JPS6288314A - 鉄−銅系磁性薄膜の形成方法 - Google Patents
鉄−銅系磁性薄膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS6288314A JPS6288314A JP23041285A JP23041285A JPS6288314A JP S6288314 A JPS6288314 A JP S6288314A JP 23041285 A JP23041285 A JP 23041285A JP 23041285 A JP23041285 A JP 23041285A JP S6288314 A JPS6288314 A JP S6288314A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- iron
- copper
- thin film
- target
- targets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- IYRDVAUFQZOLSB-UHFFFAOYSA-N copper iron Chemical compound [Fe].[Cu] IYRDVAUFQZOLSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 4
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 8
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 8
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005478 sputtering type Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はテープやディスク等の磁気記録媒体や磁気記録
媒体用ヘッドとして好適な使用が行える磁性薄膜の形成
方法に関する。
媒体用ヘッドとして好適な使用が行える磁性薄膜の形成
方法に関する。
(従来の技術)
従来、この種磁気記録媒体等の製造方法としては例えば
磁性材料の微粒子とバインダとからなる磁性ペイントを
基板(ベース)」二に塗布する手段が周知であるが、こ
の手段は実際上技術的なノウハウが多く極めて高度な技
術を要するという難点を有するために、近年に於いては
前記手段に換わって磁性材料の微粒子の薄膜を真空蒸着
法にて基板上に析出させる手段が多用されるに至ってお
り、該真空蒸着法に使用する磁性材料としてはコバルト
とニッケルの合金等磁性特性を良好とするためにコバル
トが主体とされていたのである。
磁性材料の微粒子とバインダとからなる磁性ペイントを
基板(ベース)」二に塗布する手段が周知であるが、こ
の手段は実際上技術的なノウハウが多く極めて高度な技
術を要するという難点を有するために、近年に於いては
前記手段に換わって磁性材料の微粒子の薄膜を真空蒸着
法にて基板上に析出させる手段が多用されるに至ってお
り、該真空蒸着法に使用する磁性材料としてはコバルト
とニッケルの合金等磁性特性を良好とするためにコバル
トが主体とされていたのである。
(発明が解決しようとする問題点)
しかるに、前記従来に於いては磁性材料の材質としてコ
バルトを主体に使用してなるのであるが、該コバルトは
世界的に見ても非常に資源が少なく高価であるために、
製造された磁性薄膜製品がその材料費のコストが原因と
なって非常に高価なものになるという大なる問題点を有
し、特にこのような問題点は前記真空蒸着法の手段に限
らず、前記前者の磁性ペイントを基板上に塗布する手段
に於いてもコバルトが主体として使用されていたために
同様な問題点が生じており、これが磁性薄膜の形成・製
造分野全体の難点となっていた。
バルトを主体に使用してなるのであるが、該コバルトは
世界的に見ても非常に資源が少なく高価であるために、
製造された磁性薄膜製品がその材料費のコストが原因と
なって非常に高価なものになるという大なる問題点を有
し、特にこのような問題点は前記真空蒸着法の手段に限
らず、前記前者の磁性ペイントを基板上に塗布する手段
に於いてもコバルトが主体として使用されていたために
同様な問題点が生じており、これが磁性薄膜の形成・製
造分野全体の難点となっていた。
本発明は上記の如き従来の問題点に鑑みて発明されたも
ので、その目的とするところは、高価なコバルトを主体
にすることなく磁気記録媒体として好適な磁性特性に優
れた安価な磁性薄膜の形成、製造をおこなわせる点にあ
る。
ので、その目的とするところは、高価なコバルトを主体
にすることなく磁気記録媒体として好適な磁性特性に優
れた安価な磁性薄膜の形成、製造をおこなわせる点にあ
る。
(問題点を解決するための手段)
本発明は従来の如く高価なコバルトを使用することなく
、飽和磁束密度が大きく磁性に優れて安価に入手できる
鉄の特性に着目し、該鉄を主体としてこれに鉄の磁性を
変化させるための安価な材料を添加させる磁性薄膜の形
