JPS6292301A - 異方導電層を有する透明抵抗シ−ト - Google Patents
異方導電層を有する透明抵抗シ−トInfo
- Publication number
- JPS6292301A JPS6292301A JP60232032A JP23203285A JPS6292301A JP S6292301 A JPS6292301 A JP S6292301A JP 60232032 A JP60232032 A JP 60232032A JP 23203285 A JP23203285 A JP 23203285A JP S6292301 A JPS6292301 A JP S6292301A
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- anisotropic conductive
- conductive layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は情報関連機器において画像情報の人力装置の材
料として用いられる透明抵抗シートに関する。この(4
利を用いて作られた透明な人力デバイスを面状ディスプ
レーと申わで入出力を1111−の面上で行なうJ:う
にしたちの1,117ーブ[]ヤ)−1ンピユーターあ
るいは画像電話の端末として用いられる。
料として用いられる透明抵抗シートに関する。この(4
利を用いて作られた透明な人力デバイスを面状ディスプ
レーと申わで入出力を1111−の面上で行なうJ:う
にしたちの1,117ーブ[]ヤ)−1ンピユーターあ
るいは画像電話の端末として用いられる。
(従来の技術)
適当な面抵抗を持つシー1への周辺に複数個の電極を設
Cプ、シー1−内の一点から電気を注入し、各電極に流
入する電気率を検出することにより注入点の座標データ
を入力することが出来ることが知られている。シートか
ネリカラスのごとく透明であるばあいはこれをドツトマ
トリックス液晶ディスプレーのごときパネルディスプレ
ーと重ねることにより入出力を同一の面上で行なうよう
することができワーブ[1や]ンピ]−ターあるいは画
像電話の端末として用いることができる。
Cプ、シー1−内の一点から電気を注入し、各電極に流
入する電気率を検出することにより注入点の座標データ
を入力することが出来ることが知られている。シートか
ネリカラスのごとく透明であるばあいはこれをドツトマ
トリックス液晶ディスプレーのごときパネルディスプレ
ーと重ねることにより入出力を同一の面上で行なうよう
することができワーブ[1や]ンピ]−ターあるいは画
像電話の端末として用いることができる。
(発明が解消しようとする問題点)
一般に透明抵抗膜は金属あるいは金属酸化物からなるき
わめて薄い膜である。従って入力ペンを直接にこの抵抗
膜の十を走らせると抵抗膜にひつかきぎずを生じ正確<
’L位置検出機能を損なうという問題があった。
わめて薄い膜である。従って入力ペンを直接にこの抵抗
膜の十を走らせると抵抗膜にひつかきぎずを生じ正確<
’L位置検出機能を損なうという問題があった。
本発明はペンによる入力機能を保持しながらしかもペン
による抵抗膜の損傷が防止された改良された透明抵抗シ
ー1−を提供する。
による抵抗膜の損傷が防止された改良された透明抵抗シ
ー1−を提供する。
(問題点を解決するための手段)
上記目的を達成するため本発明は下記の構成からなる。
[透明シート状基祠と透明な異方導電層とから/jるシ
ートであって、シート状基(4の異方導電層側の表層に
は透明イf電気(1(抗膜が形成され、Hx41戸9電
層は透明な硬質絶縁物の層の中に、個々の青電性微粒子
が前記絶縁物の層を貫通覆るJ、うにして多数、かつ投
影面積として全体の20%を越えイjい程度に埋設せら
れてイ^す、かつ前記シート状早材と異方導電層と1.
1緊密に接着−・体化されて4【ることを特徴とする透
明異方導電層を4)する透明抵抗シーi〜。」 第1図は本発明の透明異方導電層を有する透明抵抗シー
トの一例を示す部分断面図である。透明なガラス板1の
うえに形成された酸化インジコウムと酸化すず(以下I
TOという)の薄膜2(電気抵抗膜)緊密に接着して透
明イTマトリックス層3が形成されてa3す、イの(7
かに多数のほぼ球形をした導電t)lの微粒子が71へ
リツクス層をv1通【ノでマトリックス層の表面曝J露
出1ノでいる。この例では表面の研削にJ:って粒子の
露出と表面の甲)1″I化が行なわれている。
ートであって、シート状基(4の異方導電層側の表層に
は透明イf電気(1(抗膜が形成され、Hx41戸9電
層は透明な硬質絶縁物の層の中に、個々の青電性微粒子
が前記絶縁物の層を貫通覆るJ、うにして多数、かつ投
影面積として全体の20%を越えイjい程度に埋設せら
れてイ^す、かつ前記シート状早材と異方導電層と1.
