッチで配置された研削用
砥石等を用いて行われるが、この7字状溝11の加工精
度については極めて高い精度が要求される。その理由を
以下に説明する。今、例えば第6図(A)にllaで示
す如く所望の深さに対して10gm程度のバラツキが生
じたと仮定する。この深さ方向への誤差(図中Xにて示
す)は、溝形成面におけるエツジ部の誤差(図中yにて
示す)となってしまう0例えば、溝の側面の溝形成面に
対してなす角度を45°とすると、x=yとなりyも1
0pmとなる。
第6図(A)に示す状態から、フェライトブロック10
の7字状溝11の形成された面に、センダスト等の磁性
金属[!12を被着形成する。
の7字状溝11の形成された面に、センダスト等の磁性
金属[!12を被着形成する。
(第6図(B)に示す)
次いで、フェライトブロック
部分が露呈するまでこの磁性金属膜を平面研摩等により
除去した後、磁性金属膜の形成されているV字状溝に高
融点ガラス等の非磁性材13を充填する(第6図(C)
、(D)に示す工程)。
除去した後、磁性金属膜の形成されているV字状溝に高
融点ガラス等の非磁性材13を充填する(第6図(C)
、(D)に示す工程)。
更に前述の7字状溝11間に、同様に新たな7字状溝1
4を形成しく第6図(E)に示す)、この7字状溝14
中にも非磁性材15を充填し、平面研摩を行い第6図(
F)に示す如きコアハーフブロック16を得る。この様
なコアハーフブロック16を一対用意し、一方のコアハ
ーフブロックに対して巻線溝加工を施した後、これらを
磁性金属膜12同志が対向する様に磁気ギャップ材を介
して突合せ接合する(第6図(G)に示す)、この後こ
の突合せブロックを一点鎖線17に沿って切断し、第6
図(H)に示す如く媒体摺接面が構成される磁気へラド
コアチップを得る。
4を形成しく第6図(E)に示す)、この7字状溝14
中にも非磁性材15を充填し、平面研摩を行い第6図(
F)に示す如きコアハーフブロック16を得る。この様
なコアハーフブロック16を一対用意し、一方のコアハ
ーフブロックに対して巻線溝加工を施した後、これらを
磁性金属膜12同志が対向する様に磁気ギャップ材を介
して突合せ接合する(第6図(G)に示す)、この後こ
の突合せブロックを一点鎖線17に沿って切断し、第6
図(H)に示す如く媒体摺接面が構成される磁気へラド
コアチップを得る。
しかしながら前述の7字状溝11の深さに誤差が生じた
場合、第6図(I)に示す如き磁気へラドコアチップが
できてしまうことがあり得る。即ち、ヘッドのトラック
幅の管理を正確に行うには極めて精度の高い加工技術が
要求されることになる。
場合、第6図(I)に示す如き磁気へラドコアチップが
できてしまうことがあり得る。即ち、ヘッドのトラック
幅の管理を正確に行うには極めて精度の高い加工技術が
要求されることになる。
上述の例は磁性金属膜12の形成される7字状溝11に
深さ誤差が生じた場合について説明したが、もちろん磁
性金属15112の形成されない7字状溝14について
も深さ誤差は同様に発生する。
深さ誤差が生じた場合について説明したが、もちろん磁
性金属15112の形成されない7字状溝14について
も深さ誤差は同様に発生する。
第7図(A)〜第7図(J)はその影響を説明するため
、第5図のヘッドの製造工程の他の例を示す図である。
、第5図のヘッドの製造工程の他の例を示す図である。
第7図(A)〜(J)において第6図(A)〜(I)と
同様の構成要素については同一番号を付す。
同様の構成要素については同一番号を付す。
まず第7図(A)に示す如くフェライトブロックに7字
状溝14が形成される。14aは深さ誤差を生じた場合
の7字状溝14である。この7字状溝14には高融点ガ
ラス等の非磁性材15が充填される(第7図(B)に示
す)、更に7字状溝14の間に7字状溝11を形成して
後、磁性金属8912が被着され、平面研摩が施される
