JPH0939151A - 透明導電性フィルム - Google Patents
透明導電性フィルムInfo
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- JPH0939151A JPH0939151A JP7194883A JP19488395A JPH0939151A JP H0939151 A JPH0939151 A JP H0939151A JP 7194883 A JP7194883 A JP 7194883A JP 19488395 A JP19488395 A JP 19488395A JP H0939151 A JPH0939151 A JP H0939151A
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明性、ガスバリヤー性、耐久性の優れた
透明で導電性を有するフィルムを提供する。 【解決手段】 高分子フィルムの片面にガスバリヤー
層としてＩｎ、Ｓｎの合金酸化物及び該ガスバリヤー層
を覆うようにシランカップリング剤を含むエポキシアク
リレート紫外線硬化樹脂の保護コーティング層を順次積
層した積層フィルムの少なくとも片側に透明導電層を有
することを特徴とする透明導電性フィルムであって、さ
らに、該ガスバリヤー層の膜厚が１００Å〜５００Åで
あり、該ガスバリヤー層と該ガスバリヤー層を覆う保護
コーティング層の間にビスフェノールＡ型のエポキシ熱
硬化性樹脂のアンカー層を有する透明導電性フィルムを
提供する。
透明で導電性を有するフィルムを提供する。 【解決手段】 高分子フィルムの片面にガスバリヤー
層としてＩｎ、Ｓｎの合金酸化物及び該ガスバリヤー層
を覆うようにシランカップリング剤を含むエポキシアク
リレート紫外線硬化樹脂の保護コーティング層を順次積
層した積層フィルムの少なくとも片側に透明導電層を有
することを特徴とする透明導電性フィルムであって、さ
らに、該ガスバリヤー層の膜厚が１００Å〜５００Åで
あり、該ガスバリヤー層と該ガスバリヤー層を覆う保護
コーティング層の間にビスフェノールＡ型のエポキシ熱
硬化性樹脂のアンカー層を有する透明導電性フィルムを
提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム液晶表示
装置に用いられる透明導電性フィルムに関するものであ
る。
装置に用いられる透明導電性フィルムに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】透明導電性フィルムとしては、ポリエス
テルフィルム等の透明高分子フィルム表面に酸化インジ
ウム、酸化錫、あるいは錫、インジウム合金の酸化膜等
の半導体膜や金、銀、パラジウムあるいはそれらの合金
等の金属膜、半導体膜と金属膜を組み合わせて形成され
たもの等が知られている。一方、ガスバリヤー層として
は、高分子フィルム上にＳｉＯ2等を蒸着したもの、あ
るいは、高分子フィルム上に塩化ビニリデン系ポリマー
やビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリヤ
ー性のあるポリマーのコーティング層を設けたものが知
られている。例えば、特開平７−４９４８３による高分
子フィルム上にガスバリヤー層として酸化珪素等の絶縁
酸化物を成膜し更に透明電極としてＩｎ、Ｓｎの合金膜
を付与した積層体を用いた液晶表示素子では、工業的設
備で液晶表示素子組立を行った時にガスバリヤー層がロ
ールにより機械的に、あるいは、エッチング液等により
化学的に損傷を受け、液晶表示素子とした時積層フィル
ム本来のガスバリヤー性が喪失してしまい、経時的に表
示欠陥が発生する可能性が大きいことが分かった。さら
に透明導電層、ガスバリヤー層を全く違う材料、設備を
用いて形成する必要があり生産効率が良くないことが分
かった。高分子フィルム液晶表示装置には、ガスバリヤ
ー性、透明導電性を合わせ持つフィルムが必要である
が、これらの機能を有する各層を組み合わせて透明導電
性、ガスバリアー性を付与し、液晶表示装置材料として
必要な耐久性のすべてが十分な透明導電性フィルムは、
いまだ工業的には生産されていない。
テルフィルム等の透明高分子フィルム表面に酸化インジ
ウム、酸化錫、あるいは錫、インジウム合金の酸化膜等
の半導体膜や金、銀、パラジウムあるいはそれらの合金
等の金属膜、半導体膜と金属膜を組み合わせて形成され
たもの等が知られている。一方、ガスバリヤー層として
は、高分子フィルム上にＳｉＯ2等を蒸着したもの、あ
るいは、高分子フィルム上に塩化ビニリデン系ポリマー
やビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリヤ
ー性のあるポリマーのコーティング層を設けたものが知
られている。例えば、特開平７−４９４８３による高分
子フィルム上にガスバリヤー層として酸化珪素等の絶縁
酸化物を成膜し更に透明電極としてＩｎ、Ｓｎの合金膜
