JPS6286516A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6286516A JPS6286516A JP22676385A JP22676385A JPS6286516A JP S6286516 A JPS6286516 A JP S6286516A JP 22676385 A JP22676385 A JP 22676385A JP 22676385 A JP22676385 A JP 22676385A JP S6286516 A JPS6286516 A JP S6286516A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- thin film
- lower core
- substrate
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、磁気異方性を向上させかつ製造歩留シを改善
した薄膜磁気ヘッドに関する。
した薄膜磁気ヘッドに関する。
従来の薄膜磁気ヘッドは、宮人、他、「高密度磁気記録
シート用薄膜ヘッド」、電気通信学会技報、ＭＲ８４−
１２，１９８４，６，ＰＰ ５５〜６０に示されている
ように、基板上に下部磁性膜（下部コア）を形成し、次
に層間材、コイル導体および上部磁性材（上部コア）等
を順次形成し、かつそれらをパターニングすることによ
り所望の形状のコイルおよび上部コアを得、薄膜ヘッド
化している。しかし、下部コアの形状については、基板
上でパターニングされていない。このため、下部コアの
磁気異方性の向上および製造歩留シの改善の点について
は配慮されていなかった０この点について第８図によフ
説明する〇 第８図は従来技術における下部コアに生じる磁化容易軸
を説明する交めの基板上面図であって。
シート用薄膜ヘッド」、電気通信学会技報、ＭＲ８４−
１２，１９８４，６，ＰＰ ５５〜６０に示されている
ように、基板上に下部磁性膜（下部コア）を形成し、次
に層間材、コイル導体および上部磁性材（上部コア）等
を順次形成し、かつそれらをパターニングすることによ
り所望の形状のコイルおよび上部コアを得、薄膜ヘッド
化している。しかし、下部コアの形状については、基板
上でパターニングされていない。このため、下部コアの
磁気異方性の向上および製造歩留シの改善の点について
は配慮されていなかった０この点について第８図によフ
説明する〇 第８図は従来技術における下部コアに生じる磁化容易軸
を説明する交めの基板上面図であって。
１は基板、２は磁壁％ ３は磁化容易軸である。
同図において、磁化容易軸３がトラック幅と直 交す
る方向に向いてしまった場合、基板１上の位置の違いに
より各ヘッドチップのトラック部での異方性バラツキと
なシ、ひいては性能バラツキとなる。薄膜ヘッドにおい
ては、磁化容易軸をトラック幅方向に形成することが良
いことが知らｎている。しかし、下部コアを成膜時に磁
化容易軸がトラック幅方向に向くように成膜しても、後
のプロセス条件、たとえはスパッタリング等において磁
界中で基板を加熱し几場合には、磁化容易軸が容易に回
軸してしまう問題があり九〇 また、スパッタリング法による膜形成時には膜面に大き
いもので数百μｍの凸起物が生じることがらシ、この凸
起が配線部等のパターニング時に断線もしくはショート
等の発生原因となｐ％鯛造歩留りの低下につながってい
九〇 下部コアをバターニングし次従来例としては。
る方向に向いてしまった場合、基板１上の位置の違いに
より各ヘッドチップのトラック部での異方性バラツキと
なシ、ひいては性能バラツキとなる。薄膜ヘッドにおい
ては、磁化容易軸をトラック幅方向に形成することが良
いことが知らｎている。しかし、下部コアを成膜時に磁
化容易軸がトラック幅方向に向くように成膜しても、後
のプロセス条件、たとえはスパッタリング等において磁
界中で基板を加熱し几場合には、磁化容易軸が容易に回
軸してしまう問題があり九〇 また、スパッタリング法による膜形成時には膜面に大き
いもので数百μｍの凸起物が生じることがらシ、この凸
起が配線部等のパターニング時に断線もしくはショート
等の発生原因となｐ％鯛造歩留りの低下につながってい
九〇 下部コアをバターニングし次従来例としては。
