JPS6287547A - 4―アリールメチレン―5―アルケニリデン―2―シクロペンテノン類 - Google Patents
4―アリールメチレン―5―アルケニリデン―2―シクロペンテノン類Info
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- JPS6287547A JPS6287547A JP60224919A JP22491985A JPS6287547A JP S6287547 A JPS6287547 A JP S6287547A JP 60224919 A JP60224919 A JP 60224919A JP 22491985 A JP22491985 A JP 22491985A JP S6287547 A JPS6287547 A JP S6287547A
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- Japan
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- cyclopentenones
- arylmethylene
- alkenylidene
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は4−7!1−ルメチレンー5−フルケニリデン
−2−シクロペンテノン類およびその製法に関する、更
に詳細には優れた制ガン作用。
−2−シクロペンテノン類およびその製法に関する、更
に詳細には優れた制ガン作用。
抗ウィルス作用を有する新規な4−アリールメチレン−
5−アルケニリデン−2−シクロペンテノン類およびそ
の製法に関する。
5−アルケニリデン−2−シクロペンテノン類およびそ
の製法に関する。
く従来技術〉
プロスタグランジン類の中では、その骨格a造の中でシ
クロペンタンm+で2M結合を有するプロスタグランジ
ン類が知ら1ており、こtらが強い制ガン活性を呈する
ことが報告さt″Cいる。例えばPGD、及びその脱水
体PGJ、類はi o−S〜10−@モル秋度の病変で
白血病細胞(+、1210)の増殖金強(抑制すること
が知ら1ている。
クロペンタンm+で2M結合を有するプロスタグランジ
ン類が知ら1ており、こtらが強い制ガン活性を呈する
ことが報告さt″Cいる。例えばPGD、及びその脱水
体PGJ、類はi o−S〜10−@モル秋度の病変で
白血病細胞(+、1210)の増殖金強(抑制すること
が知ら1ている。
(福島ら、特開昭58−124718 :若塚「)、特
開昭59−5155;59−1463参照)。
開昭59−5155;59−1463参照)。
またPGAI H△’ −PGA、類+ PGA4類(
福島、病態生理2(8)、811(1983);癌と化
学療法10 C9) 。
福島、病態生理2(8)、811(1983);癌と化
学療法10 C9) 。
1930(1983)#照) にも同様の活性か認めら
れ、これらはin vlvo KおいC41強い制ガン
活性を示すことが知られている。また最近これらの類縁
体である4−It検−5−アルキリデン−2−シクロペ
ンテノン類の中で階産フロスタグランジン類であるクラ
ブロン、り→ビリデノン’J4 (菊gら、fトり・ヘ
ドロンeレターズCTetrahedron rJet
、t、)、 2:L517H1982)+24+154
9(19831;24,4,133(1983);小林
ら、テトラヘドロンφレターズ(Tetrahedro
n Lett、)+23+5331(1982)、ケミ
カル−アンドφファーマシューナイカル・プレティ゛/
(Cbem、Pharrn Bull、)。
れ、これらはin vlvo KおいC41強い制ガン
活性を示すことが知られている。また最近これらの類縁
体である4−It検−5−アルキリデン−2−シクロペ
ンテノン類の中で階産フロスタグランジン類であるクラ
ブロン、り→ビリデノン’J4 (菊gら、fトり・ヘ
ドロンeレターズCTetrahedron rJet
、t、)、 2:L517H1982)+24+154
9(19831;24,4,133(1983);小林
ら、テトラヘドロンφレターズ(Tetrahedro
n Lett、)+23+5331(1982)、ケミ
カル−アンドφファーマシューナイカル・プレティ゛/
(Cbem、Pharrn Bull、)。
3111440(1!j83)参照〕にも同様の活性を
示す(福島ら、第42回日本g!学会要旨集ε56(1
9831β照)ことが知られている。さ「)にPGJ
、類似化合物ても回付の活性(若塚「)、特開昭58−
216155.59−5154 G照)が知ら第1るよ
へになった。
示す(福島ら、第42回日本g!学会要旨集ε56(1
9831β照)ことが知られている。さ「)にPGJ
、類似化合物ても回付の活性(若塚「)、特開昭58−
216155.59−5154 G照)が知ら第1るよ
へになった。
〈発明の目的〉
本発明者らにかか7)φ実に注目し、これら2−シクロ
ペンテノン類の類縁体でエノン官能基にさらに21g結
合が共役している全く新規な構造の4−アリールメチレ
ン−5−アルケニリデン−2−シクロペンテノン類を得
ろへ<鋭意研究し本発明に至った。
ペンテノン類の類縁体でエノン官能基にさらに21g結
合が共役している全く新規な構造の4−アリールメチレ
ン−5−アルケニリデン−2−シクロペンテノン類を得
ろへ<鋭意研究し本発明に至った。
〈発明の構成及び効果〉
本発明の4−アリールメチレン−5−フルケニリテンー
2−シクロベ/テノン類は下1己式CD1、体またはそ
れらの混合物を表わ−r。 ′で表わされる。
2−シクロベ/テノン類は下1己式CD1、体またはそ
れらの混合物を表わ−r。 ′で表わされる。
上記式〔DVCおいてR1は炭素v、1〜10の置換ま
たは非置換のアル第、、24:を表わす。アルキル基と
しては、例えばメチル、エイール+n’−ブl’1ピル
、n−ペンチル、n 7\キシル、n−デシル等の直
鎖状または分岐状のものをあげ二)・二とが出来る。
たは非置換のアル第、、24:を表わす。アルキル基と
しては、例えばメチル、エイール+n’−ブl’1ピル
、n−ペンチル、n 7\キシル、n−デシル等の直
鎖状または分岐状のものをあげ二)・二とが出来る。
これらのアルギル基は置換されていても良い。
置換基としてはメチル−エチル、n−プpビル基等のア
ルキル基、ヒドロキシ基、および保護さハたヒドロキシ
基、エステル基がある。保護さねたヒドロキシ基として
はt−プチルジメチルシリルオギシ、トリメチルシリル
オキシ、テトラヒドロピラニルオキシ、アセトキシ等を
膳げることか出来る。エステル基としてはメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、n−ブービルオキシカル
ボニル、n−へキシルオキシカルボ−;ル!フェノキシ
カルボニル メチル,プロピオニルオキシメチル、ペンゾイルオAー
ジメチル等をあげることが出来る。これらの飯換基は複
数個置換されて良い。
ルキル基、ヒドロキシ基、および保護さハたヒドロキシ
基、エステル基がある。保護さねたヒドロキシ基として
はt−プチルジメチルシリルオギシ、トリメチルシリル
オキシ、テトラヒドロピラニルオキシ、アセトキシ等を
膳げることか出来る。エステル基としてはメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、n−ブービルオキシカル
ボニル、n−へキシルオキシカルボ−;ル!フェノキシ
カルボニル メチル,プロピオニルオキシメチル、ペンゾイルオAー
ジメチル等をあげることが出来る。これらの飯換基は複
数個置換されて良い。
Mは炭素前6〜12の置換または非置換のフェニル基で
をJす、置喚基としては,メチル、エチル、プロピル等
のアルキル基,ヒドロキシル基,メトキシル基,メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル等のエステル基,フ
ッ素,塩素等のハロゲン基などを挙げることが出来る。
をJす、置喚基としては,メチル、エチル、プロピル等
のアルキル基,ヒドロキシル基,メトキシル基,メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル等のエステル基,フ
ッ素,塩素等のハロゲン基などを挙げることが出来る。
これらの飲換基はフェニル基に対して複数個置換されて
良い。
良い。
かかる4−7リールメチンンー5−アルケニリデン−2
ーシクロベンテノン類の具体例としては例えば、以下の
化合物が挙げられる。
ーシクロベンテノン類の具体例としては例えば、以下の
化合物が挙げられる。
(1)4−ベンジリデン−5−(4−ヒドロキシ−2−
オクプ“ニリデン)−2−シクロペンテノン(化合物A
) (2)4−p−フルオロフェニルメチレン−5−(4−
ヒドロキシ−2−オクテニリデン)−2−シクロペンテ
ノン (3) 4−p−メチルフェニルメチレン−5−(4−
ヒドロキシ−2−オクテニリデン)−2−シクロペンテ
ノン (4) 4−(3.4−ジメトキシフェニル)メチレ
ン−5−(4−ヒドロキシ−2−オクテニリデン)−2
−シクロペンテノン (5)4−ベンジリデン−5 − ( 4.7−シヒド
ロキシー2−へブナニリデン)−2−シクロペンテノン (6) 4−p−フルオロフェニルメチレン−5−(
4.7−)ヒドロキシ−2−へブナニリデンンー2ーシ
クロベンテノン(化合物B) (7)4−p−メチルフェニルメチレン−5−( 4.