を付与した積層体を用いた液晶表示素子では、工業的設
備で液晶表示素子組立を行った時にガスバリヤー層がロ
ールにより機械的に、あるいは、エッチング液等により
化学的に損傷を受け、液晶表示素子とした時積層フィル
ム本来のガスバリヤー性が喪失してしまい、経時的に表
示欠陥が発生する可能性が大きいことが分かった。さら
に透明導電層、ガスバリヤー層を全く違う材料、設備を
用いて形成する必要があり生産効率が良くないことが分
かった。高分子フィルム液晶表示装置には、ガスバリヤ
ー性、透明導電性を合わせ持つフィルムが必要である
が、これらの機能を有する各層を組み合わせて透明導電
性、ガスバリアー性を付与し、液晶表示装置材料として
必要な耐久性のすべてが十分な透明導電性フィルムは、
いまだ工業的には生産されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので透明性、ガスバリヤー性、耐久性
の優れた透明で導電性を有するフィルムを提供すること
にある。
に鑑みなされたもので透明性、ガスバリヤー性、耐久性
の優れた透明で導電性を有するフィルムを提供すること
にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】高分子フィルムの片面に
ガスバリヤー層としてＩｎ、Ｓｎの合金酸化物及び該ガ
スバリヤー層を覆うようにシランカップリング剤を含む
エポキシアクリレート紫外線硬化樹脂の保護コーティン
グ層を順次積層した積層フィルムの少なくとも片側に透
明導電層を有することを特徴とする透明導電性フィルム
であって、さらに、該ガスバリヤー層の膜厚が１００Å
〜５００Åであり、該ガスバリヤー層と該ガスバリヤー
層を覆う保護コーティング層の間にビスフェノールＡ型
のエポキシ熱硬化性樹脂のアンカー層を有する透明導電
性フィルムによって課題を解決することが出来た。層の
構成内容は例えば保護コート層／ガスバリヤー層／高分
子フィルム／透明導電層、保護コート層／エポキシ熱硬
化性樹脂のアンカー層／ガスバリヤー層／高分子フィル
ム／透明導電層、保護コート層／エポキシ熱硬化性樹脂
のアンカー層／ガスバリヤー層／アンカー層／高分子フ
ィルム／アンカー層／透明導電層、透明導電層／保護コ
ート層／ガスバリヤー層／高分子フィルム／透明導電
層、透明導電層／保護コート層／エポキシ熱硬化性樹脂
のアンカー層／ガスバリヤー層／高分子フィルム／透明
導電層、透明導電層／保護コート層／エポキシ熱硬化性
樹脂のアンカー層／ガスバリヤー層／アンカー層／高分
子フィルム／アンカー層／透明導電層等があるが必ずし
もこれらに限定されるわれではない。
ガスバリヤー層としてＩｎ、Ｓｎの合金酸化物及び該ガ
スバリヤー層を覆うようにシランカップリング剤を含む
エポキシアクリレート紫外線硬化樹脂の保護コーティン
グ層を順次積層した積層フィルムの少なくとも片側に透
明導電層を有することを特徴とする透明導電性フィルム
であって、さらに、該ガスバリヤー層の膜厚が１００Å
〜５００Åであり、該ガスバリヤー層と該ガスバリヤー
層を覆う保護コーティング層の間にビスフェノールＡ型
のエポキシ熱硬化性樹脂のアンカー層を有する透明導電
性フィルムによって課題を解決することが出来た。層の
構成内容は例えば保護コート層／ガスバリヤー層／高分
子フィルム／透明導電層、保護コート層／エポキシ熱硬
化性樹脂のアンカー層／ガスバリヤー層／高分子フィル
ム／透明導電層、保護コート層／エポキシ熱硬化性樹脂
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ィルム／アンカー層／透明導電層、透明導電層／保護コ
ート層／ガスバリヤー層／高分子フィルム／透明導電
層、透明導電層／保護コート層／エポキシ熱硬化性樹脂
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導電層、透明導電層／保護コート層／エポキシ熱硬化性
樹脂のアンカー層／ガスバリヤー層／アンカー層／高分
子フィルム／アンカー層／透明導電層等があるが必ずし
もこれらに限定されるわれではない。
【０００５】本発明で用いる透明の高分子フィルムとし
てはポリエステルフィルム、ポリエーテルイミドフィル
ム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルサルフォン
フィルム等があげられる。本発明で用いられる透明な高
分子フィルムの全光線透過率は少なくとも４０％以上、
好ましくは８０％以上が望ましい。本発明に用いる透明
な高分子フィルムはガスバリヤー層、透明導電層の形成
に先立ち各層及び高分子フィルム相互の密着力を高める
ために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面
処理やエポキシアクリル系の公知のアンカーコートが施
されていてもよい。
てはポリエステルフィルム、ポリエーテルイミドフィル
ム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルサルフォン
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分子フィルムの全光線透過率は少なくとも４０％以上、
好ましくは８０％以上が望ましい。本発明に用いる透明
な高分子フィルムはガスバリヤー層、透明導電層の形成
に先立ち各層及び高分子フィルム相互の密着力を高める
ために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面
処理やエポキシアクリル系の公知のアンカーコートが施
されていてもよい。
【０００６】本発明でいうガスバリヤー層は、Ｉｎ、Ｓ
ｎの合金酸化物であって、Ｉｎ、Ｓｎの合金、あるい
は、Ｉｎ、Ｓｎの合金の酸化物を公知のＥＢ蒸着、イオ
ンプレーティング、あるいは、プレーナーマグネトロン
スパッタリングにより形成することができるが、鋭意検
討することにより密度９５％以上のＩｎ、Ｓｎの合金酸
化物ターゲットを用いてプレナーマグネトロンスパッタ
リングにより厚み１００Å〜５００Åで形成したガスバ
リヤー層は生産性がＩｎ、Ｓｎ合金ターゲットに比べ
１．５倍以上、透明性は全光線透過率で８５％以上と優
れ、かつ酸素ガス透過率が１ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔ
ｍ以下と良好であることを見いだした。該ガスバリヤー
層の厚みは、１００Å〜３００Åがより好ましい。１０
０Å以下では該ガスバリヤー層が完全な連続構造となっ
ておらず温度変化での積層フィルムの伸び縮みでガスバ
リヤー層が破壊されてしまう確率が大きくなる。ガスバ
リヤー層の厚みが５００Å以上では、着色によるの透明
性の低下、ガスバリヤー層の内部応力に起因するクラッ
クの発生によるガスバリヤー性の低下が起こり好ましく
ない。さらに言えば、ガスバリヤー性を高めるために
は、ガスバリヤー層の厚みが内部応力に起因するクラッ
クが発生しない２５０Å程度が好ましい。
ｎの合金酸化物であって、Ｉｎ、Ｓｎの合金、あるい
は、Ｉｎ、Ｓｎの合金の酸化物を公知のＥＢ蒸着、イオ
ンプレーティング、あるいは、プレーナーマグネトロン
スパッタリングにより形成することができるが、鋭意検
討することにより密度９５％以上のＩｎ、Ｓｎの合金酸
化物ターゲットを用いてプレナーマグネトロンスパッタ
リングにより厚み１００Å〜５００Åで形成したガスバ
リヤー層は生産性がＩｎ、Ｓｎ合金ターゲットに比べ
１．５倍以上、透明性は全光線透過率で８５％以上と優
れ、かつ酸素ガス透過率が１ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔ
ｍ以下と良好であることを見いだした。該ガスバリヤー
層の厚みは、１００Å〜３００Åがより好ましい。１０
０Å以下では該ガスバリヤー層が完全な連続構造となっ
ておらず温度変化での積層フィルムの伸び縮みでガスバ
リヤー層が破壊されてしまう確率が大きくなる。ガスバ
リヤー層の厚みが５００Å以上では、着色によるの透明
性の低下、ガスバリヤー層の内部応力に起因するクラッ
クの発生によるガスバリヤー性の低下が起こり好ましく
ない。さらに言えば、ガスバリヤー性を高めるために
は、ガスバリヤー層の厚みが内部応力に起因するクラッ
クが発生しない２５０Å程度が好ましい。
【０００７】本発明に使用されるガスバリヤー層を覆う
保護コーティング層としては、エポキシアクリレートプ
レポリマーにシランカップリング剤を添加したものを紫
外線硬化させたものが上げられる。該保護コーティング
層は、透明でかつガスバリヤー層に対して密着力があ
り、かつ透明導電層形成時に電極膜膜質を損なうような
ガスの発生がないことをみいだした。シランカップリン
グ剤の添加量は、０．５〜１．０重量％が望ましい。シ
ランカップリング剤としては、例えば信越化学（株）製
のＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−８０３，日本ユニカー
（株）製のＡ−１８７が用いられるが、特にエポキシ
基、アミノ基、メルカプトン基を有するものが好まし
い。エポキシアクリレートプレポリマーは、融点が５０
℃以上のものが好ましく、昭和高分子（株）製のＶＲ−
６０があげられる。保護コーティング層とガスバリヤー
層との密着力を上げ、信頼性をより高めるためにガスバ
リヤー層と保護コーティング層の間に、例えば旭電化
（株）製のＥＸＰ−４９−１０等ビスフェノールＡ型の
エポキシ熱硬化性樹脂をアンカー剤として塗布すること
で効果があることが見いだせた。即ち、本発明による積
層フィルムは、透明導電性フィルムを用いてＬＣＤを作
製する際に必要なＮａＯＨ溶液浸せき処理、ＨＣｌ浸せ
き処理により欠陥が生じ、ガスバリヤー性が損なわれる
問題をガスバリヤー層に必要な耐久性が付与可能な該保
護コーティングを施すことにより克服することができ
た。尚、上記の透明導電層の形成法としては、従来から
公知の真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