1緊密に接着−・体化されて4【ることを特徴とする透
明異方導電層を4)する透明抵抗シーi〜。」 第1図は本発明の透明異方導電層を有する透明抵抗シー
トの一例を示す部分断面図である。透明なガラス板1の
うえに形成された酸化インジコウムと酸化すず(以下I
TOという)の薄膜2(電気抵抗膜)緊密に接着して透
明イTマトリックス層3が形成されてa3す、イの(7
かに多数のほぼ球形をした導電t)lの微粒子が71へ
リツクス層をv1通【ノでマトリックス層の表面曝J露
出1ノでいる。この例では表面の研削にJ:って粒子の
露出と表面の甲)1″I化が行なわれている。
これに用いる透明抵抗シートは透明なガラス板あるいは
プラスチックフィルムやシートのうえに導電↑/lの金
属あるいは金属酸化物の薄膜(透明な電気的抵抗膜)を
蒸着、スパッタリングその他公知の技法で形成すること
によって得られたものである。酸化すずと少量の酸化イ
ンジュウムとからなる薄膜をガラス上1こ形成したもの
がその典型である。薄膜の抵抗値はとくに限定されるも
のでは(iいが、入力デバイス用としては50〜100
0オーム/sqのものが好適に用いられる。透明抵抗シ
ートの可視光線透過率は40%以上である事が好ましい
。また以下にのべる透明異方導電層の接着性向上を目的
に各種表面処理を施こしたものをもちいることも可能で
ある。かかる表面処理としては低温プラズマに代表され
る活性化ガスによる処理、有機ヂタネー1へ、ビニルシ
ラン、アルカリ、酸などにJ:る化学処理など通常行わ
れる表面処理が適用可能であり、透明異方導電層の種類
、塗膜[条件などによって最適化されるべきである。
プラスチックフィルムやシートのうえに導電↑/lの金
属あるいは金属酸化物の薄膜(透明な電気的抵抗膜)を
蒸着、スパッタリングその他公知の技法で形成すること
によって得られたものである。酸化すずと少量の酸化イ
ンジュウムとからなる薄膜をガラス上1こ形成したもの
がその典型である。薄膜の抵抗値はとくに限定されるも
のでは(iいが、入力デバイス用としては50〜100
0オーム/sqのものが好適に用いられる。透明抵抗シ
ートの可視光線透過率は40%以上である事が好ましい
。また以下にのべる透明異方導電層の接着性向上を目的
に各種表面処理を施こしたものをもちいることも可能で
ある。かかる表面処理としては低温プラズマに代表され
る活性化ガスによる処理、有機ヂタネー1へ、ビニルシ
ラン、アルカリ、酸などにJ:る化学処理など通常行わ
れる表面処理が適用可能であり、透明異方導電層の種類
、塗膜[条件などによって最適化されるべきである。
透明異方導電層のマトリックスを形成する材料は原料段
階で流動11があり、塗膜を形成したのら乾燥、硬化、
同化等によって堅くて透明な塗膜を形成するものであれ
ばよい。電気絶縁性は高いほうが好ましいが、必ずしも
完全な絶縁体である必要はなく、面抵抗値でいえば透明
抵抗膜の100倍以上あればよく通常は1メカA−ム/
SQあれば十分である。エポキシ、アクリル、ブタジェ
ン、ブチラール、共重合ポリ]−ステル、低融点ガラス
など有機、無機、熱硬化iノ1、熱可塑=tqをとわず
各種の組成のものが用いられるが、丁ポキシ系、(rが
んずくシリコーン変成エポキシポリマーは特に優れてい
る。これらの組成物は1種のみイ【らず2種以上添加し
て用いること−b可能である。とくに表面硬度向上の目
的には下記一般式N)で示される有機ケイ素化合物およ
び/また1よその加水分解物が好ましく、重合収縮の減
少や実質的イ^無溶媒化のためにはあらかじめ部分縮合
物として使用することもできる。塗布性fノ1改烏を目
的に各種の添加剤を加えることも可能であり、流動性’
t’l !rかでも増粘性の目的には無水硅酸からなる
シリカ微粉末、ブタニア微粉末、アルミナ微粉末などの
無機酸化物微粉末の添加が好ましい。
階で流動11があり、塗膜を形成したのら乾燥、硬化、
同化等によって堅くて透明な塗膜を形成するものであれ
ばよい。電気絶縁性は高いほうが好ましいが、必ずしも
完全な絶縁体である必要はなく、面抵抗値でいえば透明
抵抗膜の100倍以上あればよく通常は1メカA−ム/
SQあれば十分である。エポキシ、アクリル、ブタジェ
ン、ブチラール、共重合ポリ]−ステル、低融点ガラス
など有機、無機、熱硬化iノ1、熱可塑=tqをとわず
各種の組成のものが用いられるが、丁ポキシ系、(rが
んずくシリコーン変成エポキシポリマーは特に優れてい
る。これらの組成物は1種のみイ【らず2種以上添加し
て用いること−b可能である。とくに表面硬度向上の目
的には下記一般式N)で示される有機ケイ素化合物およ
び/また1よその加水分解物が好ましく、重合収縮の減
少や実質的イ^無溶媒化のためにはあらかじめ部分縮合
物として使用することもできる。塗布性fノ1改烏を目
的に各種の添加剤を加えることも可能であり、流動性’
