JPS6287936A - 液晶デイスプレ−用電極基板 - Google Patents
液晶デイスプレ−用電極基板Info
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- JPS6287936A JPS6287936A JP60228264A JP22826485A JPS6287936A JP S6287936 A JPS6287936 A JP S6287936A JP 60228264 A JP60228264 A JP 60228264A JP 22826485 A JP22826485 A JP 22826485A JP S6287936 A JPS6287936 A JP S6287936A
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- Japan
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- liquid crystal
- electrode
- light
- shielding film
- crystal display
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は液晶ディスプレー用電極基板に関する。
液晶ディスプレーは、液晶材料を２枚の対向する電極基
板間に入れ、その電極間に電圧を印加して液晶の電気光
学的効果を利用し画１象表示を行うものである。
板間に入れ、その電極間に電圧を印加して液晶の電気光
学的効果を利用し画１象表示を行うものである。
（従来の技術）
液晶ディスプレーの表示方式、駆動方式は各種提案され
ており、電極基板も各方式に適合したものが研究開発さ
れている。本発明は電極基板の構成に係るものであり１
本発明による電極基板を液晶ディスプレーに使用するこ
とにより高画質の映１象を得ることが出来る。液晶ディ
スプレーをカラー表示する方法も多く提案されているが
、現在マルチカラー又はフルカラーを表示するには色フ
ィルターを設ける方法ｂ’−一般的である。
ており、電極基板も各方式に適合したものが研究開発さ
れている。本発明は電極基板の構成に係るものであり１
本発明による電極基板を液晶ディスプレーに使用するこ
とにより高画質の映１象を得ることが出来る。液晶ディ
スプレーをカラー表示する方法も多く提案されているが
、現在マルチカラー又はフルカラーを表示するには色フ
ィルターを設ける方法ｂ’−一般的である。
代表的駆動方式であるＸ−Ｙマトリックス方式を用いて
電極基板を説明する。第８図（イ）に示す様に電極基板
は２枚で１，１ｉ１１を構成する。電極基板は透明基板
（１）、 （２）に必要に応じて後述する色フイルタ−
、透明電極等が形成されている。（第８図では省略）第
８図（ロ）に第８図（イ）の断面を示す０必快に応じて
色フイルタ−、及び透明電極等が形成しである透明基板
（１） （２）の周辺部に接着剤（３）を付けて貼り合
す。尚この時に２枚の電極基板間を例えば１０μｍ程度
に保持するためガラスピーズ等からなるスペーサー（４
）を必要とする。この様に一定間隔なおいて合わさった
２枚の電極基板は液晶封入装装置の中に於て液晶を封入
した後封入口を封止する。
電極基板を説明する。第８図（イ）に示す様に電極基板
は２枚で１，１ｉ１１を構成する。電極基板は透明基板
（１）、 （２）に必要に応じて後述する色フイルタ−
、透明電極等が形成されている。（第８図では省略）第
８図（ロ）に第８図（イ）の断面を示す０必快に応じて
色フイルタ−、及び透明電極等が形成しである透明基板
（１） （２）の周辺部に接着剤（３）を付けて貼り合
す。尚この時に２枚の電極基板間を例えば１０μｍ程度
に保持するためガラスピーズ等からなるスペーサー（４
）を必要とする。この様に一定間隔なおいて合わさった
２枚の電極基板は液晶封入装装置の中に於て液晶を封入
した後封入口を封止する。
本発明に係わる電極基板に関して述べれば第９図に従来
用いられて来たカラー用の電極基板の一例を断面図で示
す。透明基板（１）に例えばクロム膜をスパッターリン
グ及びホトエツチングの技術等本 により形成して遮光膜（５）とする。次に梅、緑、禅の
色フイルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）を染色法等
の方法により形成する。次に液晶駆動用の透明電極（７
）を酸化インジウム模を真空蒸着、ホトエツチング等の
技術により形成する。通常はこね７に更にポリイミドレ
ジン等をコーテングしてラビング処理し配向膜として電
極基板の一方が完成される。他の一方の電極基板はカラ
ー液晶ディスプレーの動作原理からして色フイルタ−（
６Ｒ）。
用いられて来たカラー用の電極基板の一例を断面図で示