法等の物理的堆積法が適用できる。
保護コーティング層としては、エポキシアクリレートプ
レポリマーにシランカップリング剤を添加したものを紫
外線硬化させたものが上げられる。該保護コーティング
層は、透明でかつガスバリヤー層に対して密着力があ
り、かつ透明導電層形成時に電極膜膜質を損なうような
ガスの発生がないことをみいだした。シランカップリン
グ剤の添加量は、０．５〜１．０重量％が望ましい。シ
ランカップリング剤としては、例えば信越化学（株）製
のＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−８０３，日本ユニカー
（株）製のＡ−１８７が用いられるが、特にエポキシ
基、アミノ基、メルカプトン基を有するものが好まし
い。エポキシアクリレートプレポリマーは、融点が５０
℃以上のものが好ましく、昭和高分子（株）製のＶＲ−
６０があげられる。保護コーティング層とガスバリヤー
層との密着力を上げ、信頼性をより高めるためにガスバ
リヤー層と保護コーティング層の間に、例えば旭電化
（株）製のＥＸＰ−４９−１０等ビスフェノールＡ型の
エポキシ熱硬化性樹脂をアンカー剤として塗布すること
で効果があることが見いだせた。即ち、本発明による積
層フィルムは、透明導電性フィルムを用いてＬＣＤを作
製する際に必要なＮａＯＨ溶液浸せき処理、ＨＣｌ浸せ
き処理により欠陥が生じ、ガスバリヤー性が損なわれる
問題をガスバリヤー層に必要な耐久性が付与可能な該保
護コーティングを施すことにより克服することができ
た。尚、上記の透明導電層の形成法としては、従来から
公知の真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
法等の物理的堆積法が適用できる。
【０００８】
《実施例１》高分子フィルムに厚さ１００μｍのポリエ
ーテルスルフォンフィルムを用い、そのフィルムの片側
に透明導電層、反対側にガスバリヤー層を設けるにおい
て、透明導電層とポリエーテルスルフォンフィルム及び
ガスバリヤー層とポリエーテルスルフォンフィルムとの
密着力を向上させるために、アンカー層を分子量約１０
４０、融点５５℃のエポキシアクリレートプレポリマー
（昭和高分子（株）製ＶＲ−６０）１００重量部、ジエ
チレングリコール２００重量部、酢酸エチル１００重量
部、ベンゼンエチルエーテル２重量部、シランカップリ
ング剤（信越化学（株）製ＫＢＭ−５０３）１重量部を
５０℃にて撹はん溶解して均一な溶液をディップ法によ
り両面に塗布し、８０℃で１０分間加熱した後紫外線を
照射して形成した。その後ガスバリヤー層としてバルク
に対する相対重量密度９５％以上のＩｎ、Ｓｎ（ＳｎＯ
2 １０ｗｔ％）の合金酸化物ターゲットを用いたプレ
ーナーマグネトロンスパッタリングにより厚み２００
Å、比抵抗５×１０-4Ω・ｃｍのＩｎ、Ｓｎの合金酸化
膜を形成した。さらに、保護コート層とガスバリヤー層
の密着力を向上させるアンカー層をビスフェノールＡ型
エポキシ熱硬化製樹脂（旭電化（株）製ＥＰＸ−４９−
１０）を同量の酢酸メチルで希釈してバーコーターにて
コーティングした後８０℃で２時間硬化させて形成し
た。その上に保護コート層を分子量約１０４０、融点５
５℃のエポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子
（株）製ＶＲ−６０）１００重量部、ジエチレングリコ
ール２００重量部、酢酸エチル１００重量部、ベンゼン
エチルエーテル２重量部、シランカップリング剤（信越
化学（株）製ＫＢＭ−５０３）１重量部を５０℃にて撹
はん溶解した均一な溶液をバーコーターにより塗布し８
０℃で１０分間加熱した。その後、透明導電層とポリエ
ーテルスルフォンの密着力を向上させるためにすでに形
成済みのアンカー層の上に、リアクティブマグネトロン
スパッタ装置により厚さ３００ÅのＩｎ，Ｓｎの合金酸
化物膜を形成し透明導電層とした。このようにして作製
した透明導電性フィルムにおいて、透明導電層を形成す
る前の状態で濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分間
浸せきする前後で酸素ガスバリヤー性を測定したところ
処理前後ともに０．３ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであ
り、十分なガスバリアー性を示した。
ーテルスルフォンフィルムを用い、そのフィルムの片側
に透明導電層、反対側にガスバリヤー層を設けるにおい
て、透明導電層とポリエーテルスルフォンフィルム及び
ガスバリヤー層とポリエーテルスルフォンフィルムとの
密着力を向上させるために、アンカー層を分子量約１０
４０、融点５５℃のエポキシアクリレートプレポリマー
（昭和高分子（株）製ＶＲ−６０）１００重量部、ジエ
チレングリコール２００重量部、酢酸エチル１００重量
部、ベンゼンエチルエーテル２重量部、シランカップリ
ング剤（信越化学（株）製ＫＢＭ−５０３）１重量部を