(第7図(C)、(D)、(E))、そしてこの磁性金
属膜の被着された7字状溝11にも高融点ガラスを溶融
充填して、第7図(F)の如きコアハーフブロックを得
、これを第6図(G)と同様に突合せ接合後、第7図(
G)の一点鎖線17に沿って切断する。
状溝14が形成される。14aは深さ誤差を生じた場合
の7字状溝14である。この7字状溝14には高融点ガ
ラス等の非磁性材15が充填される(第7図(B)に示
す)、更に7字状溝14の間に7字状溝11を形成して
後、磁性金属8912が被着され、平面研摩が施される
(第7図(C)、(D)、(E))、そしてこの磁性金
属膜の被着された7字状溝11にも高融点ガラスを溶融
充填して、第7図(F)の如きコアハーフブロックを得
、これを第6図(G)と同様に突合せ接合後、第7図(
G)の一点鎖線17に沿って切断する。
これによって第7図(H)に示す如きヘッドコアチップ
を得るが、この場合にも、7字状溝14の深さに誤差を
生じた場合、第7図(I)や第7図(J)に示す如きヘ
ッドコアチップが製造されてしまう、第7図(I)に示
すコア構造のヘッドは磁性金属膜2bのギャップ5近傍
において磁束が集中してしまい磁気抵抗が太きくなり、
電磁変換特性の劣化をきたす、また、第7図(J)に示
す如きコア構造のヘッドはフェライト部分1bの先端部
(図中Xに示す)がトラック上に位置し、この部分と磁
気ギャップ5もしくは他方のフェライト部1aとの間の
漏れ磁束により磁気記録再生特性が劣化してしまう。
を得るが、この場合にも、7字状溝14の深さに誤差を
生じた場合、第7図(I)や第7図(J)に示す如きヘ
ッドコアチップが製造されてしまう、第7図(I)に示
すコア構造のヘッドは磁性金属膜2bのギャップ5近傍
において磁束が集中してしまい磁気抵抗が太きくなり、
電磁変換特性の劣化をきたす、また、第7図(J)に示
す如きコア構造のヘッドはフェライト部分1bの先端部
(図中Xに示す)がトラック上に位置し、この部分と磁
気ギャップ5もしくは他方のフェライト部1aとの間の
漏れ磁束により磁気記録再生特性が劣化してしまう。
上述の如く第5図に示す如き従来の磁気ヘッドにおいて
は、極めて高精度の加工が要求されるものであった。
は、極めて高精度の加工が要求されるものであった。
本発明は上述の如き問題に鑑み、製造時における加工精
度については左程高精度とすることなく、かつ高抗磁力
の磁気記録媒体に対して極めて良好に記録再生を行うこ
とのできる磁気ヘッドを提供することを目的とするもの
である。
度については左程高精度とすることなく、かつ高抗磁力
の磁気記録媒体に対して極めて良好に記録再生を行うこ
とのできる磁気ヘッドを提供することを目的とするもの
である。
〈問題点を解決するための手段〉
上述の如き目的下において1本発明の磁気ヘッドにおい
ては酸化物磁性体上に磁性金属膜を被着してなるコアハ
ーフ同志を被着面間に配した磁気ギャップ材を介して突
合わせてなる磁気ヘッドの媒体摺接面において、磁気ギ
ャップの両端部に夫々接する非磁性体を配すると共に該
非磁性体を配する領域が少なくとも前記磁気ギャップの
両端部近傍で前記磁気ギャップに対して略直交する様に
なし、かつ前記磁性金属膜を前記コアハーフの一方に接
する前記非磁性体領域外縁の一方に沿って延在される構
造を採用している。
ては酸化物磁性体上に磁性金属膜を被着してなるコアハ
ーフ同志を被着面間に配した磁気ギャップ材を介して突
合わせてなる磁気ヘッドの媒体摺接面において、磁気ギ
ャップの両端部に夫々接する非磁性体を配すると共に該
非磁性体を配する領域が少なくとも前記磁気ギャップの
両端部近傍で前記磁気ギャップに対して略直交する様に
なし、かつ前記磁性金属膜を前記コアハーフの一方に接
する前記非磁性体領域外縁の一方に沿って延在される構
造を採用している。
〈作 用〉