す。透明基板（１）に例えばクロム膜をスパッターリン
グ及びホトエツチングの技術等本 により形成して遮光膜（５）とする。次に梅、緑、禅の
色フイルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）を染色法等
の方法により形成する。次に液晶駆動用の透明電極（７
）を酸化インジウム模を真空蒸着、ホトエツチング等の
技術により形成する。通常はこね７に更にポリイミドレ
ジン等をコーテングしてラビング処理し配向膜として電
極基板の一方が完成される。他の一方の電極基板はカラ
ー液晶ディスプレーの動作原理からして色フイルタ−（
６Ｒ）。
（６Ｇ）、（６Ｂ）は必要としないが大略同様な構造な
有する。
有する。
又色フィルター付電極基板の構造に関しては第１０図に
示す如き構造も提案されている。即ち透明基板（１）に
まず透明電極（７）と遮光膜（５）を形成ｌ−だ後これ
らの上面に色フイルタ−（６Ｒ）、 （６Ｇ）。
示す如き構造も提案されている。即ち透明基板（１）に
まず透明電極（７）と遮光膜（５）を形成ｌ−だ後これ
らの上面に色フイルタ−（６Ｒ）、 （６Ｇ）。
（６Ｂ）を形成して最後に配向膜を形成する。
（発明が解決しようとする問題点）
液晶ディスプレーは隘極線管その他のディスプレーと比
較してその応答速度が遅い点が問題である。従って例え
ばカラーテレビジョン等に用いる場合には走査電極数を
減らしたり又は薄膜トランジスタを用いて液晶に電圧が
印加される時間を実効的に長くしこれらの問題点を改善
している。但しこれらの方法は例えば走査電極数を減ら
せば微少映像の歪が発生し垂直方向の解１象度が劣化を
来たす。又薄膜トランジスタな用いる方法は基板全面に
薄膜トランジスタを多数形成する必要があり画面の大型
化及びコストの点から極めて問題が多（′１゜ 一方液晶材料に関しては材料の研究開発が漬極的に行わ
れており、その中で近年注目を受けているが１強電性液
晶もその一つである。本発明は例えば強請性液晶を用い
る時の如く電極基板間隔な従来の大略１０μｍ より大
巾に狭くする必要があり、この場合、電極基板を合理的
に精度よく製作し、高品質のカラー液晶ディスプレーの
映１象を得る必要があった。しかしその様な精度に電極
基板間の距離を持たせることは出来なかった。
較してその応答速度が遅い点が問題である。従って例え
ばカラーテレビジョン等に用いる場合には走査電極数を
減らしたり又は薄膜トランジスタを用いて液晶に電圧が
印加される時間を実効的に長くしこれらの問題点を改善
している。但しこれらの方法は例えば走査電極数を減ら
せば微少映像の歪が発生し垂直方向の解１象度が劣化を
来たす。又薄膜トランジスタな用いる方法は基板全面に
薄膜トランジスタを多数形成する必要があり画面の大型
化及びコストの点から極めて問題が多（′１゜ 一方液晶材料に関しては材料の研究開発が漬極的に行わ
れており、その中で近年注目を受けているが１強電性液
晶もその一つである。本発明は例えば強請性液晶を用い
る時の如く電極基板間隔な従来の大略１０μｍ より大
巾に狭くする必要があり、この場合、電極基板を合理的
に精度よく製作し、高品質のカラー液晶ディスプレーの
映１象を得る必要があった。しかしその様な精度に電極
基板間の距離を持たせることは出来なかった。
（問題を解決する為の手段）
液晶ディスプレーに於ける液晶Ｉ−の厚さを一定化する
為のスペーサー機能を有する遮光膜な電極基板に形成し
又必要に応じて、前記遮光膜に欠落部を設けて、後工程
に於ての液晶封入をより容易にする事により、電極基板
の距離を０．５〜２μｍの間にでき１強誘電性液晶を用
いることができる様になり、高品質の液晶表示画１象を
得る事が可能であり又容易になる。
為のスペーサー機能を有する遮光膜な電極基板に形成し
又必要に応じて、前記遮光膜に欠落部を設けて、後工程
に於ての液晶封入をより容易にする事により、電極基板
の距離を０．５〜２μｍの間にでき１強誘電性液晶を用
いることができる様になり、高品質の液晶表示画１象を
得る事が可能であり又容易になる。
（作用）
本発明によると、従来問題となっていた電極基板間の距
離に精度を持たせることが出来、これにより従来扱いの
困難であった強請′亀注液晶を用いて液晶ディスプレー
を作製することが出来る。
離に精度を持たせることが出来、これにより従来扱いの
困難であった強請′亀注液晶を用いて液晶ディスプレー
を作製することが出来る。
（実施例）
本発明の詳細を述べれば、第１図にその一例を示す。透
明基板（１）に例えば酸化インジウムからなる透明電極
（力を形成する。これは通常スパッターリング又は真空
蒸着法により形成した酸化インジウムの膜をホトエツチ
ングの技術により所定の形状に加工すると第１図（イ）
に示される様になった。
明基板（１）に例えば酸化インジウムからなる透明電極