５０℃にて撹はん溶解して均一な溶液をディップ法によ
り両面に塗布し、８０℃で１０分間加熱した後紫外線を
照射して形成した。その後ガスバリヤー層としてバルク
に対する相対重量密度９５％以上のＩｎ、Ｓｎ（ＳｎＯ
2 １０ｗｔ％）の合金酸化物ターゲットを用いたプレ
ーナーマグネトロンスパッタリングにより厚み２００
Å、比抵抗５×１０-4Ω・ｃｍのＩｎ、Ｓｎの合金酸化
膜を形成した。さらに、保護コート層とガスバリヤー層
の密着力を向上させるアンカー層をビスフェノールＡ型
エポキシ熱硬化製樹脂（旭電化（株）製ＥＰＸ−４９−
１０）を同量の酢酸メチルで希釈してバーコーターにて
コーティングした後８０℃で２時間硬化させて形成し
た。その上に保護コート層を分子量約１０４０、融点５
５℃のエポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子
（株）製ＶＲ−６０）１００重量部、ジエチレングリコ
ール２００重量部、酢酸エチル１００重量部、ベンゼン
エチルエーテル２重量部、シランカップリング剤（信越
化学（株）製ＫＢＭ−５０３）１重量部を５０℃にて撹
はん溶解した均一な溶液をバーコーターにより塗布し８
０℃で１０分間加熱した。その後、透明導電層とポリエ
ーテルスルフォンの密着力を向上させるためにすでに形
成済みのアンカー層の上に、リアクティブマグネトロン
スパッタ装置により厚さ３００ÅのＩｎ，Ｓｎの合金酸
化物膜を形成し透明導電層とした。このようにして作製
した透明導電性フィルムにおいて、透明導電層を形成す
る前の状態で濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分間
浸せきする前後で酸素ガスバリヤー性を測定したところ
処理前後ともに０．３ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであ
り、十分なガスバリアー性を示した。
【０００９】《比較例１》ガスバリヤー層を密度９５％
以上のＩｎ、Ｓｎの合金酸化物ターゲットによるプレー
ナーマグネトロンスパッタリングから汎用の密度５０〜
７０％のペレットを用いたＥＢ蒸着に成膜方法をかえた
以外は、実施例１と同様に作った透明導電性フィルムに
おいて、電極形成前に酸素ガスバリヤー性を測定したと
ころ５ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであり、ガスバリア
ー性の特性としては不十分であった。《比較例２》保護
コーティング層、保護コーティング層のアンカー層を省
略した以外は実施例１と同様にして作った透明導電性フ
ィルムにおいて、電極形成前の状態での酸素ガスバリヤ
ー性が２．５ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであったが、
濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分間浸せきした後
測定したところ１００ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍと劣
化していることが確認された。
以上のＩｎ、Ｓｎの合金酸化物ターゲットによるプレー
ナーマグネトロンスパッタリングから汎用の密度５０〜
７０％のペレットを用いたＥＢ蒸着に成膜方法をかえた
以外は、実施例１と同様に作った透明導電性フィルムに
おいて、電極形成前に酸素ガスバリヤー性を測定したと
ころ５ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであり、ガスバリア
ー性の特性としては不十分であった。《比較例２》保護
コーティング層、保護コーティング層のアンカー層を省
略した以外は実施例１と同様にして作った透明導電性フ
ィルムにおいて、電極形成前の状態での酸素ガスバリヤ
ー性が２．５ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであったが、
濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分間浸せきした後
測定したところ１００ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍと劣
化していることが確認された。
【００１０】
【発明の効果】本発明により、透明性、ガスバリヤー
性、耐久性の優れた透明導電性フィルムを提供すること
が可能となった。
性、耐久性の優れた透明導電性フィルムを提供すること
が可能となった。
Claims (3)
- 【請求項１】 高分子フィルムの片面にガスバリヤー層
としてＩｎ、Ｓｎの合金酸化物及び該ガスバリヤー層を
覆うようにシランカップリング剤を含むエポキシアクリ
レート紫外線硬化樹脂の保護コーティング層を順次積層
した積層フィルムの少なくとも片側に透明導電層を有す
ることを特徴とする透明導電性フィルム。 - 【請求項２】 ガスバリヤー層の膜厚が１００Å〜５０