7−シヒドロギシー2−へプテニリデン)−2−シクロ
ペンテノン (8) 4−(3.4−ジメトキシフェニル)メチレ
ン−5 (4+7−シヒドロキシー2−へ1テニリデ
ン)−2−シクロペンテノン (9)4−ベンジリデン−5−(4−ヒドロキシ−6−
メドキシカルポニルー2−へキセニリデン)−2−シク
ロペンテノン (lc14−p−フルオロフェニルメチレン−5−(4
−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニル−2−ヘキセニ
リデン)−2−シクロペンテノン 0、U 4−p−メチルフェニルメチレン−5−(4
−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニル−2−へキセニ
リデン)−2−シクロペンテノ〉! (口) 4 − ( 3.4−ジメトキシフェニル)メ
チレン−5−(4−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニ
ル−2−へキセニリデン)−2−シクロペンテノン (口)化合物(1)〜(6)のアルコールのt−ブチル
ジメチルシリルエーテル体 α◆ 化合物(1〉〜0のアルコールのアセテート体α
S 化合物(9)〜aコのカルボン酸体H 化合物(
イ)のエチルエステル体本発明の4−アリールメチレン
−5−アルケニリデン−2ーシクロベンゾノン類は下記
式%式%() 〔式中、Arは前記定撲に同じ。〕 で表わされるフェニルスルフィド類をリチオ化し,これ
に下記式(V) OR” 〔式中、R8はアルコールの保護基を表わす。〕で表わ
される保護された4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノ
ン類を反応せしめ、反応物を下開式〔■〕 で表わされるアルデヒド類で捕促し、下記式い1〕 で表わさrる三成分縮合体を得、これを単#精製するこ
となくR”OHを脱離させ、下記式〔出〕で表わされる
2−シクロペンテノン体ヲ得、これを脱水反応に付し下
記式(II) ph で表わされるフェニルスルフィド類とし、これを酸化し
、pbsoiiを脱離せしめ必要に応じて脱保護反応に
付すことによ抄製造さ4る。
オクプ“ニリデン)−2−シクロペンテノン(化合物A
) (2)4−p−フルオロフェニルメチレン−5−(4−
ヒドロキシ−2−オクテニリデン)−2−シクロペンテ
ノン (3) 4−p−メチルフェニルメチレン−5−(4−
ヒドロキシ−2−オクテニリデン)−2−シクロペンテ
ノン (4) 4−(3.4−ジメトキシフェニル)メチレ
ン−5−(4−ヒドロキシ−2−オクテニリデン)−2
−シクロペンテノン (5)4−ベンジリデン−5 − ( 4.7−シヒド
ロキシー2−へブナニリデン)−2−シクロペンテノン (6) 4−p−フルオロフェニルメチレン−5−(
4.7−)ヒドロキシ−2−へブナニリデンンー2ーシ
クロベンテノン(化合物B) (7)4−p−メチルフェニルメチレン−5−( 4.
7−シヒドロギシー2−へプテニリデン)−2−シクロ
ペンテノン (8) 4−(3.4−ジメトキシフェニル)メチレ
ン−5 (4+7−シヒドロキシー2−へ1テニリデ
ン)−2−シクロペンテノン (9)4−ベンジリデン−5−(4−ヒドロキシ−6−
メドキシカルポニルー2−へキセニリデン)−2−シク
ロペンテノン (lc14−p−フルオロフェニルメチレン−5−(4
−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニル−2−ヘキセニ
リデン)−2−シクロペンテノン 0、U 4−p−メチルフェニルメチレン−5−(4
−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニル−2−へキセニ
リデン)−2−シクロペンテノ〉! (口) 4 − ( 3.4−ジメトキシフェニル)メ
チレン−5−(4−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニ
ル−2−へキセニリデン)−2−シクロペンテノン (口)化合物(1)〜(6)のアルコールのt−ブチル
ジメチルシリルエーテル体 α◆ 化合物(1〉〜0のアルコールのアセテート体α
S 化合物(9)〜aコのカルボン酸体H 化合物(
イ)のエチルエステル体本発明の4−アリールメチレン
−5−アルケニリデン−2ーシクロベンゾノン類は下記
式%式%() 〔式中、Arは前記定撲に同じ。〕 で表わされるフェニルスルフィド類をリチオ化し,これ
に下記式(V) OR” 〔式中、R8はアルコールの保護基を表わす。〕で表わ
される保護された4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノ
ン類を反応せしめ、反応物を下開式〔■〕 で表わされるアルデヒド類で捕促し、下記式い1〕 で表わさrる三成分縮合体を得、これを単#精製するこ
となくR”OHを脱離させ、下記式〔出〕で表わされる
2−シクロペンテノン体ヲ得、これを脱水反応に付し下
記式(II) ph で表わされるフェニルスルフィド類とし、これを酸化し
、pbsoiiを脱離せしめ必要に応じて脱保護反応に
付すことによ抄製造さ4る。
上記式〔V)においてR2はアルコールの保護基を表わ
し、例えばト!J (C,〜C,)炭化水素−シリル基
又は水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成する
基等を挙げろことができろ。
し、例えばト!J (C,〜C,)炭化水素−シリル基
又は水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成する
基等を挙げろことができろ。
) !I (C,〜C,)炭化水素シリル基としては、
例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル。
例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル。
t−ブチルジメチルシリル基のm # トIJ (C,
〜C4)アルキルシリル+t 7’チルジフエニルシ
リル基の如きジフェニル(C,〜C4)アルキルシリル
又はトリベンジルシリル基等を好ましいものとして挙げ
ることができる。
〜C4)アルキルシリル+t 7’チルジフエニルシ
リル基の如きジフェニル(C,〜C4)アルキルシリル
又はトリベンジルシリル基等を好ましいものとして挙げ
ることができる。
水酸基の酸素原子と共に7セタ一ル結合を形成する基と
しては、例えばメトキシメチルー−エトキシエチル、2
−メトキシ−2−プロピル、2−エトキシ−2−プロピ
ル、(2−メトキシエトキシ)メチル、ベンジルオキシ
メチル。
しては、例えばメトキシメチルー−エトキシエチル、2
−メトキシ−2−プロピル、2−エトキシ−2−プロピ
ル、(2−メトキシエトキシ)メチル、ベンジルオキシ
メチル。
2−テトラヒドロピラニル、2−テトラヒドロフラニル
を挙げることができる。
を挙げることができる。
本発明の第一の工程は上記式(IV)のフェニルスルフ
ィド類のカルバニオンと上記式〔V〕の保&された4−
ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類及び上記式〔゛わ
のアルデヒド類との三成分連結反応である。フェニルス
ルフィド類〔■〕のカルバニオンは例えばn−ブチルリ
チウム、 5ec−ブチルリチウム等の塩基を作用させ
ることによって容易に作ることが出来る。このカルバニ
オンはりん酸ヘキサ、にチルメリアミドの存在下に保農
された4−ヒトルキシー2−シクロペンテノン類〔ゾ〕
をτ共役付加させ、必要に応じ℃塩化ト!J −n−ブ
チル錫を添加した後に次いでフルデwド類(■)を加え
ると一挙にこれら三成分が連結した縮合体〔■〕が得ら
れる。この工程の類似の反応は既に知られてJ、fす〔
野上ら、ブレティンφオブ・ザ・ケミカル・ソ叶エテイ
ーφオプージャパン(Bu l l 、Chem、 S
、oe 、 Japan、 > J−5−+3043(
1982) 、テトラヘドロン・レターズ(Tet−r
ahedron Lett、)、2i+1985(19
85)参照〕1本発明者らはこの方法論を用いて式〔4
〕のlfjネ・↓を一挙に得たものである。
ィド類のカルバニオンと上記式〔V〕の保&された4−
ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類及び上記式〔゛わ
のアルデヒド類との三成分連結反応である。フェニルス
ルフィド類〔■〕のカルバニオンは例えばn−ブチルリ
チウム、 5ec−ブチルリチウム等の塩基を作用させ
ることによって容易に作ることが出来る。このカルバニ
オンはりん酸ヘキサ、にチルメリアミドの存在下に保農
された4−ヒトルキシー2−シクロペンテノン類〔ゾ〕
をτ共役付加させ、必要に応じ℃塩化ト!J −n−ブ
チル錫を添加した後に次いでフルデwド類(■)を加え
