JPS6286546A - 磁気デイスク製造方法 - Google Patents
磁気デイスク製造方法Info
- Publication number
- JPS6286546A JPS6286546A JP22474085A JP22474085A JPS6286546A JP S6286546 A JPS6286546 A JP S6286546A JP 22474085 A JP22474085 A JP 22474085A JP 22474085 A JP22474085 A JP 22474085A JP S6286546 A JPS6286546 A JP S6286546A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic disk
- magnetic field
- paint
- substrate
- Prior art date
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- Granted
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、基板表面に磁性塗料を塗布し、磁場配向、硬
化、塗膜加工を行う磁気ディスクの製造方法に係り、特
に高耐摺動性を必要とする磁気ディスクに好適な磁気デ
ィスク製造方法に関するものである。
化、塗膜加工を行う磁気ディスクの製造方法に係り、特
に高耐摺動性を必要とする磁気ディスクに好適な磁気デ
ィスク製造方法に関するものである。
塗布形磁気ディスクにおいては、高密度記録を実現させ
るため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の間隔（スペ
ーシング）を低減することが必要であり、そのため、表
面の平滑化と同時に接触時の耐摺動性が高いことが必要
である。
るため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の間隔（スペ
ーシング）を低減することが必要であり、そのため、表
面の平滑化と同時に接触時の耐摺動性が高いことが必要
である。
このため、従来から磁場配向、硬化後の塗膜を研削テー
プ等により加工を行っている（例えば特開昭５３−６１
３０９ ”） 、 Ｌかし、この磁場配向、加工時の磁
気ディスクの回転方向には特に注意が向けられておらず
、耐摺動性が低い欠点があった。
プ等により加工を行っている（例えば特開昭５３−６１
３０９ ”） 、 Ｌかし、この磁場配向、加工時の磁
気ディスクの回転方向には特に注意が向けられておらず
、耐摺動性が低い欠点があった。
本発明の目的は上記した欠点を除き、耐摺動性の高い磁
気ディスクを製造する方法を提供するものである。
気ディスクを製造する方法を提供するものである。
本発明は、塗膜加工時と磁場配向時の磁気ディスク回転
方向に着目し、両者を同一回転方向とした時、耐摺動性
の向上のため塗膜中に添加されている高硬度微粒子の脱
落が少なく、耐摺動性が高いという発見に基づくもので
ある。
方向に着目し、両者を同一回転方向とした時、耐摺動性
の向上のため塗膜中に添加されている高硬度微粒子の脱
落が少なく、耐摺動性が高いという発見に基づくもので
ある。
［発明の実施例〕
以下本発明を実施例により説明する。
磁性粒子として針状γ−Ｆｅ、Ｏ１を用い、高硬度微小
粒子（フィラー）としてα−Ａｌ！、０３単結晶を用い
、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などを含む熱硬化性樹
脂中に分散させる０分散方法としてはたとえば特開昭５
５−２５４０６あるいは特開昭５６−１６０８７１に開
示されている方法が用いられる。この様にして作成され
た塗料を基板の両面にスピンコードする。ついで未硬化
磁性塗膜を磁場中で回転させ、磁場配向を行う。磁場配
向方法としては特公昭５２−１１２１０に開示されてい
る方法を用いた。
粒子（フィラー）としてα−Ａｌ！、０３単結晶を用い
、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などを含む熱硬化性樹
脂中に分散させる０分散方法としてはたとえば特開昭５
５−２５４０６あるいは特開昭５６−１６０８７１に開
示されている方法が用いられる。この様にして作成され
た塗料を基板の両面にスピンコードする。ついで未硬化
磁性塗膜を磁場中で回転させ、磁場配向を行う。磁場配
向方法としては特公昭５２−１１２１０に開示されてい
る方法を用いた。
この時の磁気ディスクと磁石との相対移動方向を磁気デ
ィスクが装置に組込まれた時の磁気ヘッドとの相対移動
方向と同じとした。
ィスクが装置に組込まれた時の磁気ヘッドとの相対移動
方向と同じとした。
この様に磁場配向を行った塗膜を硬化炉中に入れ２２０
℃で４時間加熱硬化を行った。加熱硬化を行った磁気デ
ィスクの塗膜にアルミナ砥粒を含む研削テープを背面か
ら円筒ゴムローラにて押し付け、加工液を流し、冷却し
ながら表面を研削加工した。加工は両面同時に行った。
℃で４時間加熱硬化を行った。加熱硬化を行った磁気デ
ィスクの塗膜にアルミナ砥粒を含む研削テープを背面か
ら円筒ゴムローラにて押し付け、加工液を流し、冷却し
ながら表面を研削加工した。加工は両面同時に行った。
この時磁気ディスクを一定方向で回転させるが、この回
転方向を磁場配向時の磁気ディスクの回転方向と同一と
する。
転方向を磁場配向時の磁気ディスクの回転方向と同一と