成手段を開発することにより、前記従来の問題点を解決
せんとして構成されたものである。
、飽和磁束密度が大きく磁性に優れて安価に入手できる
鉄の特性に着目し、該鉄を主体としてこれに鉄の磁性を
変化させるための安価な材料を添加させる磁性薄膜の形
成手段を開発することにより、前記従来の問題点を解決
せんとして構成されたものである。
すなわち、本発明の構成の要旨は、鉄の磁性を変化させ
る材料として銅を選択し、該銅と鉄との両者にてターゲ
ットを形成し、該ターゲットをスパッタ装置にてスパッ
タせしめることにより鉄と銅の飛散原子を基板上に被着
させる点にある。
る材料として銅を選択し、該銅と鉄との両者にてターゲ
ットを形成し、該ターゲットをスパッタ装置にてスパッ
タせしめることにより鉄と銅の飛散原子を基板上に被着
させる点にある。
(作用)
従って、前記スパッタによりターゲットから飛散して基
板上に被着される鉄と銅は合金状態で薄膜杖に形成され
、この種鉄−銅系の合金製造が困難とされていたにも拘
らず適切な鉄−銅系合金の薄膜製造が行えるのであるが
、該薄膜に於いては鉄の磁性が銅の含有量で変化させる
ことができること(!:なって、該薄膜の保磁力、飽和
磁束密度を用途に応じた状態に制御できるのである。
板上に被着される鉄と銅は合金状態で薄膜杖に形成され
、この種鉄−銅系の合金製造が困難とされていたにも拘
らず適切な鉄−銅系合金の薄膜製造が行えるのであるが
、該薄膜に於いては鉄の磁性が銅の含有量で変化させる
ことができること(!:なって、該薄膜の保磁力、飽和
磁束密度を用途に応じた状態に制御できるのである。
(実施例)
以下、本発明の実施態様について図面に示した一実施例
に従って説明する。
に従って説明する。
すなわち、本実施例は第1図に示す如き対向ターゲット
式スパッタ装置を使用して磁性薄膜の成形を行うのであ
るが、先ずその前段階として第2図に示す如く鉄からな
る中空円板1の中心部に銅製の円板2を一体的に嵌合せ
しめて鉄及び銅からなるターゲット3を予め形成してお
く。
式スパッタ装置を使用して磁性薄膜の成形を行うのであ
るが、先ずその前段階として第2図に示す如く鉄からな
る中空円板1の中心部に銅製の円板2を一体的に嵌合せ
しめて鉄及び銅からなるターゲット3を予め形成してお
く。
次に、前記ターゲット3を第1図に示す如くスパッタ装
置4のターゲットホルダー5.5に夫々装着して、前記
二個のターゲット3.3を相互に対面させた状態でスパ
ッタ作業を行うのであるが、そのスパッタ作業について
簡略すれば、先ず真空槽6内部の真空排気を行った後に
別途該真空槽6内へアルゴン等のスパッタガスを導入し
て該ガス圧を低圧の所定圧に設定せしめ、その後ターゲ
ット3.3を陰極とすべく電圧を印加せしめるのである
。よって、接地されたシールドリング7.7と前記ター
ゲット3.3との相互間にはグロー放電が生じ、磁石8
.8によりターゲット3.3に対して垂直方向の磁界が
形成されてなる空間部9に於いて前記ターゲット3.3
の鉄及び銅の原子、二次電子、及びアルゴンイオン等の
飛散したプラズマ状態が発生し、そしてこのプラズマ空
間内の鉄及び銅原子が予め前記空間部9の側方に設けた
基板IOの表面に被着して、該基板10上に鉄及び銅の
合金状態の磁性薄膜が形成されるのである。
置4のターゲットホルダー5.5に夫々装着して、前記
二個のターゲット3.3を相互に対面させた状態でスパ
ッタ作業を行うのであるが、そのスパッタ作業について
簡略すれば、先ず真空槽6内部の真空排気を行った後に
別途該真空槽6内へアルゴン等のスパッタガスを導入し
て該ガス圧を低圧の所定圧に設定せしめ、その後ターゲ
ット3.3を陰極とすべく電圧を印加せしめるのである
。よって、接地されたシールドリング7.7と前記ター
ゲット3.3との相互間にはグロー放電が生じ、磁石8
.8によりターゲット3.3に対して垂直方向の磁界が
形成されてなる空間部9に於いて前記ターゲット3.3
の鉄及び銅の原子、二次電子、及びアルゴンイオン等の
飛散したプラズマ状態が発生し、そしてこのプラズマ空
間内の鉄及び銅原子が予め前記空間部9の側方に設けた
基板IOの表面に被着して、該基板10上に鉄及び銅の
合金状態の磁性薄膜が形成されるのである。
従って、前記磁性薄膜は鉄自体の有する磁性を銅で変化
させることができるのであるが、その磁性はターゲット
3の形成時の鉄と銅の比率配分の変更により自在に制御
できることは勿論のこと、前記基板10に印加せしめる
バイアス電圧やアルゴン等のスパッタガス圧力の調整に
よっても前記薄膜の磁性を自在に制御することができ、
実際土木発明出願人がこれを実験したところ、 飽和磁束密度4πMs:1.2キロ〜20キロガウス 保磁力Hc:数oe〜約1.0OOe 以上の如く前記磁性薄膜の磁性を自在に制御できて、例
えば垂直磁気記録媒体等としての使用に非常に有望なも
のとなるのである。
させることができるのであるが、その磁性はターゲット
3の形成時の鉄と銅の比率配分の変更により自在に制御
できることは勿論のこと、前記基板10に印加せしめる
バイアス電圧やアルゴン等のスパッタガス圧力の調整に