上述の如く構成することにより、非磁性領域の磁気ギャ
ップ近傍の幅は製造時の加工精度に係らず常に安定する
。更に磁性金属膜が酸化物磁性体と接する面積は極めて
広くとれ、酸化物磁性体から磁性金属膜へと磁束がスム
ーズに流入するので、記録再生特性に悪影響を及ぼす様
な磁束の漏れは発生せず極めて良好な電磁変換特性が得
られる。
ップ近傍の幅は製造時の加工精度に係らず常に安定する
。更に磁性金属膜が酸化物磁性体と接する面積は極めて
広くとれ、酸化物磁性体から磁性金属膜へと磁束がスム
ーズに流入するので、記録再生特性に悪影響を及ぼす様
な磁束の漏れは発生せず極めて良好な電磁変換特性が得
られる。
〈実施例〉
以下1本発明の実施例について説明する。
第1図は本発明の一実施例としての磁気ヘッドの斜視図
、第2図(A)〜(G)は第1図に示す磁気ヘッドの製
造工程を示す図である。
、第2図(A)〜(G)は第1図に示す磁気ヘッドの製
造工程を示す図である。
第1図において21a、21bはフェライト等の酸化物
磁性体部、22a、22bはセンダスト等の磁性金属膜
、23a、23b、23c。
磁性体部、22a、22bはセンダスト等の磁性金属膜
、23a、23b、23c。
23dは夫々非磁性材部、24は巻線窓、25は磁気ギ
ャップである。
ャップである。
上述の如き磁気ヘッドにわいて酸化物磁性体部21a、
21bと、磁性金属膜22a、22bとの接触面積は極
めて広い。これに伴い磁束の流れは極めてスムーズであ
り良好な電磁変換特性が得られる。また磁性金属膜22
a、22bの膜厚とトラック幅とは無関係であり、成膜
時間も短縮できるため製造時間も短縮できるものである
。更に後述する様に歩留りが飛躍的に向上することにな
る。
21bと、磁性金属膜22a、22bとの接触面積は極
めて広い。これに伴い磁束の流れは極めてスムーズであ
り良好な電磁変換特性が得られる。また磁性金属膜22
a、22bの膜厚とトラック幅とは無関係であり、成膜
時間も短縮できるため製造時間も短縮できるものである
。更に後述する様に歩留りが飛躍的に向上することにな
る。
以上第2図(A)〜(G)を用いて第1図のヘッドの製
造工程について説明を加える。まずフェライトブロック
30に対して、第2図(A)に示す如くその断面が方形
となる方形溝31を所定のピッチで配置された回転砥石
等を用い切削研摩加工する0次に方形溝31の形成され
たフェライトブロック30に対し、スパッタリング等で
磁性金属膜32を被着形成する(第2図(B)に示す)
、磁性金属lll32が側面及び底面に被着された方形
溝31には、高融点ガラス33が溶融充填される(第2
図(C)に示す)。
造工程について説明を加える。まずフェライトブロック
30に対して、第2図(A)に示す如くその断面が方形
となる方形溝31を所定のピッチで配置された回転砥石
等を用い切削研摩加工する0次に方形溝31の形成され
たフェライトブロック30に対し、スパッタリング等で
磁性金属膜32を被着形成する(第2図(B)に示す)
、磁性金属lll32が側面及び底面に被着された方形
溝31には、高融点ガラス33が溶融充填される(第2
図(C)に示す)。
次いで溝31に対して一定の距離シフトした位置に同様
に方形溝34を形成しく第2図(D)に示す)、この方
形溝内にも高融点ガラス等の非磁性材を溶融充填し、平
面研摩して第2図(E)に示す如きコアハーフブロック
36を得る0次にこのコアハーフブロック36を一対用
意し、一方に第2図(F)に示す如き巻線溝37を形成
し、媒体摺接面側の突合わせ面に磁気ギャップ材を所定
の厚さ形成する。そして他方のコアハーフブロックを第
2図(G)に示す如く突合わせ、低融点ガラス等の接着
剤を用いて接合する。しかる後、第2図(G)のA、N
に記す部分でこの接合ブロックを切断し、第1図に示す
如きヘッドコアチップを得る。
に方形溝34を形成しく第2図(D)に示す)、この方