ると一挙にこれら三成分が連結した縮合体〔■〕が得ら
れる。この工程の類似の反応は既に知られてJ、fす〔
野上ら、ブレティンφオブ・ザ・ケミカル・ソ叶エテイ
ーφオプージャパン(Bu l l 、Chem、 S
、oe 、 Japan、 > J−5−+3043(
1982) 、テトラヘドロン・レターズ(Tet−r
ahedron Lett、)、2i+1985(19
85)参照〕1本発明者らはこの方法論を用いて式〔4
〕のlfjネ・↓を一挙に得たものである。
上記式三成分縮合体〔\・6〕は単離することなく、通
常の後処理により、式〔v1〕より R”OHが脱離し
た2−シクロペンチッソ体1:111:lに導びかれる
。
常の後処理により、式〔v1〕より R”OHが脱離し
た2−シクロペンチッソ体1:111:lに導びかれる
。
ph
第二の工程では得らねた2−シクロペンテノン体(l[
l)を脱水反応に付す。脱水剤としてはN、N’−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド(DCC)が好ましく用い
られ、DCCは原料に対してl〜lO当量好ましくは1
〜5当量用いてlO℃〜4(1’cf不活性の虹体中で
反応される。不活性媒体としてはベンセン、トルエン等
の芳査族炭化水素類/+1好−しく用いら4ろ。またこ
の時反応助剤が用いられイ)。反応JUJ剤として塩化
W1柑、臭化第2絹を原料に対して1〜6当か、好ま(
7くは1〜3当蒼用−・ると反応はスムーズに進行する
。反応物は通常の後処理により脱水生成物〔■〕をムえ
る。
l)を脱水反応に付す。脱水剤としてはN、N’−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド(DCC)が好ましく用い
られ、DCCは原料に対してl〜lO当量好ましくは1
〜5当量用いてlO℃〜4(1’cf不活性の虹体中で
反応される。不活性媒体としてはベンセン、トルエン等
の芳査族炭化水素類/+1好−しく用いら4ろ。またこ
の時反応助剤が用いられイ)。反応JUJ剤として塩化
W1柑、臭化第2絹を原料に対して1〜6当か、好ま(
7くは1〜3当蒼用−・ると反応はスムーズに進行する
。反応物は通常の後処理により脱水生成物〔■〕をムえ
る。
S’ph
・′式中、R’ 、 Arおよび記号・/・は前記定義
に111、)。。 1 第三の工程は上記式(lit)を酸化し、phso)I
を脱離させる反応である。スルフィドの硫黄原子の酸化
にはm−クロロ過安息香酸、過酢酸1等の有機赤面また
はメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどの酸化剤が用いられ、
特に好ましくはm−クロロ過安息香酸が用いられる。用
いられる酸化剤の貝は原料のスルフィドに対して0.5
〜2.0当R1好ましくは1)、8〜1.2当開が用い
らrる。
に111、)。。 1 第三の工程は上記式(lit)を酸化し、phso)I
を脱離させる反応である。スルフィドの硫黄原子の酸化
にはm−クロロ過安息香酸、過酢酸1等の有機赤面また
はメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどの酸化剤が用いられ、
特に好ましくはm−クロロ過安息香酸が用いられる。用
いられる酸化剤の貝は原料のスルフィドに対して0.5
〜2.0当R1好ましくは1)、8〜1.2当開が用い
らrる。
媒体としては工;1化メチレン、ジクr10エタン。
等のハロIソ化片化*ぶEJが用いらii 、反応温度
は一り8℃〜tl ℃、1牙しくけ一51]℃〜−20
℃で行なわれる。反応は′f4層りpマドグラ;フィー
(’l’ L C)等で追跡することによってモニター
さt、反応時開はlI内常は30分〜2時間である。反
応後反応物に重炭酸ソーダ水溶〜を加えた後1反応液の
温1隻を呈温付近に戻し、通常の後処理に付す。
は一り8℃〜tl ℃、1牙しくけ一51]℃〜−20
℃で行なわれる。反応は′f4層りpマドグラ;フィー
(’l’ L C)等で追跡することによってモニター
さt、反応時開はlI内常は30分〜2時間である。反
応後反応物に重炭酸ソーダ水溶〜を加えた後1反応液の
温1隻を呈温付近に戻し、通常の後処理に付す。
かくして下記式〔゛市〕
ph
↓
[式中、R“、 Arおよび記号・−・は前記ず義しく
11同じ。
11同じ。
で表わさ4るスルホ達シト幻が得らrろ。このものは粗
生成物としてそのままp h S OHの5悦か反応に
付される。脱離反応はベンゼン、トルエン。
生成物としてそのままp h S OHの5悦か反応に
付される。脱離反応はベンゼン、トルエン。
キシレン等の芳香族炭化水素中で加熱することによって
達成される。この内特に好ましくはトルエンが用いられ
、加熱温度は還流温度附近で行なわrる。反応をまTL
C等によりモニターし。
達成される。この内特に好ましくはトルエンが用いられ
、加熱温度は還流温度附近で行なわrる。反応をまTL
C等によりモニターし。
反応物は通常の後処理をし、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー等の手段により精製される。
グラフィー等の手段により精製される。
また生成物のRIにおいて保護基された水酸基やエステ
ル基がある場合は必gに応じて脱保護反応に付しても良
い。これはそれ自体公知の方法でより容易に行なうこと
が出来る。
ル基がある場合は必gに応じて脱保護反応に付しても良
い。これはそれ自体公知の方法でより容易に行なうこと
が出来る。
すなわち保41基の除去は%保岡基が水酸基の酸素原子
と共にアセ々−ル結合を形成する基の場合には、例えば
酢M + p −トルエンスルホン酸のピリジニ〜ム塩
又は陽イオン交換樹脂等を触媒、!:L、例えば水、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオギサン、7セ
トン、アセトニトリル等を反応溶媒とすることKよ如好
適に実施される。反応は通常−78℃〜+100℃の温
度範囲でlO分〜3日間程度行なわれる。
と共にアセ々−ル結合を形成する基の場合には、例えば
酢M + p −トルエンスルホン酸のピリジニ〜ム塩
又は陽イオン交換樹脂等を触媒、!:L、例えば水、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオギサン、7セ
トン、アセトニトリル等を反応溶媒とすることKよ如好
適に実施される。反応は通常−78℃〜+100℃の温
度範囲でlO分〜3日間程度行なわれる。
また保護基がト’J (C+−Cv )炭化水素−シリ
ル基の場合には、例えば酢酸の存在下に、上記した如き
反応ffi媒中で同様の温度で同様の時間実施される。
ル基の場合には、例えば酢酸の存在下に、上記した如き
反応ffi媒中で同様の温度で同様の時間実施される。
またはフッ死水ネ酸の7セトニトリル溶液中でも寮胞さ
れる。
れる。
目的化合物中にエステル基がある場合、これを加水分解
に付すことができ、例えばリパーゼ等の酵素を用い、水
又は水を含む溶媒中で一10℃〜+60℃の温度範囲で
10分〜24時間程度行なわれる。
に付すことができ、例えばリパーゼ等の酵素を用い、水
又は水を含む溶媒中で一10℃〜+60℃の温度範囲で
10分〜24時間程度行なわれる。
かくして〔1〕
〔式中、R’ + Ar及び記号 は前記定義に同じ。
〕テ表ワされる4−アリールメチレン−5−アルケニリ
デン−2−シクロペンテノン顛が得られる。本発明の化
合物はenicLizioマウス白血病細胞に対して極
めて低濃度clci。xpg/d以下)で強力な抗ガン
作用を示し、制癌剤として極めで有用である。また抗ウ
ィルス活性を有する化合物としても期待される有用な化
合物である。
デン−2−シクロペンテノン顛が得られる。本発明の化
合物はenicLizioマウス白血病細胞に対して極
めて低濃度clci。xpg/d以下)で強力な抗ガン
作用を示し、制癌剤として極めで有用である。また抗ウ
ィルス活性を有する化合物としても期待される有用な化
合物である。
また動物ヂ験においても強い抗ガン活性を示した。例え
ば表IKはin v4troのL1210 ガン細胞
増殖抑制活性を示した。
ば表IKはin v4troのL1210 ガン細胞
増殖抑制活性を示した。
表I L1210J胞増殖抑制活性
表2には1nvivoでのP3813 −fウス白血病
細胞移植ガンに対する抗ガン作用を示した。
細胞移植ガンに対する抗ガン作用を示した。
表2 抗ガン作用 ・
実施例1
(1)n −BuLj Q o。
スルフィドl−1415”15F(2,07mmol)
のTHF溶液7−に−76℃でn−ブチルリチウム溶液
1.45 id (2,26mmol )を加え%1
5分間攪拌した後りん酸へキサメチルトリアミド(HM
PA ) 0.98m(5,63mmol ) t
m 、を直チlC保護された4−ヒドロキシ−2−シク
ロペンテ/ 72400W(1,89mmoJ)のT
HFWIHl−をすばやく加えた。10分間攪拌した後