よっても前記薄膜の磁性を自在に制御することができ、
実際土木発明出願人がこれを実験したところ、 飽和磁束密度4πMs:1.2キロ〜20キロガウス 保磁力Hc:数oe〜約1.0OOe 以上の如く前記磁性薄膜の磁性を自在に制御できて、例
えば垂直磁気記録媒体等としての使用に非常に有望なも
のとなるのである。
尚、上記実施例に於いてはターゲット3のスパックを対
向ターゲット式スパッタ装置の使用により行って、スパ
ッタにより発生するプラズマをターゲット3.3と直交
する方向に作用する磁石8.8の磁力によってターゲッ
ト3.3間に束縛させてなるために、該ターゲット3.
3間の側方の基板10上の成膜面が前記プラズマに晒さ
れたり、或いは負イオン等の高速粒子から衝撃を受ける
ようなことが防止できることとなって、極めて高品質の
磁性薄膜が形成できるという利点がある。
向ターゲット式スパッタ装置の使用により行って、スパ
ッタにより発生するプラズマをターゲット3.3と直交
する方向に作用する磁石8.8の磁力によってターゲッ
ト3.3間に束縛させてなるために、該ターゲット3.
3間の側方の基板10上の成膜面が前記プラズマに晒さ
れたり、或いは負イオン等の高速粒子から衝撃を受ける
ようなことが防止できることとなって、極めて高品質の
磁性薄膜が形成できるという利点がある。
但し、本発明はターゲットのスパッタ手段に関しては決
して」二記の如く対向ターゲットの使用に限定されず、
他の型式のスパッタ装置の使用によっても何ら構わない
。
して」二記の如く対向ターゲットの使用に限定されず、
他の型式のスパッタ装置の使用によっても何ら構わない
。
また、上記実施例のターゲットは鉄の内縁部位置に銅を
配置せしめて構成されてなるが、本発明に係るターゲッ
トの構成は決してこれに限定されるものではなく、鉄と
銅との具体的な配置、組み合わせの態様は問うものでは
なく、更には鉄銅以外の材料が多少添加されていても何
ら構わないのである。要は少なくとも鉄及び銅からター
ゲットが構成されておればよい。
配置せしめて構成されてなるが、本発明に係るターゲッ
トの構成は決してこれに限定されるものではなく、鉄と
銅との具体的な配置、組み合わせの態様は問うものでは
なく、更には鉄銅以外の材料が多少添加されていても何
ら構わないのである。要は少なくとも鉄及び銅からター
ゲットが構成されておればよい。
その他、本発明は薄膜を被着させるための基板の具体的
な形状、材質は設計変更自在である等、本発明に係る各
工程、手段は本発明の意図する範囲内にて変更自在であ
る。
な形状、材質は設計変更自在である等、本発明に係る各
工程、手段は本発明の意図する範囲内にて変更自在であ
る。
(発明の効果)
叙上のように、本発明は鉄及び銅からなるターゲットを
スパッタせしめて該鉄及び銅の飛散原子をベース上に被
着せしめることにより、飽和磁束密度や保磁力等の磁性
特性に優れて磁性薄膜として好適な使用が行える鉄鋼合
金の薄膜を形成可能にしてなるために、この種磁性薄膜
の形成に際して何ら従来の如く高価なコバルトを使用す
る必要がなく、その製造コストを従来のものに比して大
幅に低減化することができるという格別な効果を得るに
至った。
スパッタせしめて該鉄及び銅の飛散原子をベース上に被
着せしめることにより、飽和磁束密度や保磁力等の磁性
特性に優れて磁性薄膜として好適な使用が行える鉄鋼合
金の薄膜を形成可能にしてなるために、この種磁性薄膜
の形成に際して何ら従来の如く高価なコバルトを使用す
る必要がなく、その製造コストを従来のものに比して大
幅に低減化することができるという格別な効果を得るに
至った。
特に、本発明に係る鉄−銅系の薄膜は磁気記録媒体用の
ものとしては従来にない全く新規なものであるが、前記
鉄−銅の非常に困難とされていた合金製造作業をスパッ
タ作業により容易に実現させたことによって前記の如き
効果を得たものであり、その実用的価値は多大なもので
ある。
ものとしては従来にない全く新規なものであるが、前記
鉄−銅の非常に困難とされていた合金製造作業をスパッ
タ作業により容易に実現させたことによって前記の如き
効果を得たものであり、その実用的価値は多大なもので
ある。
第1図は本発明に係る薄膜形成作業に使用するスパッタ
装置の一実施例を示す概略説明図。 第2図はターゲットの一実施例を示す斜視図。
装置の一実施例を示す概略説明図。 第2図はターゲットの一実施例を示す斜視図。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくとも鉄及び銅からなるターゲットをスパッタ
せしめて前記鉄と銅の飛散原子を基板上へ薄膜状に被着
せしめることを特徴とする鉄−銅系磁性薄膜の形成方法
。 2 前記ターゲットをスパッタせしめる手段が対向ター
ゲット式スパッタ装置の使用による特許請求の範囲第1
