JPS629794A - レ−ザ加工制御装置 - Google Patents
レ−ザ加工制御装置Info
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- JPS629794A JPS629794A JP60149124A JP14912485A JPS629794A JP S629794 A JPS629794 A JP S629794A JP 60149124 A JP60149124 A JP 60149124A JP 14912485 A JP14912485 A JP 14912485A JP S629794 A JPS629794 A JP S629794A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は溶は落ちの生じない加工をするレーザ加工制御
装置に関する。
装置に関する。
第４図は従来のレーザ加工装置の概略図である。
第４図において、（１）はレーザ発振器、（２）はレー
ザ発振器（１）から出力されるレーザ光、（３）はレー
ザ光（２）を集光するための反射鏡（４）及びレンズ（
５）などを備えた光学手段、（６）は光学手段（３）に
よって集光されたレーザ光が照射される被加工物、（７
）は被加工物（６）が載置されろ加工テーブル、（８）
は被加工物（６）に照射されるレーザ光（２）に直交す
るＸＹ平面のＸ軸方向に加工テーブル（７）を駆動して
被加工物（６）を移動させるモータ、（９）はＸＹ平面
のＹ軸方向に加工テーブル（７）を駆動して被加工物（
６）を移動させる駆動モータ、（１０）は被加工物（６
）の加工速度、被加工物（６）の加工方向及び被加工物
（６）に対するレーザ光の送出をプログラムした加工プ
ログラムを実行することによって被加工物（６）を加工
するＮＧ（数値制御）装置、（１１）は被加工物（６）
の材質及び厚さなどに応じて、レーザ発振器（１）から
出力されるレーザ光（２）のオンオフ゛制御（出方制御
）を行う出方制御回路である。
ザ発振器（１）から出力されるレーザ光、（３）はレー
ザ光（２）を集光するための反射鏡（４）及びレンズ（
５）などを備えた光学手段、（６）は光学手段（３）に
よって集光されたレーザ光が照射される被加工物、（７
）は被加工物（６）が載置されろ加工テーブル、（８）
は被加工物（６）に照射されるレーザ光（２）に直交す
るＸＹ平面のＸ軸方向に加工テーブル（７）を駆動して
被加工物（６）を移動させるモータ、（９）はＸＹ平面
のＹ軸方向に加工テーブル（７）を駆動して被加工物（
６）を移動させる駆動モータ、（１０）は被加工物（６
）の加工速度、被加工物（６）の加工方向及び被加工物
（６）に対するレーザ光の送出をプログラムした加工プ
ログラムを実行することによって被加工物（６）を加工
するＮＧ（数値制御）装置、（１１）は被加工物（６）
の材質及び厚さなどに応じて、レーザ発振器（１）から
出力されるレーザ光（２）のオンオフ゛制御（出方制御
）を行う出方制御回路である。
次に従来のレーザ加工制御装置の動作について説明する
。まず、ＮＣ装置（１ｏ）は加工プログラムに従って、
駆動モータ（８１，（９１を駆動し、被加工物（６）を
プログラムされた加工速度でプログラムされた加工方向
に移動させるとともに、制御回路（１１）を制御して、
予め制御回＃（１１）によって設定された被加工物（６
）の材質及び厚さ等に応じた出力のレーザ光（２）を被
加工物（６）の位置に応じてレーザ発振器（１）から送
出させ、被加工物（６）を加工する。
。まず、ＮＣ装置（１ｏ）は加工プログラムに従って、
駆動モータ（８１，（９１を駆動し、被加工物（６）を
プログラムされた加工速度でプログラムされた加工方向
に移動させるとともに、制御回路（１１）を制御して、
予め制御回＃（１１）によって設定された被加工物（６
）の材質及び厚さ等に応じた出力のレーザ光（２）を被
加工物（６）の位置に応じてレーザ発振器（１）から送
出させ、被加工物（６）を加工する。