、アルデヒド3−1530 q (2,07mmol)
のTHF’溶液1mを滴下した。20分間攪拌した後、
飽和塩化アンモニウム水溶液4dを加え、反応液の温度
を室温まで戻し、酢酸エチル201/を加え抽出し、抽
出液を2回水洗した。抽出液は常法により処理した後シ
リカゲルクルマドグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:8)で1a製し目的物の2−シクロペンテノン体4
7591v(収率75%)を得た。
のTHF溶液7−に−76℃でn−ブチルリチウム溶液
1.45 id (2,26mmol )を加え%1
5分間攪拌した後りん酸へキサメチルトリアミド(HM
PA ) 0.98m(5,63mmol ) t
m 、を直チlC保護された4−ヒドロキシ−2−シク
ロペンテ/ 72400W(1,89mmoJ)のT
HFWIHl−をすばやく加えた。10分間攪拌した後
、アルデヒド3−1530 q (2,07mmol)
のTHF’溶液1mを滴下した。20分間攪拌した後、
飽和塩化アンモニウム水溶液4dを加え、反応液の温度
を室温まで戻し、酢酸エチル201/を加え抽出し、抽
出液を2回水洗した。抽出液は常法により処理した後シ
リカゲルクルマドグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:8)で1a製し目的物の2−シクロペンテノン体4
7591v(収率75%)を得た。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=i:3);Rf O,
654のスペクトルデータ IR(液M ) (cm−”) : 34701307
0−3040* 2970−2940.2870,17
00,1580+ 1470.1250+1080、9
70.835.775.700実施例2 アリルスルフィドl−1110m9(0,55mmol
)のTHF溶液3m/VC−76℃でn−ブチルリチウ
ム溶液0.38 m (0,59mmol)を加え、1
5分間攪拌した後、りん酸へキサメチルトリアミド(H
MPA) 0.26 ’l/ (1,49mmol )
を加え直ちに化合物2106#F(0,50mm06)
のTHF溶液0,5dをすげやく加えた。10分間攪拌
した後塩化トリーn−ブチルすず0.16 ml (0
,60mmol)を滴下した。15分間攪拌した後化合
物3−1141 ”? (0,55mmo!りのTHF
溶i 1 meを滴下した。
654のスペクトルデータ IR(液M ) (cm−”) : 34701307
0−3040* 2970−2940.2870,17
00,1580+ 1470.1250+1080、9
70.835.775.700実施例2 アリルスルフィドl−1110m9(0,55mmol
)のTHF溶液3m/VC−76℃でn−ブチルリチウ
ム溶液0.38 m (0,59mmol)を加え、1
5分間攪拌した後、りん酸へキサメチルトリアミド(H
MPA) 0.26 ’l/ (1,49mmol )
を加え直ちに化合物2106#F(0,50mm06)
のTHF溶液0,5dをすげやく加えた。10分間攪拌
した後塩化トリーn−ブチルすず0.16 ml (0
,60mmol)を滴下した。15分間攪拌した後化合
物3−1141 ”? (0,55mmo!りのTHF
溶i 1 meを滴下した。
30分間攪拌した抜水1 atを加え反応液の温度を室
温まで戻し、酢酸エチル4 al ?、1加えて抽出し
、抽出液を2回水洗した。抽出、1菫はm法により処理
し粗生成物を得た。6時間数fi′l:後1生成物4と
した後シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘ
キサン=l:8)でl:t 112 L目的4224F
(収率83チ)を得T二。
温まで戻し、酢酸エチル4 al ?、1加えて抽出し
、抽出液を2回水洗した。抽出、1菫はm法により処理
し粗生成物を得た。6時間数fi′l:後1生成物4と
した後シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘ
キサン=l:8)でl:t 112 L目的4224F
(収率83チ)を得T二。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン−1:3);Rfo、6
5 夾施例3 (1)n−BuLi oHo C工H4,O,SSiF MW554.89 アリルスルフィド!−2100! (0,46mmoA
! )のTHF溶液3−に−7g℃でn−ブチルリチウ
ム溶液0.32 ml (0,50mmol)を加え、
15分間攪拌した後りん酸へキサメチルトリアミド(H
MPA ) 0.22 td (1,27mmoJ )
を加え直ちに化合物289 # (0,42mmol)
のTHF溶液0.5dをすばやく加えた。10分攪拌し
た後塩化トリーn−ブチルすずO,L 4 ml (0
,52mmoA’)を滴下した。15分攪拌した後化合
物3−1118# (0,46mmol)のTHF溶液
lidを滴下した。
5 夾施例3 (1)n−BuLi oHo C工H4,O,SSiF MW554.89 アリルスルフィド!−2100! (0,46mmoA
! )のTHF溶液3−に−7g℃でn−ブチルリチウ
ム溶液0.32 ml (0,50mmol)を加え、
15分間攪拌した後りん酸へキサメチルトリアミド(H
MPA ) 0.22 td (1,27mmoJ )
を加え直ちに化合物289 # (0,42mmol)
のTHF溶液0.5dをすばやく加えた。10分攪拌し
た後塩化トリーn−ブチルすずO,L 4 ml (0
,52mmoA’)を滴下した。15分攪拌した後化合
物3−1118# (0,46mmol)のTHF溶液
lidを滴下した。
30分攪拌した抜水l tniを加え反応液の温度を室
温まで戻し、酢酸エチル4rR1を加えて抽出し。
温まで戻し、酢酸エチル4rR1を加えて抽出し。
抽出液を2回水洗した。抽出液は常法により処理し粗生
成物5,6の混合物を得た66時間放置後粗生成物とし
た後シリカゲルクpマトグ5・フィー(酢酸エチル:ヘ
キサン=l:3)で1冴製し目的物である2−シフτ・
ベンゾ”ノン体6193111!?(収出83%)を得
た。
成物5,6の混合物を得た66時間放置後粗生成物とし
た後シリカゲルクpマトグ5・フィー(酢酸エチル:ヘ
キサン=l:3)で1冴製し目的物である2−シフτ・
ベンゾ”ノン体6193111!?(収出83%)を得
た。
スペクトルデータ
IRC液 [+ Cr11−”) : 348
O+ :う070. 2970. 295Ll
。
O+ :う070. 2970. 295Ll
。
2870.1700.1605.1505.1470.
1250゜1225、1155.1IJ70.835.
775.740.f’i90実施例4 スルフィド1−2 i 0011i1 (0,46rn
mol)のTHF溶液3rdK−76℃でn−ブーf−
ルリチウム溶液0.32 m (0,50履l)を加え
、 15分間攪拌した後、りん酸−・・キサメチルトリ
アミド(HMPA ) 0.22 wl(1,27mm
oe)を加えAちに化合物289 If (0,42r
nmol)のTHF’溶欣0.5m/をすばやく加えた
。io分間攪拌した後化合物3−1117 W (0,
46mmol)のTHF溶fldを滴下した。20分間
攪拌した後、飽和塩化アンモニ〜ム水溶液2dを加え、
反応液の温度を室温まで戻し、酢酸エチルlOdを加え
抽出し、抽出液を2回水洗した。抽出液は常法fよ))
処Mした後、シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル:ヘキサン= 08 )で精製し目的物6167〜(
収率72チ)を得た。
1250゜1225、1155.1IJ70.835.
775.740.f’i90実施例4 スルフィド1−2 i 0011i1 (0,46rn
mol)のTHF溶液3rdK−76℃でn−ブーf−
ルリチウム溶液0.32 m (0,50履l)を加え
、 15分間攪拌した後、りん酸−・・キサメチルトリ
アミド(HMPA ) 0.22 wl(1,27mm
oe)を加えAちに化合物289 If (0,42r
nmol)のTHF’溶欣0.5m/をすばやく加えた
。io分間攪拌した後化合物3−1117 W (0,
46mmol)のTHF溶fldを滴下した。20分間
攪拌した後、飽和塩化アンモニ〜ム水溶液2dを加え、
反応液の温度を室温まで戻し、酢酸エチルlOdを加え
抽出し、抽出液を2回水洗した。抽出液は常法fよ))
処Mした後、シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル:ヘキサン= 08 )で精製し目的物6167〜(
収率72チ)を得た。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=1:3);Rf 0.