項記載の鉄−銅系磁性薄膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23041285A JPS6288314A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | 鉄−銅系磁性薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23041285A JPS6288314A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | 鉄−銅系磁性薄膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6288314A true JPS6288314A (ja) | 1987-04-22 |
Family
ID=16907478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23041285A Pending JPS6288314A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | 鉄−銅系磁性薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6288314A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57158380A (en) * | 1981-03-26 | 1982-09-30 | Teijin Ltd | Counter target type sputtering device |
-
1985
- 1985-10-15 JP JP23041285A patent/JPS6288314A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57158380A (en) * | 1981-03-26 | 1982-09-30 | Teijin Ltd | Counter target type sputtering device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0093412B1 (en) | Magnetron sputtering apparatusand a method for forming a magnetic thinfilm on the surface of a substrate | |
| US6190516B1 (en) | High magnetic flux sputter targets with varied magnetic permeability in selected regions | |
| JPS5812728B2 (ja) | ジキキロクバイタイノ セイホウ | |
| JPH0234780A (ja) | マグネトロンスパッタ用磁気回路 | |
| JPS6151410B2 (ja) | ||
| JPS6288314A (ja) | 鉄−銅系磁性薄膜の形成方法 | |
| JPS5836413B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法およびその製造装置 | |
| US4476000A (en) | Method of making a magnetic film target for sputtering | |
| JPS59173265A (ja) | スパツタ装置 | |
| JPS63143260A (ja) | スパッタリングターゲット | |
| JPS58199862A (ja) | マグネトロン形スパツタ装置 | |
| JPS59208815A (ja) | マグネトロンスパツタリング装置における埋め込み式複合タ−ゲツト | |
| JPH0641736A (ja) | スパッタリング電極 | |
| JPH02294476A (ja) | マグネトロンスパッタリング用カソード | |
| JPS5917896Y2 (ja) | 高速スパツタ用タ−ゲツト電極 | |
| JPS63277758A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置 | |
| JPH05247637A (ja) | 強磁性体用スパッタリングターゲット | |
| JPH0610347B2 (ja) | 三極スパツタリングソ−ス | |
| JPH0445267A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPH04116154A (ja) | 磁性膜形成用スパッタ装置 | |
| JPS5840248B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS6249974B2 (ja) | ||
| JPS63244728A (ja) | スパツタリング用タ−ゲツト | |
| JPS6031013B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06264218A (ja) | スパッタリングターゲット |