Ｒｏ’ｂｅｒｔ Ｅ、 Ｊｏｎｅｓ、 Ｊｒ、、 「
ＩＢＭ３３７０ Ｆ’ｉ１ｍＨｅａｄ Ｄｅｓｉｇｎ
ａｎｄ Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ Ｊ Ｉ Ｂ Ｍ
ＤｉｓｋＳｔｏｒａｇｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、
Ｆｅｂｒｕａｒｙ １９８０ に示さｎている。
ＩＢＭ３３７０ Ｆ’ｉ１ｍＨｅａｄ Ｄｅｓｉｇｎ
ａｎｄ Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ Ｊ Ｉ Ｂ Ｍ
ＤｉｓｋＳｔｏｒａｇｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、
Ｆｅｂｒｕａｒｙ １９８０ に示さｎている。
しかし、 ＴｉｔＳコア形状は磁気異方性の向上という
点については、前記例と同様に配Ｍ、炉なされていなか
った。
点については、前記例と同様に配Ｍ、炉なされていなか
った。
本発明の目的は、薄膜磁気ヘッドにおける下部磁性材（
下部コア）の構造を最適化することによシ、磁気異方性
の同上および製造歩留シの改Ｗｔ−達成することのでき
る薄膜磁気ヘッドを提供するにある。
下部コア）の構造を最適化することによシ、磁気異方性
の同上および製造歩留シの改Ｗｔ−達成することのでき
る薄膜磁気ヘッドを提供するにある。
この目的を達成する次めに１本発Ｆ！Ａは、下部コアを
、各ヘッドチップのトラック部に基板上での位置の違い
による影響がないような構造で形成すること、ま次スパ
ッタリング時における凸起が配線部等に現わｎないよう
Ｋすることで従来技術の欠点が解決できることを究明し
、その形状をトラック幅方向に長くしてトラック幅方向
の反磁界係数が最も小であるように下部コアをバターニ
ングし、プロセス中で加熱および磁界の印加がなされて
も形状効果で磁気異方性をトラック幅方向に保持１制御
できるようＫした点に特徴がある。
、各ヘッドチップのトラック部に基板上での位置の違い
による影響がないような構造で形成すること、ま次スパ
ッタリング時における凸起が配線部等に現わｎないよう
Ｋすることで従来技術の欠点が解決できることを究明し
、その形状をトラック幅方向に長くしてトラック幅方向
の反磁界係数が最も小であるように下部コアをバターニ
ングし、プロセス中で加熱および磁界の印加がなされて
も形状効果で磁気異方性をトラック幅方向に保持１制御
できるようＫした点に特徴がある。
本発明は、上記のような構成とすることで下部コアから
の凸起物等による配線の断線およびショート等による製
造歩留りの低下を改善しようとするものである。また、
薄膜技術によるパターニング時には、被バターニング面
は平坦に近一方が有利であるので、下部コア材を基板も
しくは層間材等に埋め込み、表面をラッピングあるいは
平坦化プロセスを施すことで表面を平坦化してヘッドチ
ップを製造する方法が有利となる。
の凸起物等による配線の断線およびショート等による製
造歩留りの低下を改善しようとするものである。また、
薄膜技術によるパターニング時には、被バターニング面
は平坦に近一方が有利であるので、下部コア材を基板も
しくは層間材等に埋め込み、表面をラッピングあるいは
平坦化プロセスを施すことで表面を平坦化してヘッドチ
ップを製造する方法が有利となる。
以下１本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドを薄膜マルチトラ
ック記録ヘッドに適用した第一の実施例を示す断面図、
第２図は下部コア材の上面図、第６図（ａ）、 （ｂ）
は下部コアの形成方法を説明するための工程図、第４図
は第５図（ａ）の方法で形成した下部コアを用いた薄膜
磁気ヘッドの上面図である。
ック記録ヘッドに適用した第一の実施例を示す断面図、
第２図は下部コア材の上面図、第６図（ａ）、 （ｂ）
は下部コアの形成方法を説明するための工程図、第４図
は第５図（ａ）の方法で形成した下部コアを用いた薄膜
磁気ヘッドの上面図である。
第１図において、２１は非磁性の基板、２２は下部コア
、２６は信号コイル、２４は共通バイアスコイル、２５
は層間材、２６は上部コア、２７は保論膜および接合層
、２８は保繰板、２９はコア接続部である。