61 実施例5゜ (1)n−8uLi (4)BulSnCA! 00T( Ph 7Cmti(si04ss t J MWft 71 、14 アリルスルフィド1−2502 N9(2,30mmo
J)のTHF8i8dに一76℃でn−ブチルリチウム
溶液1.60 d (2,50m+noJ )を加え、
15分間攪拌した後、りん酸へキサメチルトリアミド(
HMPA ) 1.09 N1(6,27mmoJ
)を加え直ちに化合物2444 n9 (2,09mm
oJ)のTHF溶液QJm/をすばやく加えた。10分
間攪拌した後、塩化トリーn−ブチルすず0,68m/
(2,5五mmo/)を滴下した。15分間位押した後
、化合物3−2857 N9 (2,30mmog )
の1”HIi”溶液2mlを滴下した。30分間邦t4
? した長、水2dを加え、反応液の温度を室温まで戻
し、酢酸エチル5 mlを加え抽出し、抽出液を2回水
洗した。抽出液は常法により処理し、粗生成物を得f、
6時開放針後、生成物である2−シクロベンプノン体6
としシリカゲルクロマトグラフ(−(6fi?エチルニ
ー\ギサン=l:8)で精製し、目的物fi109Q〜
(収率78チ)を得だ。
61 実施例5゜ (1)n−8uLi (4)BulSnCA! 00T( Ph 7Cmti(si04ss t J MWft 71 、14 アリルスルフィド1−2502 N9(2,30mmo
J)のTHF8i8dに一76℃でn−ブチルリチウム
溶液1.60 d (2,50m+noJ )を加え、
15分間攪拌した後、りん酸へキサメチルトリアミド(
HMPA ) 1.09 N1(6,27mmoJ
)を加え直ちに化合物2444 n9 (2,09mm
oJ)のTHF溶液QJm/をすばやく加えた。10分
間攪拌した後、塩化トリーn−ブチルすず0,68m/
(2,5五mmo/)を滴下した。15分間位押した後
、化合物3−2857 N9 (2,30mmog )
の1”HIi”溶液2mlを滴下した。30分間邦t4
? した長、水2dを加え、反応液の温度を室温まで戻
し、酢酸エチル5 mlを加え抽出し、抽出液を2回水
洗した。抽出液は常法により処理し、粗生成物を得f、
6時開放針後、生成物である2−シクロベンプノン体6
としシリカゲルクロマトグラフ(−(6fi?エチルニ
ー\ギサン=l:8)で精製し、目的物fi109Q〜
(収率78チ)を得だ。
TLC(を咋靜エチルニー\キサン=i : 3 )
:Rf O,42、0,51 実施例6 (1)n−BuLI J−2(3)2 C4)Bu、5n(J (!i) −、、、−=−1,、C00Et’ O
AC3−3 CI(O、、。
:Rf O,42、0,51 実施例6 (1)n−BuLI J−2(3)2 C4)Bu、5n(J (!i) −、、、−=−1,、C00Et’ O
AC3−3 CI(O、、。
アリルスルフィドl−222911g(t、osmmo
J)の1丁(F溶液5 ml K−76℃でn−ブチル
リチウム溶液0.73 yd (1,14mmol)を
加え、15分間攪拌した後、りん酸〜、キザメチルトリ
アミド(HMPA ) 0.50 ml、 (2,87
mmol)を加え直ちに化合物2201に? (0,9
6mrnol>のT HF溶fi O,5dをすばやく
加えた。113分場拌した後、塩化トリーn−ブチルす
ず0,31 mt (1,14mmol)を滴下した。
J)の1丁(F溶液5 ml K−76℃でn−ブチル
リチウム溶液0.73 yd (1,14mmol)を
加え、15分間攪拌した後、りん酸〜、キザメチルトリ
アミド(HMPA ) 0.50 ml、 (2,87
mmol)を加え直ちに化合物2201に? (0,9
6mrnol>のT HF溶fi O,5dをすばやく
加えた。113分場拌した後、塩化トリーn−ブチルす
ず0,31 mt (1,14mmol)を滴下した。
15分攪拌した後化合物3−3240q (1,tl
5 rnmol)のTHF fa i l 厩6を滴下
しL:。
5 rnmol)のTHF fa i l 厩6を滴下
しL:。
30分攪拌した抜水Bat/を加え1反応液の温度を室
温まで戻し、酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を2回
水洗した。抽出液は常法により処理し、粗生成物8を得
た。6時間放置後粗生成物9としシリカゲルクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=l:3)で横31
L 、目的物である2−シクロペンテノン体9405
ff1y(収率80%)を得た。
温まで戻し、酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を2回
水洗した。抽出液は常法により処理し、粗生成物8を得
た。6時間放置後粗生成物9としシリカゲルクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=l:3)で横31
L 、目的物である2−シクロペンテノン体9405
ff1y(収率80%)を得た。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン−1:l);Rfo、4
0 スペクトルデータ IR(f’l[4−’) : 3500.3070.
2960.294L1730.1720,1700,1
600.15851 1505゜1475、 1440
,1370,1240t 1170.1095゜10
65.1025.960,880,845,790,7
50゜化合物4225Fy(0,42mrnoJ)のベ
ンゼン溶Q O,5mjlc 20’℃で・塩化第一銅
92 #(0,93mmo/ )を加え、統いてN、N
’−ジシクμ・\キシルカルボジイミド(DCC)43
5η(2,11mmol)のベンゼン溶液1111を加
えた。4時間攪拌した後、溶媒として酢酸エチルを用い
ろ過しろ液を2回水洗した。
0 スペクトルデータ IR(f’l[4−’) : 3500.3070.
2960.294L1730.1720,1700,1
600.15851 1505゜1475、 1440
,1370,1240t 1170.1095゜10
65.1025.960,880,845,790,7
50゜化合物4225Fy(0,42mrnoJ)のベ
ンゼン溶Q O,5mjlc 20’℃で・塩化第一銅
92 #(0,93mmo/ )を加え、統いてN、N
’−ジシクμ・\キシルカルボジイミド(DCC)43
5η(2,11mmol)のベンゼン溶液1111を加
えた。4時間攪拌した後、溶媒として酢酸エチルを用い
ろ過しろ液を2回水洗した。
常法によって得られた油状粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=l:10)を用
いて精製し、目的物10五92Q(収率88%)を得た
。
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=l:10)を用
いて精製し、目的物10五92Q(収率88%)を得た
。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=l:3);Rf O
,82、0,72 高極性成分のスペクトルデータ(10−1)IR(、g
、4 、 CTn’ ) : 3080.3040.2
970゜2950、2870.1695.1635.1
580.1470゜1250、1085.975.83
5.775.740.695実施例8 化合物10−1188屑q (0,36mmol)の塩
化メチレン溶液Bml&+: 40℃でm−クロロ過安
息香酸63 W (0,36mmol )を加え30分
間攪拌した後%重炭酸ソーダ水溶液で中和し室温まで戻
し、塩化メチレン抽出し、抽出液を2回水洗しfS。
,82、0,72 高極性成分のスペクトルデータ(10−1)IR(、g
、4 、 CTn’ ) : 3080.3040.2
970゜2950、2870.1695.1635.1
580.1470゜1250、1085.975.83
5.775.740.695実施例8 化合物10−1188屑q (0,36mmol)の塩
化メチレン溶液Bml&+: 40℃でm−クロロ過安
息香酸63 W (0,36mmol )を加え30分
間攪拌した後%重炭酸ソーダ水溶液で中和し室温まで戻
し、塩化メチレン抽出し、抽出液を2回水洗しfS。
常法によって得られた油状粗生成物klは、そのまま次
の反応を行なった。
の反応を行なった。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=l : 2 ) ;R
fo、56 IR(液膜、 n−’) : 3080.2970.
2950.28701700、1635.1580.1
460.1255.1195゜1150、1085.1
050.980.940.780.745実施例9 1〆−1− ^ 油状粗生成物11のトルエン溶液26肩1を還流下で1
時間攪拌した後、トルエンを除去し、シリカゲルクロマ
トグラフィー(6mエチル:ヘキサン=l:15)で不
純物を除き(ここでは精製できなかつ1こ。)粗生成物
4−;’71.l を得た。
fo、56 IR(液膜、 n−’) : 3080.2970.