０Åであることを特徴とする特許請求の範囲請求項１の
透明導電性フィルム。 - 【請求項３】 該ガスバリヤー層と該ガスバリヤー層を
覆う保護コーティング層の間にビスフェノールＡ型のエ
ポキシ熱硬化性樹脂のアンカー層を有することを特徴と
する特許請求の範囲請求項１又は請求項２の透明導電性
フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19488395A JP3194851B2 (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 透明導電性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19488395A JP3194851B2 (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 透明導電性フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0939151A true JPH0939151A (ja) | 1997-02-10 |
| JP3194851B2 JP3194851B2 (ja) | 2001-08-06 |
Family
ID=16331914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19488395A Expired - Fee Related JP3194851B2 (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 透明導電性フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3194851B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09174747A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Teijin Ltd | 透明導電フィルム |
| JPH10296898A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 帯電防止フィルム |
| JPH10329254A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム及び液晶表示素子 |
| JP2000285752A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-13 | Hoya Corp | 透明電極及びその形成方法 |
| JP2002160319A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-04 | Kimoto & Co Ltd | 無機薄膜用保護膜 |
| JP2018079584A (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-24 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル |
-
1995
- 1995-07-31 JP JP19488395A patent/JP3194851B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09174747A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Teijin Ltd | 透明導電フィルム |
| JPH10296898A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 帯電防止フィルム |
| JPH10329254A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム及び液晶表示素子 |
| JP2000285752A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-13 | Hoya Corp | 透明電極及びその形成方法 |
| JP2002160319A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-04 | Kimoto & Co Ltd | 無機薄膜用保護膜 |
| JP2018079584A (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-24 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3194851B2 (ja) | 2001-08-06 |
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