、２６は信号コイル、２４は共通バイアスコイル、２５
は層間材、２６は上部コア、２７は保論膜および接合層
、２８は保繰板、２９はコア接続部である。
第２図において、２１は非磁性の基板、３２は下部コア
用溝である◎ 第３図において（ａ）、（ｂ）はそれぞれ基板のＡ −
Ａ’断面からみ次工程図で、２１は非磁性の基板、３２
は下部コア用溝、２２は下部コア、４５はマスク材、４
６は樹脂である。
用溝である◎ 第３図において（ａ）、（ｂ）はそれぞれ基板のＡ −
Ａ’断面からみ次工程図で、２１は非磁性の基板、３２
は下部コア用溝、２２は下部コア、４５はマスク材、４
６は樹脂である。
第４図において、２１１Ｉ′ｉ非磁性の基板％ ２２は
下部コア、２５．２４はコイル、２６は上部コア、２９
はコア接続部である。
下部コア、２５．２４はコイル、２６は上部コア、２９
はコア接続部である。
第１図に示した薄膜マルチトラック記録ヘッドは、トラ
ック幅’ｒ、 ＝ ６５μｍ、）ラックピッチで。
ック幅’ｒ、 ＝ ６５μｍ、）ラックピッチで。
＝８０μｍ、 ）ラック数は２２であり、共通バイア
スコイル付１層１ターンでコイルが形成されている。各
コイル２５．２４は層間材２５で互いに絶縁され、かつ
上、下部コア２６．２２に挾まれた構造となっている◇ 下部コア材は、第２図および第６図（＆）Ｋ示すように
、非磁性の基板２１にヘッドチップのピッチＨｐ＝６ｒ
ｎｍでグイサーを用いて下部コア用溝５２を深さ３０μ
ｍ％＠ｈ＝３００μｍで形成し、これに第１図に示した
下部コア材２２としてＣｏ−Ｎ１）−Ｚｒ系アモルファ
ス膜を膜厚５０μｍでスパッタリング形成した後、下部
コア用溝３２の深さが２０μｍになるまでラッピングし
て、トラック幅方向に帯状の下部コアを得るものである
。そして。
スコイル付１層１ターンでコイルが形成されている。各
コイル２５．２４は層間材２５で互いに絶縁され、かつ
上、下部コア２６．２２に挾まれた構造となっている◇ 下部コア材は、第２図および第６図（＆）Ｋ示すように
、非磁性の基板２１にヘッドチップのピッチＨｐ＝６ｒ
ｎｍでグイサーを用いて下部コア用溝５２を深さ３０μ
ｍ％＠ｈ＝３００μｍで形成し、これに第１図に示した
下部コア材２２としてＣｏ−Ｎ１）−Ｚｒ系アモルファ
ス膜を膜厚５０μｍでスパッタリング形成した後、下部
コア用溝３２の深さが２０μｍになるまでラッピングし
て、トラック幅方向に帯状の下部コアを得るものである
。そして。
この上に薄膜形成技術を用いて信号コイル２３、共通バ
イアスコイル２４をアルミニウムでパターニングし、上
部コア２６は下部コア２２と同一材料で膜厚２０μｍの
スパッタリングにょシバターニング全行なった。
イアスコイル２４をアルミニウムでパターニングし、上
部コア２６は下部コア２２と同一材料で膜厚２０μｍの
スパッタリングにょシバターニング全行なった。
層間材およびギャップ材である２５は、５ｉＯｚ膜を用
いた。なお、フロントギャップ長ｇｌ！はｇ／＝α５μ
ｍとし、上下の各部コアはリアコア接続部２９で接続し
た。
いた。なお、フロントギャップ長ｇｌ！はｇ／＝α５μ
ｍとし、上下の各部コアはリアコア接続部２９で接続し
た。
第１図および第４図に示すように、下部コア２２は上部
コア２６の下をヘッドチップの端部を結ぶように走って
おシ、上部コア２６とはコア接続部２９で接続されるこ
とは上記のとおシである。
コア２６の下をヘッドチップの端部を結ぶように走って
おシ、上部コア２６とはコア接続部２９で接続されるこ
とは上記のとおシである。
上記トラック幅方向に帯状の下部コアと、バタ一二ング
レないで全面形成した下部コアとを比較した結果、前者
は後者に比べて記録効率で５ｄＢの向上、ヘッドチップ
バラツキで１ｄＢの範囲に入った。
レないで全面形成した下部コアとを比較した結果、前者
は後者に比べて記録効率で５ｄＢの向上、ヘッドチップ
バラツキで１ｄＢの範囲に入った。
さらに、製造歩留りでは５０％の向上が得られたＯ
次に、本発明による薄膜磁気ヘッドの第二の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
この実施例において、ヘッド構成は第一の実施例と同様
であり、下部コアの形成を第３図（ｂｌに示す方法を用
いて行なったものである〇 第５図（ｂ）において、平坦な非磁性の基板２１上にｃ