形溝内にも高融点ガラス等の非磁性材を溶融充填し、平
面研摩して第2図(E)に示す如きコアハーフブロック
36を得る0次にこのコアハーフブロック36を一対用
意し、一方に第2図(F)に示す如き巻線溝37を形成
し、媒体摺接面側の突合わせ面に磁気ギャップ材を所定
の厚さ形成する。そして他方のコアハーフブロックを第
2図(G)に示す如く突合わせ、低融点ガラス等の接着
剤を用いて接合する。しかる後、第2図(G)のA、N
に記す部分でこの接合ブロックを切断し、第1図に示す
如きヘッドコアチップを得る。
さて上述の製造工程において、方形溝31もしくは方形
溝34の深さにバラつきが生じたとしても、この場合第
1図において非磁性材部23a。
溝34の深さにバラつきが生じたとしても、この場合第
1図において非磁性材部23a。
23b、23c、23dの媒体摺動方向27への長さに
バラつきが生じるだけであり、ヘッドの特性には何らの
悪影響も及ぼさないものである。
バラつきが生じるだけであり、ヘッドの特性には何らの
悪影響も及ぼさないものである。
またこの時磁性金属膜22a、22bとフェライト部2
1a、21bの境界が磁気ギャップに対して平行となっ
ているが、この場合磁性金属膜22a、22bとフェラ
イト部21a、21bの接触面積は極めて広いのでこれ
らの境界が疑似ギャップとして作用してしまう程の大き
な漏れ磁束は生じず、実質的に電磁変換特性に影響はな
い。
1a、21bの境界が磁気ギャップに対して平行となっ
ているが、この場合磁性金属膜22a、22bとフェラ
イト部21a、21bの接触面積は極めて広いのでこれ
らの境界が疑似ギャップとして作用してしまう程の大き
な漏れ磁束は生じず、実質的に電磁変換特性に影響はな
い。
第3図、第4図は本発明の他の実施例としての磁気ヘッ
ドを媒体摺接面側より見た図であり、第1図と同様の構
成要素には同一番号を付す、第3図ノヘッドは非磁性部
23a、23b、23c。
ドを媒体摺接面側より見た図であり、第1図と同様の構
成要素には同一番号を付す、第3図ノヘッドは非磁性部
23a、23b、23c。
23dの磁気ギャップ25と反対側の端部において、連
続的に幅狭となる様にしたもので、第1図のヘッドに対
して更に磁束の流れがスムーズであり、電磁変換特性が
向上する。第3図のヘッドは第2図(A)及び第2図(
D)の工程において方形+431及び方形溝34の底面
をV字状に形成することによって製造できる。
続的に幅狭となる様にしたもので、第1図のヘッドに対
して更に磁束の流れがスムーズであり、電磁変換特性が
向上する。第3図のヘッドは第2図(A)及び第2図(
D)の工程において方形+431及び方形溝34の底面
をV字状に形成することによって製造できる。
第4図のヘッドは磁性金属膜22a、22bの延在する
部分を同じ側としたもので、第2図(G)においてコア
ハーフブロック36a。
部分を同じ側としたもので、第2図(G)においてコア
ハーフブロック36a。
36bの磁性金属膜の被着された方形溝31同志を対向
させることによって得られる。
させることによって得られる。
第8図は本発明の更に他の実施例としての磁気ヘッドを
示す斜視図であり、第1図と同様の構成要素には同一番
号を付す、また第9図(A)〜(F)は第8図に示すヘ
ッドの製造工程を示す図である。
示す斜視図であり、第1図と同様の構成要素には同一番
号を付す、また第9図(A)〜(F)は第8図に示すヘ
ッドの製造工程を示す図である。
第8図に示すヘッドは第1図に示すヘッドの磁性金属膜
22a、22bと、フェライト部21bとの境界の磁気
ギャップ25と平行となる部分を57pm程度のピッチ
でV字状にしたものである。
22a、22bと、フェライト部21bとの境界の磁気
ギャップ25と平行となる部分を57pm程度のピッチ
でV字状にしたものである。
これはこの境界が電磁変換特性に及ぼす悪影響を更に軽