2950.28701700、1635.1580.1
460.1255.1195゜1150、1085.1
050.980.940.780.745実施例9 1〆−1− ^ 油状粗生成物11のトルエン溶液26肩1を還流下で1
時間攪拌した後、トルエンを除去し、シリカゲルクロマ
トグラフィー(6mエチル:ヘキサン=l:15)で不
純物を除き(ここでは精製できなかつ1こ。)粗生成物
4−;’71.l を得た。
ML生tR物12−1 のアセトニトリルIW R2m
l (で5%N(F O,4FA 1f:加え23℃で
6時間攪拌した後、重炭酸ソーダ水I!ig液で中和U
、酢酸エチル10m1を加え抽11L、抽出液を2回水
洗しYS。
l (で5%N(F O,4FA 1f:加え23℃で
6時間攪拌した後、重炭酸ソーダ水I!ig液で中和U
、酢酸エチル10m1を加え抽11L、抽出液を2回水
洗しYS。
抽出へけ常法によ抄処理し1こ後シリカゲルクロマトグ
ラフィー(flft?工千ル:・\キ→ヒン:二1:6
)で精製し、目的物12−265 #(3o、tからの
収率61%)を得た。
ラフィー(flft?工千ル:・\キ→ヒン:二1:6
)で精製し、目的物12−265 #(3o、tからの
収率61%)を得た。
TLC(酢酸エチル:・\セサソ=1:2);RfQ、
4フ、0゜40 (40チ)(20%) スペクトルデータ 化合物12−1 TLC: Rf 0.73 + F、tOAc/h@
x =115I)k’g、g ? jlN−”) :
3U70,2960,286L 169U+1flt
20.1530.1460.144011320.12
501117011140、1070.!’170.8
30.770.745゜化合物12−2 TLC* Rf O,47,0,4U、EeLIAc=
l/2低モー性成分(E*Z巳) IR([’莫+cm−凰) ; 3450.3070.
2970.2940゜2870+ 168(1,161
5+ 15Z5w 1440+ 132L1220、1
175.1120.1070.10fiO,970゜8
20、750.695 HN:vfR;0.89(3H+ br)+ 1.1−
1.7(6H,brL4.35(IH+mt5−HL
6.35(trl+dd J=612Hz。
4フ、0゜40 (40チ)(20%) スペクトルデータ 化合物12−1 TLC: Rf 0.73 + F、tOAc/h@
x =115I)k’g、g ? jlN−”) :
3U70,2960,286L 169U+1flt
20.1530.1460.144011320.12
501117011140、1070.!’170.8
30.770.745゜化合物12−2 TLC* Rf O,47,0,4U、EeLIAc=
l/2低モー性成分(E*Z巳) IR([’莫+cm−凰) ; 3450.3070.
2970.2940゜2870+ 168(1,161
5+ 15Z5w 1440+ 132L1220、1
175.1120.1070.10fiO,970゜8
20、750.695 HN:vfR;0.89(3H+ br)+ 1.1−
1.7(6H,brL4.35(IH+mt5−HL
6.35(trl+dd J=612Hz。
1l−H)s 6,4(IH,m、7−fl)+ r、
、8−7.2(3H,:n。
、8−7.2(3H,:n。
6−H,8−H,14−H)、 7.34(5H,S、
Ph1.8.01(tH+d+ J−bHz、12 H
)高極性成分(E、B型) IR(mA、cm−’l : 345o、 2960.
2945.2860゜1680、1615.15351
1440112201118511160s ttzs
、 975+ 860.82o、γ5Q、 690HN
MR;0.88(3H+ br)、 1.25(6FL
br)、 3.80(LH+m+5−HL 5,57
(tH+dddt J”15+12+1Hz7−Hl、
1LO(IH,dd、 Jx15,5Hz、6−H)
。
Ph1.8.01(tH+d+ J−bHz、12 H
)高極性成分(E、B型) IR(mA、cm−’l : 345o、 2960.
2945.2860゜1680、1615.15351
1440112201118511160s ttzs
、 975+ 860.82o、γ5Q、 690HN
MR;0.88(3H+ br)、 1.25(6FL
br)、 3.80(LH+m+5−HL 5,57
(tH+dddt J”15+12+1Hz7−Hl、
1LO(IH,dd、 Jx15,5Hz、6−H)
。
fi、32(LH,dd、 J−’6+lHz、1l−
H)+ 6.86(IH。
H)+ 6.86(IH。
3114−)I)、L91(lHlcL J−618
−H)l 7,34(5H,S、Ph)、7.73(
lH+d、J=fiHz、12−H)実施例10 化合物612211p(0,22mmoA’)を転傾ベ
ンゼン0.4dに溶かした。これVC塩化第−鋼48W
Q(0,48mmo/ )を加えた。この混合物を撹拌
しながら、DCC225Q (1,09mmoz)を乾
燥ベンゼン0.51LjK溶かして加えた。
−H)l 7,34(5H,S、Ph)、7.73(
lH+d、J=fiHz、12−H)実施例10 化合物612211p(0,22mmoA’)を転傾ベ
ンゼン0.4dに溶かした。これVC塩化第−鋼48W
Q(0,48mmo/ )を加えた。この混合物を撹拌
しながら、DCC225Q (1,09mmoz)を乾
燥ベンゼン0.51LjK溶かして加えた。
反応混合物を20℃で6時間攪拌した後、溶媒として酢
酸エチルを用いろ過し1ろ沿を2回水洗した。
酸エチルを用いろ過し1ろ沿を2回水洗した。
常法によって得らねた油状粗生成物をシリカイルクロマ
トグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:10を用いて
精製し目的物(E型)!3坦94ダ(収率80チ)と副
生成物(2型03−210ダ(収率9%)を侍だ。
トグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:10を用いて
精製し目的物(E型)!3坦94ダ(収率80チ)と副
生成物(2型03−210ダ(収率9%)を侍だ。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=L:4);Rf h
3−2 (J、7 4 t 13−1 υ、
62実施例11 化合物13−1 75 hit (U、l 4 rnm
ol )の塩化メチレン溶液4Mlに一40℃でm−ク
ロロ過安息香酸24 Q (0,14mmol )を加
え30分間攪拌した後、重炭酸ソーダ水溶液1 tsl
を加え反追液の温度を室温までがし、抽出し、抽出液を
2回水洗した。
3−2 (J、7 4 t 13−1 υ、
62実施例11 化合物13−1 75 hit (U、l 4 rnm
ol )の塩化メチレン溶液4Mlに一40℃でm−ク
ロロ過安息香酸24 Q (0,14mmol )を加
え30分間攪拌した後、重炭酸ソーダ水溶液1 tsl
を加え反追液の温度を室温までがし、抽出し、抽出液を
2回水洗した。
常法によって得られた油状粗生成物14はそのまま次の
反応を行なった。
反応を行なった。
実施例12
Q 0Ph
S→0 (J 油状粗生成物14のトルエン溶液2 tslを1流下で
45分攪拌したのち、トルエンを除去し、シ!J 力)
f ルクロマトグラフイー(酢酸エチル:ヘキサン=1
:20)で不純物を除き(ここでは精製はできない)粗
生成物i、LT−長 を得た。
S→0 (J 油状粗生成物14のトルエン溶液2 tslを1流下で
45分攪拌したのち、トルエンを除去し、シ!J 力)
f ルクロマトグラフイー(酢酸エチル:ヘキサン=1
:20)で不純物を除き(ここでは精製はできない)粗
生成物i、LT−長 を得た。
粗生成物15−1のアセトニトリル溶液2dlC51H
F0.3mlを加え20℃で6時間攪拌した後、重炭酸
ソーダ水溶液で中和し、酢酸エチル5′R1を加え抽出
し、抽出液を2回水洗した。抽出液は常法によh処理し
た後シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキ
サン=1=5]で精製し、目的物1−5−2 21η(
6からの収率+\〜−〜 48%)を得た。
F0.3mlを加え20℃で6時間攪拌した後、重炭酸
ソーダ水溶液で中和し、酢酸エチル5′R1を加え抽出
し、抽出液を2回水洗した。抽出液は常法によh処理し
た後シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキ
サン=1=5]で精製し、目的物1−5−2 21η(
6からの収率+\〜−〜 48%)を得た。
TLC(酢酸二チル:ヘキサン=1:2);2LfO,
43 スペクトルデータ 化合物15−2 IR(QiA+aa−’) ; 3450.2970.