t’l !rかでも増粘性の目的には無水硅酸からなる
シリカ微粉末、ブタニア微粉末、アルミナ微粉末などの
無機酸化物微粉末の添加が好ましい。
RR’ S i (OR2) 3−a (T )
(ここでRは炭素数1〜12のエポキシ基を有する炭化
水索塁、R1は炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル
基、アリール基、R2は炭素数1〜Bのアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アシル基、−ノ1ニル基であり、
aはOまたは1である。)こtL(ご用いられる導電性
微粒子はぞの全体あるいは少なくともぞの外面が金、銀
、すず、銅、アルミ、ニック′ル、ハンダ、カーボンな
どに例示される金属、合金、カーボンなどの導電性材料
で形成されたものをもらいる。配合される微粒子の量は
全体としての透明4ノーが大きくは損われない程度に制
限する必要がある。微粒子の投影面積が20%1ス下で
あることか好ましい。粒子の粒径は100ミクロンから
1ミクロンの範囲のものが有効であり、50ミクロンか
ら10ミクロンの範囲のものが特に好ましい。粒拌は出
来るだけ揃ったものであることが同等の導電効果におい
てよりよい透明性が得られるという東にa3いて好まし
い。粒子の形は透明↑1の而から出来るだし)球形に近
い−bのが好ましい。粒1¥の揃ったほぼ球形に近い銀
の粒子は最も好適にb15いられる。
(ここでRは炭素数1〜12のエポキシ基を有する炭化
水索塁、R1は炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル
基、アリール基、R2は炭素数1〜Bのアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アシル基、−ノ1ニル基であり、
aはOまたは1である。)こtL(ご用いられる導電性
微粒子はぞの全体あるいは少なくともぞの外面が金、銀
、すず、銅、アルミ、ニック′ル、ハンダ、カーボンな
どに例示される金属、合金、カーボンなどの導電性材料
で形成されたものをもらいる。配合される微粒子の量は
全体としての透明4ノーが大きくは損われない程度に制
限する必要がある。微粒子の投影面積が20%1ス下で
あることか好ましい。粒子の粒径は100ミクロンから
1ミクロンの範囲のものが有効であり、50ミクロンか
ら10ミクロンの範囲のものが特に好ましい。粒拌は出
来るだけ揃ったものであることが同等の導電効果におい
てよりよい透明性が得られるという東にa3いて好まし
い。粒子の形は透明↑1の而から出来るだし)球形に近
い−bのが好ましい。粒1¥の揃ったほぼ球形に近い銀
の粒子は最も好適にb15いられる。
導電↑ノ1微粒子の配合方法としては前記の流動1/1
を有する組成物中への添加さらには膜形成後に、硬化前
に埋めこむイ【どの種々の方法がとられる。
を有する組成物中への添加さらには膜形成後に、硬化前
に埋めこむイ【どの種々の方法がとられる。
また導電↑1微粒子は表面に少なくとも実質的IJその
一部が露出していることが必要であるので、膜形成後に
研磨などの物理的手段さらには低温プラズマ、ケミカル
エッヂングなどの化学的処理により強制的に露出をさせ
ることもできる。
一部が露出していることが必要であるので、膜形成後に
研磨などの物理的手段さらには低温プラズマ、ケミカル
エッヂングなどの化学的処理により強制的に露出をさせ
ることもできる。
塗膜の形成方法としては浸漬塗装、スプレー塗装、流し
塗り、バーコーター法、スクリーン印刷、ロールコータ
−、カーテンフローなど通常、当業界で公知な方法が適
用できる。塗膜(:1風乾、加熱、さらには紫外線、カ
ンマ−線、電子線など活1’t、 Tネルギー線などを
用いて固体状の膜とぎれるa塗膜は鉛筆lI!!l’に
で[3以十であることか好ましく、これより低いと傷発
生などの問題か牛じやすく耐久t/Iに乏しいものとな
る。必要1こ応じて研削、研磨などの処理をおこなった
後の最終的な異方導電層の厚さは100ミクロンから1
ミクロンの範囲のものが有効であり、50ミクロンから
10ミクロンの範囲のものが特に好ましい。
塗り、バーコーター法、スクリーン印刷、ロールコータ
−、カーテンフローなど通常、当業界で公知な方法が適
用できる。塗膜(:1風乾、加熱、さらには紫外線、カ
ンマ−線、電子線など活1’t、 Tネルギー線などを
用いて固体状の膜とぎれるa塗膜は鉛筆lI!!l’に
で[3以十であることか好ましく、これより低いと傷発
生などの問題か牛じやすく耐久t/Iに乏しいものとな
る。必要1こ応じて研削、研磨などの処理をおこなった
後の最終的な異方導電層の厚さは100ミクロンから1
ミクロンの範囲のものが有効であり、50ミクロンから