減したものである。
減したものである。
第9図(A)〜(F)に示す製造工程は第9図(A)に
示す如く、予めフェライトブロックの方形溝形成面に整
形砥石による研削(グイミングソー)等によって5gm
ピッチ程度の7字状溝39を形成すること以外は、第2
図(A)〜(G)に示す製造工程と同様であり詳細な説
明は省略する。但し、非磁性材35を方形yI34に充
填する工程を、巻線溝37及び磁気ギャップ材38の形
成後としている。
示す如く、予めフェライトブロックの方形溝形成面に整
形砥石による研削(グイミングソー)等によって5gm
ピッチ程度の7字状溝39を形成すること以外は、第2
図(A)〜(G)に示す製造工程と同様であり詳細な説
明は省略する。但し、非磁性材35を方形yI34に充
填する工程を、巻線溝37及び磁気ギャップ材38の形
成後としている。
第10図は本発明の更に他の実施例としての磁気ヘッド
の構成を示す斜視図であり、第1図と同様の構成要素に
ついては同一番号を付し説明は省略する。第8図に示す
ヘッドは第1図に示すヘッドの磁性金属@ 22 a
、 22 bとフェライト部21bとの境界の磁気ギャ
ップと平行となる部分を非平行としたものである。これ
は第8図のヘッドと同様の理由によることは云うまでも
ない。
の構成を示す斜視図であり、第1図と同様の構成要素に
ついては同一番号を付し説明は省略する。第8図に示す
ヘッドは第1図に示すヘッドの磁性金属@ 22 a
、 22 bとフェライト部21bとの境界の磁気ギャ
ップと平行となる部分を非平行としたものである。これ
は第8図のヘッドと同様の理由によることは云うまでも
ない。
第11図(A)〜(L)は第10図の磁気ヘッドの製造
工程を示す図である。以下、この製造工程について説明
する。第11図(A)に示す如くフェライトブロック3
0に対してまず所定の間隔で三角溝40を形成する0次
に三角溝40の浅い部分にかかる方形溝31aを形成し
、磁性金属膜32をその丘より被着する(第11図(B
)。
工程を示す図である。以下、この製造工程について説明
する。第11図(A)に示す如くフェライトブロック3
0に対してまず所定の間隔で三角溝40を形成する0次
に三角溝40の浅い部分にかかる方形溝31aを形成し
、磁性金属膜32をその丘より被着する(第11図(B
)。
(C)に示す)、更にこれらの溝中に非磁性材33を溶
融充填し、溝形成面を平面研摩する。
融充填し、溝形成面を平面研摩する。
(第11図(D)、(E)に示す)その後、三角溝の深
い部分にかかる方形溝34aを形成し、この溝中に非磁
性材を溶融充填して一方のコアハ−ツブロック36c(
第11図(L)に示す)を得る。
い部分にかかる方形溝34aを形成し、この溝中に非磁
性材を溶融充填して一方のコアハ−ツブロック36c(
第11図(L)に示す)を得る。
他方、第11図(G)〜(K)に示す如く、今度は第1
1図(A)に示す如き三角溝40の深い部分にかかる方
形溝31bを先ず形成し、磁性金属膜の被着及び非磁性
材の充填を行う構成を行い、次いで三角溝40の浅い部
分にかかる方形溝34bを形成して非磁性材の充填を行
うという順序で他方のコアハーフブロック36dを得る
。尚このコアハーフブロック16dには方形溝34bに
非磁性材を充填する直前に巻線溝37を形成し、磁気ギ
ャップ材38を所定厚で設ける。
1図(A)に示す如き三角溝40の深い部分にかかる方
形溝31bを先ず形成し、磁性金属膜の被着及び非磁性
材の充填を行う構成を行い、次いで三角溝40の浅い部
分にかかる方形溝34bを形成して非磁性材の充填を行
うという順序で他方のコアハーフブロック36dを得る
。尚このコアハーフブロック16dには方形溝34bに
非磁性材を充填する直前に巻線溝37を形成し、磁気ギ
ャップ材38を所定厚で設ける。
これらのコアハーフブロック160及びladを第11