2Q50.287011685、16zs、 1600
.1535.150591230゜1160、1130
.985.830.73O化合物15−1 1R(”、J+cIL−’ ) ; 3070,3
020,2960,2940゜2870、1700.1
640.1585.1505.1470゜1440、1
360.1255.1225.1+6011135゜1
090、 t)80.935.840+ 800.78
O,76L実施例13 化合t、f126381’+9(0,95+r+mo/
)を乾燥ベンゼン0.7dを溶かした。これに塩化第−
例210ダ(2,12mmol>を加えた。この混合物
を攪拌しながら、 N、N’−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド(DCC) 994iy(4,82mmo/>
を乾燥ベンゼン0.7dK溶かして加えた。反応混合物
を20℃で4時間攪拌した後、溶媒として酢酸エチルを
用いろ過し、ろ液を2回水洗した。
43 スペクトルデータ 化合物15−2 IR(QiA+aa−’) ; 3450.2970.
2Q50.287011685、16zs、 1600
.1535.150591230゜1160、1130
.985.830.73O化合物15−1 1R(”、J+cIL−’ ) ; 3070,3
020,2960,2940゜2870、1700.1
640.1585.1505.1470゜1440、1
360.1255.1225.1+6011135゜1
090、 t)80.935.840+ 800.78
O,76L実施例13 化合t、f126381’+9(0,95+r+mo/
)を乾燥ベンゼン0.7dを溶かした。これに塩化第−
例210ダ(2,12mmol>を加えた。この混合物
を攪拌しながら、 N、N’−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド(DCC) 994iy(4,82mmo/>
を乾燥ベンゼン0.7dK溶かして加えた。反応混合物
を20℃で4時間攪拌した後、溶媒として酢酸エチルを
用いろ過し、ろ液を2回水洗した。
常法によって得られた油状粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(酸1’!フエチル:ヘギサン=l:12
)を用い精製し、目的物16−!−531■(収率86
チ)と副生成物1.6.7g l 3jv(収率2%)
を得た。
トグラフィー(酸1’!フエチル:ヘギサン=l:12
)を用い精製し、目的物16−!−531■(収率86
チ)と副生成物1.6.7g l 3jv(収率2%)
を得た。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=t:3);Rf 16
−2 0.68 16−1 0.61実施例14 化合物16−1503 W (0,77rnm@l )
の塩化メチレン溶液5肩/に一40℃でm−クロロ安息
香酸133 H9(0,77mmol)を加え30分間
積押した後重炭酸ソーダ水溶液3 mlを加え、反応液
の温度を室温まで戻し、抽出し、抽出液を2回水洗した
。
−2 0.68 16−1 0.61実施例14 化合物16−1503 W (0,77rnm@l )
の塩化メチレン溶液5肩/に一40℃でm−クロロ安息
香酸133 H9(0,77mmol)を加え30分間
積押した後重炭酸ソーダ水溶液3 mlを加え、反応液
の温度を室温まで戻し、抽出し、抽出液を2回水洗した
。
常法によって得らrた油状粗生成物17は、そのまま次
の反応を行なった。
の反応を行なった。
実施例15
油状1生成物17のトルエン溶液5 mlを還流下で1
時間攪拌した後、トルエンを除去し、シリカゲルクルマ
ドグラフィー(酢酸工弔ル:ヘキサン=1:20)で不
純物を除tk(ここでは完全にけNmできなかった。)
粗生成物18−1を得た。
時間攪拌した後、トルエンを除去し、シリカゲルクルマ
ドグラフィー(酢酸工弔ル:ヘキサン=1:20)で不
純物を除tk(ここでは完全にけNmできなかった。)
粗生成物18−1を得た。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=t:4);Rf O
,77(E I E1型) 0.65 (E t Z型) 0.58 (Z 、 Z型) 実施例16 粗生成物18−1 のアセトニトリル溶KIL3 rn
tに5%HFo、4mを加え20℃で6時間攪拌した後
、重炭酸ンーダ水溶液で中和し、酢酸エチル5dを加え
抽出し、抽出液を2回水洗し、た。抽出液は、常法によ
抄処理した後シリカゲル/′ロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン−8:l)で精製し、目的物18−2の
271結合の立体異性体として三成分をそれぞれ得た。
,77(E I E1型) 0.65 (E t Z型) 0.58 (Z 、 Z型) 実施例16 粗生成物18−1 のアセトニトリル溶KIL3 rn
tに5%HFo、4mを加え20℃で6時間攪拌した後
、重炭酸ンーダ水溶液で中和し、酢酸エチル5dを加え
抽出し、抽出液を2回水洗し、た。抽出液は、常法によ
抄処理した後シリカゲル/′ロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン−8:l)で精製し、目的物18−2の
271結合の立体異性体として三成分をそれぞれ得た。
いc) 49 H9(16−1からの収率20チ)TL
C(酢酸工牛ル:ヘキサン= 20 : l ) ;そ
れぞれの成分のスペクトルデータは次の通シ。
C(酢酸工牛ル:ヘキサン= 20 : l ) ;そ
れぞれの成分のスペクトルデータは次の通シ。
”” 1325,122011180.10
50,975゜成分”’ 870 、8
301mr(δ) : j、 3−1 、7(4H9m
+ 2 Hat 3−HJ + 3 、56(2H+t
、Jm6Hzml−H,)+3.82(lH+qsJz
6Hz*4−HL5 、56(IH+ ddd +J−
1* 11 * 15Hz +6−H) +6−06(
lH+dd+Jm6+15Hz+5−HL6.24(l
fLddtJ濡1+6Hz+1O−H)、6’、72(
IH,d、J−11Hz、7−H) 、6.73(IH
,S。
50,975゜成分”’ 870 、8
301mr(δ) : j、 3−1 、7(4H9m
+ 2 Hat 3−HJ + 3 、56(2H+t
、Jm6Hzml−H,)+3.82(lH+qsJz
6Hz*4−HL5 、56(IH+ ddd +J−
1* 11 * 15Hz +6−H) +6−06(
lH+dd+Jm6+15Hz+5−HL6.24(l
fLddtJ濡1+6Hz+1O−H)、6’、72(
IH,d、J−11Hz、7−H) 、6.73(IH
,S。
13−H) 、6 、857−40(4H,m、CJL
) 17 、64(IHld *J=6Hzs11
H) −H) +CaJ、3(IH+m、fi−H) 、6.
7−7.4(7H,m、5−H*7−H,13−HIC
J(−!7.91(IH,d+J−6Hz、1l−H)
””FHsdtLJs*6+15Hz 、5−H) +
6.30f+、82(IH,d*Js”1lHz+7−
H)+6.87(IH,S+13−H) +6.9−7
.4(4H,mlC,H4) 、7.81(IHldd
、J−11、15Hz6−H)+7,9NtH*d、
Jx6Hz、1l−H)実施例17 化合物193319(0,63mmol)を乾燥へ7
セン0.5 d K溶かした。これに塩化第一銅138
W (1,39mmolりを加えた。この混合物を攪拌
しながら、 N、N’−ジシクロヘキシル力ルポジイミ
ド(DCC)6541!7(3,17mmol )を乾
燥ベンゼン0.5m/に溶かして加えた。反応混合物を
20℃で3時間30分攪拌した徒、溶媒として酢酸エチ
ルを用いろ過し、ろ液を2回水洗した。
) 17 、64(IHld *J=6Hzs11
H) −H) +CaJ、3(IH+m、fi−H) 、6.