（力を形成する。これは通常スパッターリング又は真空
蒸着法により形成した酸化インジウムの膜をホトエツチ
ングの技術により所定の形状に加工すると第１図（イ）
に示される様になった。
次に色フィルターの例えば（６Ｒ）、（６Ｇ）。
（６Ｂ）を形成する。この色フイルタ−（、ＳＲ）。
（６Ｇ）、（６Ｂ）は通常例えばゼラチン層を順次染色
して形成する方法が一般的である。次に遮光膜（８）を
形成するこの遮光膜（８）は第９図又は第１０図に示す
遮光性のみを有する遮光膜ではなく、液晶を封入する為
に必要とする電極基板の間隔を均一に形成する為のスペ
ーサーとしての機能を持たせる。遮光膜（８）の形成は
印刷技術が一般的であるがその他の技術例えばホ） Ｉ
Ｊソゲラフイーの技術を適用してもよい。スペーサー機
能を有する遮光膜（８）の膜厚は例えば前述の連鋳′ｉ
こ性液晶を使用する場合には０５〜２μｍ程度が適当で
あると考える。第１図に於ては透明基板（１）に透明電
極（７）及び色フイルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ
）を形成した上面に遮光膜（８）を形成しているカー、
本発明による他の例を示すと、第８図で説明した如く電
極基板は２枚で１Ｍｉを構成するものであるがスペーサ
ー機能を備えた遮光膜（８）は色フィルターを形成して
いない方の電極基板に形成することも勿論可能であり、
第２図にその一例を示す。透明基板（２）に透明電極（
９）を形成した後遮光膜（８）を形成することも出来る
。又第２図に於ては透明基板（２）に透明電極（９）を
形成した後遮光膜（８）を形成しているが。
して形成する方法が一般的である。次に遮光膜（８）を
形成するこの遮光膜（８）は第９図又は第１０図に示す
遮光性のみを有する遮光膜ではなく、液晶を封入する為
に必要とする電極基板の間隔を均一に形成する為のスペ
ーサーとしての機能を持たせる。遮光膜（８）の形成は
印刷技術が一般的であるがその他の技術例えばホ） Ｉ
Ｊソゲラフイーの技術を適用してもよい。スペーサー機
能を有する遮光膜（８）の膜厚は例えば前述の連鋳′ｉ
こ性液晶を使用する場合には０５〜２μｍ程度が適当で
あると考える。第１図に於ては透明基板（１）に透明電
極（７）及び色フイルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ
）を形成した上面に遮光膜（８）を形成しているカー、
本発明による他の例を示すと、第８図で説明した如く電
極基板は２枚で１Ｍｉを構成するものであるがスペーサ
ー機能を備えた遮光膜（８）は色フィルターを形成して
いない方の電極基板に形成することも勿論可能であり、
第２図にその一例を示す。透明基板（２）に透明電極（
９）を形成した後遮光膜（８）を形成することも出来る
。又第２図に於ては透明基板（２）に透明電極（９）を
形成した後遮光膜（８）を形成しているが。
遮光膜（８）を形成した後に透明成極（９）な形成する
ことも出来る。
ことも出来る。
本発明による別の一例を第６図に示す。この第３図の例
では遮光膜を色フイルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ
）を重ね合わせて形成し、これにスペーサーとしての機
能を備えさせたものである。
では遮光膜を色フイルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ
）を重ね合わせて形成し、これにスペーサーとしての機
能を備えさせたものである。
第３図（イ）に示す様に透明基板（１１に透明成極（力
を形成し、前述の９口く例えば染色法により赤色光のみ
透過する色フイルタ−（６Ｒ）を第６図（ロ）に示す如
く遮光１漠な形成すべき部分も含めて形成する。
を形成し、前述の９口く例えば染色法により赤色光のみ
透過する色フイルタ−（６Ｒ）を第６図（ロ）に示す如
く遮光１漠な形成すべき部分も含めて形成する。
次に第５図←→に示す様に色フイルタ−、例えば緑色光
のみな透過する（６Ｇ）？形成する。この色フイルタ−
（６Ｇ）も本来緑色フィルターとして機能する部分と前
記遮光膜を形成すべき部分へ形成する。更に第６図に）
に示す様に青色光のみを透過する色フイルタ−（６Ｂ）
を同様に形成する。
のみな透過する（６Ｇ）？形成する。この色フイルタ−
（６Ｇ）も本来緑色フィルターとして機能する部分と前
記遮光膜を形成すべき部分へ形成する。更に第６図に）
に示す様に青色光のみを透過する色フイルタ−（６Ｂ）
を同様に形成する。
第５図に）から解る様に第２図（ロ）に示す遮光膜（８
）に相当する遮光膜ｈ″−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ
）の積層によって形成出来る。前記の染色法による色フ