図(L)に示す如く突合わせ、A、Nに沿って切断する
ことにより第10図に示す如き磁気へラドコアチップを
得る、このヘッドも磁性金属膜22a、22bとフェラ
イト部21a。
図(L)に示す如く突合わせ、A、Nに沿って切断する
ことにより第10図に示す如き磁気へラドコアチップを
得る、このヘッドも磁性金属膜22a、22bとフェラ
イト部21a。
21bとの境界部が電磁変換特性に及ぼす影響を更に軽
減できる。もちろん第1図に示すヘッドと同様に歩留り
は極めて良好である。
減できる。もちろん第1図に示すヘッドと同様に歩留り
は極めて良好である。
第12図〜第17図は第10図に示す磁気ヘッドの変形
例であり、夫々第11図(L)において36cで示すコ
アハーフブロック、第11図(L)において36dで示
すコアハーフブロックを組合わせて製造したものである
。
例であり、夫々第11図(L)において36cで示すコ
アハーフブロック、第11図(L)において36dで示
すコアハーフブロックを組合わせて製造したものである
。
尚、非磁性部の形状についても上述実施例のそれに限定
されるものではなく、磁気ギャップ近傍においてこれを
略直交するものであれば、歩留りを向上させる前述の効
果が得られるものである。
されるものではなく、磁気ギャップ近傍においてこれを
略直交するものであれば、歩留りを向上させる前述の効
果が得られるものである。
〈発明の効果〉
以上説明した様に1本発明の磁気ヘッドは高抗磁力の磁
気記録媒体に対しても極めて良好なる磁気記録再生を実
現でき、また製造時における精度を大幅に向上させるこ
となく製造可能なものである。
気記録媒体に対しても極めて良好なる磁気記録再生を実
現でき、また製造時における精度を大幅に向上させるこ
となく製造可能なものである。
第1図は本発明の一実施例としての磁気ヘッドを示す斜
視図。 第2図(A)〜(G)は第1図に示す磁気ヘッドの製造
工程を示す図、 第3図、第4図は夫々本発明の他の実施例としての磁気
ヘッドを媒体摺接面側より見た図、第5図は従来の磁気
ヘッドを示す斜視図。 第6図(A)〜(I)は第5図に示す磁気ヘッドの製造
工程の一例を示す図。 第7図(A)〜(J)は第5図に示す磁気ヘッドの製造
工程の他の例を示す図、 第8図は本発明の更に他の実施例としての磁気ヘッドを
示す斜視図、 第9図(A)〜(F)は第8図に示す磁気ヘッドの製造
工程の一例を示す図、 第10図は本発明の更に他の実施例としての磁気ヘッド
を示す斜視図、 第11図(A)〜(L)は第10図に示す磁気ヘッドの
製造工程の一例を示す図。 第12図〜第17図は夫々第10図に示す磁気ヘッドの
変形例を示す図である。 図中21a、21bは夫々酸化物磁性材よりなる部分、
22a、22bは夫々磁性金属膜よりなる部分、23a
、23b、23c、23dは夫々非磁性材よりなる部分
、24は巻線窓、25は磁気ギャップ部を夫々示す。 第6図(6) 第6図(H) 胃6図(1) 顎(/ [8(C) 〒qQ(D) 筋11口(E) 筋110(F) 殖
視図。 第2図(A)〜(G)は第1図に示す磁気ヘッドの製造
工程を示す図、 第3図、第4図は夫々本発明の他の実施例としての磁気
ヘッドを媒体摺接面側より見た図、第5図は従来の磁気
ヘッドを示す斜視図。 第6図(A)〜(I)は第5図に示す磁気ヘッドの製造
工程の一例を示す図。 第7図(A)〜(J)は第5図に示す磁気ヘッドの製造
工程の他の例を示す図、 第8図は本発明の更に他の実施例としての磁気ヘッドを
示す斜視図、 第9図(A)〜(F)は第8図に示す磁気ヘッドの製造
工程の一例を示す図、 第10図は本発明の更に他の実施例としての磁気ヘッド
を示す斜視図、 第11図(A)〜(L)は第10図に示す磁気ヘッドの
製造工程の一例を示す図。 第12図〜第17図は夫々第10図に示す磁気ヘッドの
変形例を示す図である。 図中21a、21bは夫々酸化物磁性材よりなる部分、