7−7.4(7H,m、5−H*7−H,13−HIC
J(−!7.91(IH,d+J−6Hz、1l−H)
””FHsdtLJs*6+15Hz 、5−H) +
6.30f+、82(IH,d*Js”1lHz+7−
H)+6.87(IH,S+13−H) +6.9−7
.4(4H,mlC,H4) 、7.81(IHldd
、J−11、15Hz6−H)+7,9NtH*d、
Jx6Hz、1l−H)実施例17 化合物193319(0,63mmol)を乾燥へ7
セン0.5 d K溶かした。これに塩化第一銅138
W (1,39mmolりを加えた。この混合物を攪拌
しながら、 N、N’−ジシクロヘキシル力ルポジイミ
ド(DCC)6541!7(3,17mmol )を乾
燥ベンゼン0.5m/に溶かして加えた。反応混合物を
20℃で3時間30分攪拌した徒、溶媒として酢酸エチ
ルを用いろ過し、ろ液を2回水洗した。
常法によって得られた油状粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=l:3)を用い
て精製し、目的物2O−1z7xq(収率85%)と副
生成物20−29■(収率3%)を得た。
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=l:3)を用い
て精製し、目的物2O−1z7xq(収率85%)と副
生成物20−29■(収率3%)を得た。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン=i:i);Rf 2
0−20 、6 t 、 、Q7(o、s 7スペクト
ルデータ IR(1!iLm−”); 3070,3010,2
960.2870,1730169011640.1[
10,158011505,1480,1440゜13
70.1230.117011095.1025,84
0,745.f90実施例18 化合物20−1 244 mq(0,48mrnol)
の塩化メチレン溶液5 xrlに一40℃でm−クロル
過安息香ffs、 83 m9(0,48mmo/ )
を加え30分間攪拌した後、重炭酸ソーダ水溶fi 2
Meを加え反応液の温度を室温まで戻し、抽出し、抽
出液を2回水洗した。
0−20 、6 t 、 、Q7(o、s 7スペクト
ルデータ IR(1!iLm−”); 3070,3010,2
960.2870,1730169011640.1[
10,158011505,1480,1440゜13
70.1230.117011095.1025,84
0,745.f90実施例18 化合物20−1 244 mq(0,48mrnol)
の塩化メチレン溶液5 xrlに一40℃でm−クロル
過安息香ffs、 83 m9(0,48mmo/ )
を加え30分間攪拌した後、重炭酸ソーダ水溶fi 2
Meを加え反応液の温度を室温まで戻し、抽出し、抽
出液を2回水洗した。
常法によって得られた油状粗生成物21は、そのまま次
の反応を行なった。
の反応を行なった。
実施例19
油状粗生成物21のトルエン溶液10m/を還流下で1
時間攪拌したのち、トルエンを除去しシリカゲルクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサンクl:6)を用い
て精製し、目的物22161W9(収率84チ)が得ら
rた。
時間攪拌したのち、トルエンを除去しシリカゲルクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサンクl:6)を用い
て精製し、目的物22161W9(収率84チ)が得ら
rた。
TLC(酢酸エチル:ヘキサン= i : i ) ;
Rf O,60、0,51 (J、27 w) (34W9) (Z、E体)(EE体) スペクトルデータ 低極性成分 nmr (δ) : 2.01 a nd 2−05
(3H1each S 1−0CCH@) +CaI2
.0(1(2H1m13−H−12,34(2)(、t
#Jm7Hz12−H,几3.61(3H,S 、−C
OOCH,) 15.41(1H1q +J−6Hz
。
Rf O,60、0,51 (J、27 w) (34W9) (Z、E体)(EE体) スペクトルデータ 低極性成分 nmr (δ) : 2.01 a nd 2−05
(3H1each S 1−0CCH@) +CaI2
.0(1(2H1m13−H−12,34(2)(、t
#Jm7Hz12−H,几3.61(3H,S 、−C
OOCH,) 15.41(1H1q +J−6Hz
。
4−H) 、5.9−6.3(LH,m、5−H) 、
6.36(2H,d+J’6Hzio−H)、6.s−
8,0(8H,m、6.7+11+13−HoCsL)
高物性成分 1’1nlr(δ) : 2.00(3H,S、−
0CCHs) 、Ca、2.00(2H,m。
6.36(2H,d+J’6Hzio−H)、6.s−
8,0(8H,m、6.7+11+13−HoCsL)
高物性成分 1’1nlr(δ) : 2.00(3H,S、−
0CCHs) 、Ca、2.00(2H,m。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 [式中R^1は炭素数1〜10の置換または非置換のア
ルキル基を表わし、Arは炭素数6〜12の置換または
非置換のフェニル基を表 わし、記号■は単結合で2重結合に関し てE体、Z体またはこれらの混合物を表わ す。] で表わされる4−アリールメチレン−5−アルケニリデ
ン−2−シクロペンテノン類。 2、Arがフェニルまたはp−フルオロフェニルである
特許請求の範囲第1項記載の4−アリールメチレン−5
−アルケニリデン−2−シクロペンテノン類。 3、R^1がモノヒドロキシペンチルまたはヒドロキシ
ブチルである特許請求の範囲第1項または第2項記載の
、4−アリールメチレン−5−アルケニリデン−2−シ
クロペンテノン類。 4、R^1が1−アセトキシ−3−エトキシカルボニル
プロピル基である特許請求の範囲第1項または第2項記
載の4−アリールメチレン−5−アルケニリデン−2−
シクロペンテノン類。 5、下記式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 〔式中R^1、Ar、および記号■は前記定義に同じ。 〕で表わされるフェニルスルフィド類を酸化し、phS
OHを脱離せしめ、必要に応じて脱保護反応に付すこと
を特徴とする下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 [式中、R^1、Ar及び記号■の定義は上記に同じ。 ] で表わされる4−アリールメチレン−5−アルケニリデ
ン−2−シクロペンテノン類の製法。 6、酸化反応を有機過酸を用いて行なう特許請求の範囲
第5項記載の4−アリールメチレン−5−アルケニリデ
ン−2−シクロペンテノン類の製法。 7、有機過酸がm−クロロ過安息香酸である特許請求の
範囲第6項記載の4−アリールメチレン−5−アルケニ
リデン−2−シクロペンテノン類の製法。 8、phSOHの脱離反応を加熱により行なう特許請求
の範囲第5項〜第7項のうちいづれか1項記載の4−ア
リールメチレン−5−アルケニリデン−2−シクロペン
テノン類の製法。 9、下記式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔III〕 [式中、R^1、Ar、および記号■は前記定義に同じ
。] で表わされるシクロペンテノン類を脱水反応に付し、つ
いでこれを酸化し、phSOHを脱離せしめ、必要に応
じて脱保護反応に付すことを特徴とする下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 [式中、R^1、Ar及び記号■の定義は上記に同じ。 ] で表わされる4−アリールメチレン−5−アルケニリデ
ン−2−シクロペンテノン類の製法。 10、脱水反応を塩化第一銅存在下、N,N′−ジシク
ロヘキシルカルボジイミドを用いて行なう特許請求の範
囲第9項記載の4−アリールメチレン−5−アルケニリ
デン−2−シクロペンテノン類の製法。 (11)下記式〔IV〕 phSCH_2Ar・・・〔IV〕 [式中、Arは前記定義に同じ。] で表わされるフェニルスルフィド類をリチオ化し、これ
に下記式〔V〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔V〕 [式中、R^2はアルコールの保護基を表わす。]で表
わされる保護された4−ヒドロキシ−2−シクロペンテ
ノン類を反応せしめ、反応物を下記式〔VI〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔VI〕 [式中R^1および■は前記定義に同じ。]で表わされ
るアルデヒド類で捕捉し下記式 〔VII〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔VII〕 [式中R^1、R^2、Ar、および■は前記定義に同
じ。] で表わされる縮合体を得、これを単離精製することなく
、下記式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔III〕 [式中、R^1、Ar及び記号■は前記定義に同じ。] で表わされるシクロペンテノン類とし、これを脱水反応
、ついで酸化反応に対し、phSOHを脱離させた後、
必要に応じて脱保護反応に付することを特徴とする下記
式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 [式中、R^1、Ar及び記号■は前記定義に同で表わ
される4−アリールメチレン−5−アルチニリデン−2
−シクロペンテノン類の製法。 12、上記式〔VII〕の製造に際し、りん酸ヘキサメチ
ルトリアミド存在下に行なう特許請求の範囲第11項記
載の4−アリールメチレン−5−アルケニリデン−2−
シクロペンテノン類の製法。 13、上記式〔VII〕の製造において塩化トリ−n−ブ
チル錫を添加して行なう特許請求の範囲第12項記載の
4−アリールメチレン−5−アルケニリデン−2−シク
ロペンテノン類の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60224919A JPH0641431B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 4―アリールメチレン―5―アルケニリデン―2―シクロペンテノン類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60224919A JPH0641431B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 4―アリールメチレン―5―アルケニリデン―2―シクロペンテノン類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6287547A true JPS6287547A (ja) | 1987-04-22 |
| JPH0641431B2 JPH0641431B2 (ja) | 1994-06-01 |
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ID=16821220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60224919A Expired - Fee Related JPH0641431B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 4―アリールメチレン―5―アルケニリデン―2―シクロペンテノン類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0641431B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112020003292B4 (de) | 2019-07-10 | 2026-02-26 | Mitsubishi Electric Corporation | Thermoplastische Harzzusammensetzung, Formartikel und Erzeugnis |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP60224919A patent/JPH0641431B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112020003292B4 (de) | 2019-07-10 | 2026-02-26 | Mitsubishi Electric Corporation | Thermoplastische Harzzusammensetzung, Formartikel und Erzeugnis |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0641431B2 (ja) | 1994-06-01 |
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