する。
この後磁気ディスク表面に付着した加工液および研削屑
を純水を流しながら布テープを押し付けて磁気ディスク
をテープ研削加工時と同一回転方向に回転させ、除去す
る。そして、磁気ディスクを高速回転させ水を振り切り
乾燥させる。
を純水を流しながら布テープを押し付けて磁気ディスク
をテープ研削加工時と同一回転方向に回転させ、除去す
る。そして、磁気ディスクを高速回転させ水を振り切り
乾燥させる。
以上の様にして形成された磁気ディスクをパーフルオロ
アルキルポリエーテル（ＰＦＰＥ）のフレオン溶液中に
浸漬し引き上げることにより磁性膜表面にＰＥＰＦ潤滑
膜を形成した。
アルキルポリエーテル（ＰＦＰＥ）のフレオン溶液中に
浸漬し引き上げることにより磁性膜表面にＰＥＰＦ潤滑
膜を形成した。
この様にして形成した磁気ディスクの耐摺動性を測るた
め、曲率半径３０ｍｍの球面を持つアルミナ摺動子を磁
気ディスクを磁性膜の表面に荷重２０ｇで押し付け、磁
気ディスクを周速２０ｍ／ｓｅｃになる横回転させ、ナ
ルミナ摺動子に加わるＭ振力が急増するまでの磁気ディ
スクの総回転数Ｎｔ＆調べた。
め、曲率半径３０ｍｍの球面を持つアルミナ摺動子を磁
気ディスクを磁性膜の表面に荷重２０ｇで押し付け、磁
気ディスクを周速２０ｍ／ｓｅｃになる横回転させ、ナ
ルミナ摺動子に加わるＭ振力が急増するまでの磁気ディ
スクの総回転数Ｎｔ＆調べた。
実施例の回転方向の場合（磁場配向と加工方向同一）Ｎ
＝３万回であったが、全く同一製造方法で硬化までした
磁気ディスクで加工方向だけを磁場配向と逆方向とした
場合Ｎ＝２万回であり１本発明の磁気ディスク製造方法
により耐摺動性が向上したことがわかる。
＝３万回であったが、全く同一製造方法で硬化までした
磁気ディスクで加工方向だけを磁場配向と逆方向とした
場合Ｎ＝２万回であり１本発明の磁気ディスク製造方法
により耐摺動性が向上したことがわかる。
この時の磁気ディスク面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で
観察したところ、本発明の方法により製造された磁気デ
ィスクは表面のフィラー粒子密度が高く、これが耐摺動
性が向上した理由であることがわかった０両者は硬化ま
では全く同一工程でありこの違いはテープ研削加工時の
フィラーの脱落が本発明の方法では少ないことが原因で
ある。
観察したところ、本発明の方法により製造された磁気デ
ィスクは表面のフィラー粒子密度が高く、これが耐摺動
性が向上した理由であることがわかった０両者は硬化ま
では全く同一工程でありこの違いはテープ研削加工時の
フィラーの脱落が本発明の方法では少ないことが原因で
ある。
以上、要するに本発明によれば、塗膜加工時のフィラー
の脱落を減少させることができ、磁気ディスクの耐摺動
性を約１．５倍に向上させることかできる。
の脱落を減少させることができ、磁気ディスクの耐摺動
性を約１．５倍に向上させることかできる。
、・−・
Claims (1)
- 磁性粒子と高硬度微粒子とを熱硬化性樹脂中に分散させ
た磁性塗料を基板上に塗布する工程と、上記塗布済基板
を磁場中で回転させ、塗料中の磁性粒子を希望の方向に
向ける磁場配向工程と、上記磁場配向された基板上の磁
性塗料を硬化させる工程と、上記硬化後の磁性塗膜表面
を基板を回転させて平滑化する塗膜加工工程とを持つ磁
気ディスク製造方法において、上記磁場配向時のディス
ク回転方向と、上記塗膜加工時のディスク回転方向を同
一方向としたことを特徴とする磁気ディスク製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22474085A JPS6286546A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 磁気デイスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22474085A JPS6286546A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 磁気デイスク製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6286546A true JPS6286546A (ja) | 1987-04-21 |
| JPH0531213B2 JPH0531213B2 (ja) | 1993-05-12 |
Family
ID=16818495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22474085A Granted JPS6286546A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 磁気デイスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6286546A (ja) |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP22474085A patent/JPS6286546A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0531213B2 (ja) | 1993-05-12 |
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