ィルターの形成は公知事実であるが、例えばゼラチンに
増感剤を加えこれをスピンコード法により０．５〜２μ
ｍの厚さに塗布し、その後ホトリ色、緑色、青色に関し
℃くり返す事で６色からなるそれぞれの色フイルタ−（
６Ｒ）、（６Ｇ） 、（６Ｂ）が完成する。色フィル
ターの形成方法は染色方法の外に一般的に実施されてい
る印刷方法を用いてもよい。又前記染色方法による色フ
ィルターは被染色層のゼラチン漠の厚さを粘度、スピン
ナーの回転速度等をコントロールする事により精度よく
所定の膜厚とする事が出来る。従ってこの電極基板を用
いて′成極間隔を調整すると、精度よく間隔を調整する
ことができる。これは色フイルタ−（６Ｒ）、（＋ＳＧ
）、（６Ｂ）の積層により形成した遮光膜の厚さを高精
度に制御する事を意味する。
）に相当する遮光膜ｈ″−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ
）の積層によって形成出来る。前記の染色法による色フ
ィルターの形成は公知事実であるが、例えばゼラチンに
増感剤を加えこれをスピンコード法により０．５〜２μ
ｍの厚さに塗布し、その後ホトリ色、緑色、青色に関し
℃くり返す事で６色からなるそれぞれの色フイルタ−（
６Ｒ）、（６Ｇ） 、（６Ｂ）が完成する。色フィル
ターの形成方法は染色方法の外に一般的に実施されてい
る印刷方法を用いてもよい。又前記染色方法による色フ
ィルターは被染色層のゼラチン漠の厚さを粘度、スピン
ナーの回転速度等をコントロールする事により精度よく
所定の膜厚とする事が出来る。従ってこの電極基板を用
いて′成極間隔を調整すると、精度よく間隔を調整する
ことができる。これは色フイルタ−（６Ｒ）、（＋ＳＧ
）、（６Ｂ）の積層により形成した遮光膜の厚さを高精
度に制御する事を意味する。
又本発明によれば第４図に示す様にストライプ状の色フ
イルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）の間の全てを遮
光膜（８）又は色フイルタ−（６Ｒ）。
イルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）の間の全てを遮
光膜（８）又は色フイルタ−（６Ｒ）。
（６Ｇ）、（６Ｂ）の積層で埋めても支障は少ないが、
第５図に示す如＜ｘ−ｙマ） ＩＪフックス外の駆動方
式１例えばスタティック駆動方式の電極基板にはストラ
イプ状の色フィルターではなく例えば角型ドツトなどが
用いられる場合が多い。この場合には色フイルタ−（６
Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）の間を全て遮光１漠（８）で
埋めると液晶の封入がむづかしい。従って第７図に示す
様に、ディスプレーの映１象を表示した場合に支障のな
い＠囲で遮光部の欠落部分ｔｌＯ）を形成する。
第５図に示す如＜ｘ−ｙマ） ＩＪフックス外の駆動方
式１例えばスタティック駆動方式の電極基板にはストラ
イプ状の色フィルターではなく例えば角型ドツトなどが
用いられる場合が多い。この場合には色フイルタ−（６
Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）の間を全て遮光１漠（８）で
埋めると液晶の封入がむづかしい。従って第７図に示す
様に、ディスプレーの映１象を表示した場合に支障のな
い＠囲で遮光部の欠落部分ｔｌＯ）を形成する。
勿論色フイルタ−（６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）がスト
ライプ状の場合にも第６図に示す様に液晶ディスプレー
の映１象を表示した場合に支障のない範囲で遮光部の欠
落部分１１０）を形成し、より液晶を封入し易（する事
も出来る。
ライプ状の場合にも第６図に示す様に液晶ディスプレー
の映１象を表示した場合に支障のない範囲で遮光部の欠
落部分１１０）を形成し、より液晶を封入し易（する事
も出来る。
なお、遮光膜の欠落部に関しては色フィルター？形成す
る側の電極基板に関して説明して来たが。
る側の電極基板に関して説明して来たが。
（色フィルターを形成しない方の電極基板である対向基
板に関しても本発明の範囲内である事は明らかである。
板に関しても本発明の範囲内である事は明らかである。
（発明の効果）
本発明により、゛電極基板の間隔を精度よく一定とする
事ができる様になった。これにまり画１象が高精度とな
る。また更に０．５〜２μｍの様な小さい距離の電極基
板間隔の場合でも精度よく電極基板の間隔な調整でさ５
強請゛成液晶を用いる事が出来る様になった。
事ができる様になった。これにまり画１象が高精度とな
る。また更に０．５〜２μｍの様な小さい距離の電極基
板間隔の場合でも精度よく電極基板の間隔な調整でさ５
強請゛成液晶を用いる事が出来る様になった。