ｏ −Ｎ１） −Ｚｒ系アモルフコア膜２２を厚さ２０
μｍにスパッタリングした後、マスク材４５を形成しこ
れを薄膜技術を用いて帯状にパターニングした・つぎに
、ホリイミド系樹脂４６を２５μｍの膜厚で塗布し念。
であり、下部コアの形成を第３図（ｂｌに示す方法を用
いて行なったものである〇 第５図（ｂ）において、平坦な非磁性の基板２１上にｃ
ｏ −Ｎ１） −Ｚｒ系アモルフコア膜２２を厚さ２０
μｍにスパッタリングした後、マスク材４５を形成しこ
れを薄膜技術を用いて帯状にパターニングした・つぎに
、ホリイミド系樹脂４６を２５μｍの膜厚で塗布し念。
これを平坦化プロセスを用いて樹脂４６と下部コア２２
の面を膜厚２ｏμｍに平坦化することで下部コア２２を
樹脂４６に埋め込み、さらに第一の実施例のものと同様
に信号コイル、共通バイヤスコイル、層間材および上部
コアを形成して薄膜磁気ヘッドを得た。
の面を膜厚２ｏμｍに平坦化することで下部コア２２を
樹脂４６に埋め込み、さらに第一の実施例のものと同様
に信号コイル、共通バイヤスコイル、層間材および上部
コアを形成して薄膜磁気ヘッドを得た。
第５図は本発明による薄膜磁気ヘッドの第三の実施例を
示す断面図であって、６１は非磁性の基板、６２は下部
コア、６３は信号コイル、６４は共通バイアスコイル、
６５は層間材およびキャップ材、６６Ｆｉ、上部コア、
６７は保護膜および接合層、６８は保＠板、６９はコア
接続部である。
示す断面図であって、６１は非磁性の基板、６２は下部
コア、６３は信号コイル、６４は共通バイアスコイル、
６５は層間材およびキャップ材、６６Ｆｉ、上部コア、
６７は保護膜および接合層、６８は保＠板、６９はコア
接続部である。
同図において、この実施例のヘッド構成は第一の実施例
と同様であるが、平坦な基８！６１上に下部コア材をス
パッタリングした後、コア端部をテーバ−エツチングし
て下部コア６２を形成し、た〇これにＪ＊次ココイル６
５６４．上部コア６６等をパターニング形成して薄膜磁
気ヘッドを得た。
と同様であるが、平坦な基８！６１上に下部コア材をス
パッタリングした後、コア端部をテーバ−エツチングし
て下部コア６２を形成し、た〇これにＪ＊次ココイル６
５６４．上部コア６６等をパターニング形成して薄膜磁
気ヘッドを得た。
・第６図は本発明による薄膜磁気ヘッドの第四の実施例
を示す上面図であって、２ヘツドの電子カメラ用薄膜磁
気ヘッドに通用し比例であ夛、７１は非磁性の基板、７
２は下部コア、７３はコイル。
を示す上面図であって、２ヘツドの電子カメラ用薄膜磁
気ヘッドに通用し比例であ夛、７１は非磁性の基板、７
２は下部コア、７３はコイル。
７６は上部コア、７９はコア接合部である。
同図において、このヘッドは、トラック幅Ｔ、＝６０μ
ｍ％ トラック間隔Ｔ、１ ＝ ４０μｍの２トラツク
ヘツドで、上部コア７６、コイル７３等の下に下部コア
７２ｔ−基板７１上にトラック幅方向に長く形成すると
共に、トラック摺動部分を他の部分よシ突出させてパタ
ーニングし念０このような構成においても、磁気異方性
が向上し、製造歩留りが改善でき九〇 第７図は、第６図に示した実施例の薄膜磁気ヘッドの下
部コア寸法の横縦比とヘッド出力の関係を示すクラスで
あって、横軸は下部コア寸法の横縦比（横はトラック幅
方向）を、縦軸はヘッド出力（ｄＢ）である〇 同図において、下部コア寸法の横縦比が２くらいから良
好なヘッド出力が得られ、５以上とするとさらによい結
果が得られることかわかる。
ｍ％ トラック間隔Ｔ、１ ＝ ４０μｍの２トラツク
ヘツドで、上部コア７６、コイル７３等の下に下部コア
７２ｔ−基板７１上にトラック幅方向に長く形成すると
共に、トラック摺動部分を他の部分よシ突出させてパタ
ーニングし念０このような構成においても、磁気異方性
が向上し、製造歩留りが改善でき九〇 第７図は、第６図に示した実施例の薄膜磁気ヘッドの下
部コア寸法の横縦比とヘッド出力の関係を示すクラスで
あって、横軸は下部コア寸法の横縦比（横はトラック幅
方向）を、縦軸はヘッド出力（ｄＢ）である〇 同図において、下部コア寸法の横縦比が２くらいから良
好なヘッド出力が得られ、５以上とするとさらによい結
果が得られることかわかる。
以上説明したように１本発明によれは、磁化容易軸は形
状効果で規定されるため各ヘッドチップ共にバラツキの