10ミクロンの範囲のものが特に好ましい。
異方導電層を11する透明抵抗シートの全体としての透
明性は可視光線透過率として30%以上であることがの
ぞましい。また次式で求められる曇価が80%以下のも
のが好ましい。
明性は可視光線透過率として30%以上であることがの
ぞましい。また次式で求められる曇価が80%以下のも
のが好ましい。
曇価−(拡散光線透過率/仝光線透過率)[実施例]
(1)導電↑21微粒子含有透明絶縁物層用組成物の調
製γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン236
qとγ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン
248gをビーカーにひようりようし、室温、撹拌下に
0.01規定塩酸水溶液9゜qを一度に添加した。添加
直後は不均一であったが、数分後には透明な液体となり
、加水分解された。加水分解物を室温下で一昼夜熟成俊
エバボレ一ターで減圧下に70’Cで濃縮して粘稠<r
液をl/た。この粘稠液は130’Cで2時間加熱して
、その不揮発分を測定したところ81.5%であった。
製γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン236
qとγ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン
248gをビーカーにひようりようし、室温、撹拌下に
0.01規定塩酸水溶液9゜qを一度に添加した。添加
直後は不均一であったが、数分後には透明な液体となり
、加水分解された。加水分解物を室温下で一昼夜熟成俊
エバボレ一ターで減圧下に70’Cで濃縮して粘稠<r
液をl/た。この粘稠液は130’Cで2時間加熱して
、その不揮発分を測定したところ81.5%であった。
以上のようにして調製した粘稠液9.3oとビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂(エピ丁1−1−828)7.5
01アルミニュウムアセブルア1?トン0.35g、微
粉末シリカ0.75o、500メツシユオン、/100
メッシコパスの銀粒子1゜5gを加え、十分i捏練りし
て導電↑ノ1微粒子含11透 1明絶縁物層用組
成物を17だ。
ールA型エポキシ樹脂(エピ丁1−1−828)7.5
01アルミニュウムアセブルア1?トン0.35g、微
粉末シリカ0.75o、500メツシユオン、/100
メッシコパスの銀粒子1゜5gを加え、十分i捏練りし
て導電↑ノ1微粒子含11透 1明絶縁物層用組
成物を17だ。
(2)異方導電層を右づる透明抵抗シートの作成ガラス
板にITO膜(膜19300人)を設Cフだ透明抵抗シ
ートの上に、前記(1)で調製した組成物をスクリーン
印刷にて膜厚が3oミク■ンに成るように塗布し直らに
140’Gで2時間加熱硬化した。表面の約5ミクロン
を研削、研磨して導電性複合体をえた。えられた複合体
は実質的G、′:透明でおり。透明異方導電層を通じて
導電ゴムを電極として測定した任意の2点間の抵抗値は
原料の透明抵抗シートの値とほぼ同等であり、金属粒子
を通じて抵抗膜に入力出来ることが確認された。
板にITO膜(膜19300人)を設Cフだ透明抵抗シ
ートの上に、前記(1)で調製した組成物をスクリーン
印刷にて膜厚が3oミク■ンに成るように塗布し直らに
140’Gで2時間加熱硬化した。表面の約5ミクロン
を研削、研磨して導電性複合体をえた。えられた複合体
は実質的G、′:透明でおり。透明異方導電層を通じて
導電ゴムを電極として測定した任意の2点間の抵抗値は
原料の透明抵抗シートの値とほぼ同等であり、金属粒子
を通じて抵抗膜に入力出来ることが確認された。
また、6]−1の鉛筆でこすっても傷がつかない硬い複
合体であった。
合体であった。
[発明の効果]
本発明により電力注入ペンで直接に入力しても抵抗膜に
損傷を受けることのない透明入力デバイスを1イること
ができた。
損傷を受けることのない透明入力デバイスを1イること
ができた。
このものは耐久1ノ1に富み長期間安定して使用するこ
とができた。
とができた。
第1図1.1本発明による透明導電複合体の部分断面図
で゛ある。 1;透明イ賞板ガラス 2:板カラスの上(こ形成された透明電気抵抗膜(導電
薄膜) 3;透明なマトリックス層 4;導電性微粒子 特Fl出願人 東し株式会社 %11ユ
で゛ある。 1;透明イ賞板ガラス 2:板カラスの上(こ形成された透明電気抵抗膜(導電
薄膜) 3;透明なマトリックス層 4;導電性微粒子 特Fl出願人 東し株式会社 %11ユ
Claims (3)
- (1)透明シート状基材と透明な異方導電層とからなる
シートであって、シート状基材の異方導電層側の表層に
は透明な電気抵抗膜が形成され、異方導電層は透明な硬