22a、22bは夫々磁性金属膜よりなる部分、23a
、23b、23c、23dは夫々非磁性材よりなる部分
、24は巻線窓、25は磁気ギャップ部を夫々示す。 第6図(6) 第6図(H) 胃6図(1) 顎(/ [8(C) 〒qQ(D) 筋11口(E) 筋110(F) 殖
Claims (2)
- (1)酸化物磁性体上に磁性金属膜を被着してなるコア
ハーフ同志を被着面間に配した磁気ギャップ材を介して
突合わせてなる磁気ヘッドであって、その媒体摺接面に
おいて、磁気ギャップの両端部に夫々接する非磁性体を
配すると共に該非磁性体を配する領域が少なくとも前記
磁気ギャップの両端部近傍で前記磁気ギャップに対して
略直交する様になし、かつ前記磁性金属膜を前記コアハ
ーフの一方に接する前記非磁性体領域外縁の一方に沿っ
て延在させることを特徴とする磁気ヘッド。 - (2)前記非磁性体領域のトラック幅方向についての幅
が前記磁気ギャップ近傍では一定で、かつ該領域幅が連
続的に変化する部分を有することを特徴とする特許請求
の範囲第(1)項記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22656885A JPS6286511A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツド |
| DE19863634305 DE3634305A1 (de) | 1985-10-09 | 1986-10-08 | Magnetkopf |
| US07/353,234 US4953048A (en) | 1985-10-09 | 1989-05-17 | Magnetic head with specific gap structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22656885A JPS6286511A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6286511A true JPS6286511A (ja) | 1987-04-21 |
Family
ID=16847198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22656885A Pending JPS6286511A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6286511A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125509A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS63228403A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Akai Electric Co Ltd | 磁気ヘツドおよび磁気ヘツドの製造方法 |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP22656885A patent/JPS6286511A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125509A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS63228403A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Akai Electric Co Ltd | 磁気ヘツドおよび磁気ヘツドの製造方法 |
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