少ない特性を得ることができ、さらに下部コアの面積が
減少したことＫより下部コアからの凸起物による配線部
の断線およびショート等の不良が減少し、磁気異方性の
向と共に製造歩留シを大幅に改善することができ、上記
従来技術の欠点を除いて優れた機能の薄膜磁気ヘッドを
提供することができる。
状効果で規定されるため各ヘッドチップ共にバラツキの
少ない特性を得ることができ、さらに下部コアの面積が
減少したことＫより下部コアからの凸起物による配線部
の断線およびショート等の不良が減少し、磁気異方性の
向と共に製造歩留シを大幅に改善することができ、上記
従来技術の欠点を除いて優れた機能の薄膜磁気ヘッドを
提供することができる。
第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの第一の実施例を
示す断面図、第２図は下部コア材の上面図、第３図（ａ
ｔ、 （ｂ）は下部コアの形成方法を説明する工程図、
第４図は第５図（ａ）の方法で形成した下部コアを用い
友薄膜磁気ヘッドの上面図、第５図は本発明による薄膜
磁気ヘッドの第三の実施例を示す断面図、第６図は本発
明による薄膜磁気ヘッドの第四の実施例を示す上面図、
第７図は第６図に示した薄膜磁気ヘッドの下部コア寸法
とヘッド出力との関係を示すグラフ、第８図は従来技術
における下部コアに生じる磁化容易軸を説明するための
基板上面図である。 ２１．６１．７１・・・非磁性の基板、２２，６２゜７
２・・・下部コア、２３，６３．７５・・・信号コイル
。 ２４．６４・・・共通バイアスコイル、２５．６５・・
・層間材、２６，６６．７６・・・上部コア、２７．６
７保膿材および接合層、２８．６８・・・保護板、２９
゜６９．７９・・・コア接続部％ ４５・・・マスク材
、４６・・・樹脂。 Ａ３０ １１図 藁２０ ｆ Ｍ ＋ ｌＩ ２４ ’コ 鷹３日 。 累５１ １ｉＡＧ面
示す断面図、第２図は下部コア材の上面図、第３図（ａ
ｔ、 （ｂ）は下部コアの形成方法を説明する工程図、
第４図は第５図（ａ）の方法で形成した下部コアを用い
友薄膜磁気ヘッドの上面図、第５図は本発明による薄膜
磁気ヘッドの第三の実施例を示す断面図、第６図は本発
明による薄膜磁気ヘッドの第四の実施例を示す上面図、
第７図は第６図に示した薄膜磁気ヘッドの下部コア寸法
とヘッド出力との関係を示すグラフ、第８図は従来技術
における下部コアに生じる磁化容易軸を説明するための
基板上面図である。 ２１．６１．７１・・・非磁性の基板、２２，６２゜７
２・・・下部コア、２３，６３．７５・・・信号コイル
。 ２４．６４・・・共通バイアスコイル、２５．６５・・
・層間材、２６，６６．７６・・・上部コア、２７．６
７保膿材および接合層、２８．６８・・・保護板、２９
゜６９．７９・・・コア接続部％ ４５・・・マスク材
、４６・・・樹脂。 Ａ３０ １１図 藁２０ ｆ Ｍ ＋ ｌＩ ２４ ’コ 鷹３日 。 累５１ １ｉＡＧ面
Claims (3)
- （１）非磁性の基板、下部コア、層間材、導体コイル、
上部コアおよび保護板を少くとも有する薄膜磁気ヘッド
において、前記下部コアをトラック幅方向に長く帯状に
パターニングした構造を持つことを特徴とする薄膜磁気
ヘッド。 - （２）特許請求の範囲（１）項記載の薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記下部コアを前記基板もしくは前記層間材に
埋め込んだ構造を持つことを特徴とする薄膜磁気ヘッド
。 - （３）特許請求の範囲（１）項記載の薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記下部コアの寸法を、横（トラック幅方向）
／縦の比が２以上とした構造をもつことを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22676385A JPS6286516A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22676385A JPS6286516A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6286516A true JPS6286516A (ja) | 1987-04-21 |
Family
ID=16850230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22676385A Pending JPS6286516A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6286516A (ja) |
-
1985
- 1985-10-14 JP JP22676385A patent/JPS6286516A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5168409A (en) | Integrated magnetic head having a magnetic layer functioning as both a magnetic shield and a magnetic pole | |
| US4789910A (en) | Thin film magnetic head with an application type silicon dioxide film | |
| JPS5971112A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0576682B2 (ja) | ||
| JPS63173213A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH04351706A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッド | |
| US5373408A (en) | Configuring domain pattern in thin films of magnetic heads | |
| JPH07118057B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60175208A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS6286516A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH10247305A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6337811A (ja) | ヨ−クタイプ磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘツド | |
| JPS635803B2 (ja) | ||
| US6134078A (en) | High sensitivity, low distortion yoke-type magnetoresistive head | |
| JPH0298803A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6247813A (ja) | ダブルアジマス薄膜磁気ヘツド | |
| JPH04274014A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS5971124A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド | |
| JP2891817B2 (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
| JP2528860B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS6398815A (ja) | 垂直磁気記録用薄膜ヘツド | |
| JP2977112B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0346109A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS5975422A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| KR0134458B1 (ko) | 테이프레코더의 회전드럼용 헤드조립체 제조방법 |