第１図〜第３ｍ：本余明の電極板の断面を示す第４図〜
第７図二本発明の電極基板の平面を示す図 第８図：カラー液晶ディスプレー′覗蝋基板の組立の説
明に供する図 第９図、第１０図：従来の電極基板の一例の断面を示オ
図 ｍ、（２）：透明基板 （６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）：色フイルタ−（８）：
遮光膜 １０）二連光膜の欠落部
第７図二本発明の電極基板の平面を示す図 第８図：カラー液晶ディスプレー′覗蝋基板の組立の説
明に供する図 第９図、第１０図：従来の電極基板の一例の断面を示オ
図 ｍ、（２）：透明基板 （６Ｒ）、（６Ｇ）、（６Ｂ）：色フイルタ−（８）：
遮光膜 １０）二連光膜の欠落部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）少なくとも透明基板と透明電極と遮光膜からなる液
晶ディスプレー用電極基板に於て、前記遮光膜が対向す
る基板まで延設していることを特徴とする液晶ディスプ
レー用電極基板。 ２）対向する基板まで延設している遮光膜に欠落部があ
る事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の液晶ディ
スプレー用電極基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228264A JPS6287936A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 液晶デイスプレ−用電極基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228264A JPS6287936A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 液晶デイスプレ−用電極基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6287936A true JPS6287936A (ja) | 1987-04-22 |
Family
ID=16873748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60228264A Pending JPS6287936A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 液晶デイスプレ−用電極基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6287936A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63225226A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-20 | Koito Mfg Co Ltd | カラ−表示液晶表示装置 |
| JPS6429802A (en) * | 1987-07-24 | 1989-01-31 | Toppan Printing Co Ltd | Color filter |
| JPH0358023A (ja) * | 1989-07-27 | 1991-03-13 | Optrex Corp | 液晶表示素子及びその製造方法 |
| JPH04122914A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-23 | Nec Corp | カラー液晶表示装置 |
| US5181132A (en) * | 1990-05-31 | 1993-01-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device and method for producing the same with metal spacer in hole of thin film device's insulator |
| EP1102110A3 (en) * | 1999-11-16 | 2001-10-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device |
-
1985
- 1985-10-14 JP JP60228264A patent/JPS6287936A/ja active Pending
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|---|---|---|---|---|
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