質絶縁物の層の中に、個々の導電性微粒子が前記絶縁物
の層を貫通するようにして多数、かつ投影面積として全
体の20%を越えない程度に埋設せられてなり、かつ前
記シート状基材と異方導電層とは緊密に接着一体化され
てなることを特徴とする透明異方導電層を有する透明抵
抗シート。 - (2)導電性微粒子が球状金属であることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)項記載の透明異方導電層を有す
る透明抵抗シート。 - (3)透明な硬質絶縁物が下記一般式(I)で示される
有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物の硬化
物を含むことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の透明異方導電層を右する透明抵抗シート。 RR^1_aSi(OR^2)_3_−_a(I)(こ
こでRは炭素数1〜12のエポキシ基を有する炭化水素
基、R^1は炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基
、アリール基、R^1は炭素数1〜8のアキレキル基、
アルコキシアルキル基、アシル基、フェニル基であり、
aは0または1である。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60232032A JPS6292301A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 異方導電層を有する透明抵抗シ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60232032A JPS6292301A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 異方導電層を有する透明抵抗シ−ト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292301A true JPS6292301A (ja) | 1987-04-27 |
Family
ID=16932898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60232032A Pending JPS6292301A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 異方導電層を有する透明抵抗シ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6292301A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6459424A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-07 | Nippon Telegraph & Telephone | Transparent electrode for transparent tablet |
| JPH0250214A (ja) * | 1987-09-07 | 1990-02-20 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | タッチパネル |
| JPH0491888U (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-11 |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP60232032A patent/JPS6292301A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6459424A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-07 | Nippon Telegraph & Telephone | Transparent electrode for transparent tablet |
| JPH0250214A (ja) * | 1987-09-07 | 1990-02-20 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | タッチパネル |
| JPH0491888U (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-11 |
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