ところで、従来のレーザ加工制御装置は同じ材質及び同
じ厚さの被加工物に対しては、どのような加工形状であ
ってもレーザ光（２）の出方及び被加工物（６）の加工
速度が一定であった。このため、第５図に示すように加
工形状が鋭角になるようにレーザ加工すると、先に加工
された部分（６ａ）と後に加工された部分（６ｂ）とが
近い位置になる。従って、後に加工された部分（６ｂ）
は熱の逃げ場がなくなり、局部的に過熱され、溶は落ち
が生じてしまうという問題があった。
じ厚さの被加工物に対しては、どのような加工形状であ
ってもレーザ光（２）の出方及び被加工物（６）の加工
速度が一定であった。このため、第５図に示すように加
工形状が鋭角になるようにレーザ加工すると、先に加工
された部分（６ａ）と後に加工された部分（６ｂ）とが
近い位置になる。従って、後に加工された部分（６ｂ）
は熱の逃げ場がなくなり、局部的に過熱され、溶は落ち
が生じてしまうという問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、
溶は落ちの生じないレーザ加工制御装置を提供すること
を目的とする。
溶は落ちの生じないレーザ加工制御装置を提供すること
を目的とする。
そこで本発明では、少なくとも被加工物の加工速度、被
加工物の加工方向及び被加工物に対するレーザ光の送出
をプログラムした加工プログラムとこの加工プログラム
から被加工物の加工方向を検出する処理、検出した加工
方向の変更の有無を検出する処理、加工方向の変更が有
るときは変更前の加工方向と変更後の加工方向とのなす
変更角度を算出する処理、算出した変更角度と予め設定
した設定角度とを比較し、変更角度が設定角度より小さ
いときは、加工方向を変更する位置から予め設定された
設定距離を超えるまではプログラムされた加工速度をこ
の加工速度よりも遅い速度に変更する処理からなる速度
制御プログラムとを有し、少なくとも加工プログラムの
実行前にこの速度制御プログラムを実行する制御装置と
、レーザ発振器と、レーザ発振器から出力されるレーザ
光を被加工物に照射する光学手段と、加工プログラムに
従って送出されろレーザ光に対して被加工物をプログラ
ムされた加工速度又は変更された加工速度で２次元移動
する駆動手段と、被加工物の加工速度を算出し、算出し
た加工速度に対応する大きさの電圧を出力する速度演算
回路と、速度演算回路の出力電圧に対応する周波数のパ
ルス信号を出力する第１の電圧−周波数変換回路と、被
加工物の材質及び厚さに応じて、レーザ光の被加工物へ
の照射時間を設定し、この設定した照射時間に対応する
大きさの電圧を出力するパルス幅調整器と、パルス幅調
整器の出力電圧に対応する周波数のパルス信号を出力す
る第２の電圧−周波数変換回路と、第１の電圧−周波数
変換回路が出力するパルス信号によりへイレペルの状態
となり、第２の電圧−周波数変換回路が出力する信号に
よりローベルの状態となる信号を出力するフリップフロ
ップと、フリップフロップの出力信号に基づいて、レー
ザ発振器から出力されるレーザ光をオフオン制御するレ
ーザ光制御回路とからレーザ加工制御装置を構成する。
加工物の加工方向及び被加工物に対するレーザ光の送出
をプログラムした加工プログラムとこの加工プログラム
から被加工物の加工方向を検出する処理、検出した加工
方向の変更の有無を検出する処理、加工方向の変更が有
るときは変更前の加工方向と変更後の加工方向とのなす
変更角度を算出する処理、算出した変更角度と予め設定
した設定角度とを比較し、変更角度が設定角度より小さ
いときは、加工方向を変更する位置から予め設定された
設定距離を超えるまではプログラムされた加工速度をこ
の加工速度よりも遅い速度に変更する処理からなる速度
制御プログラムとを有し、少なくとも加工プログラムの
実行前にこの速度制御プログラムを実行する制御装置と
、レーザ発振器と、レーザ発振器から出力されるレーザ
光を被加工物に照射する光学手段と、加工プログラムに
従って送出されろレーザ光に対して被加工物をプログラ
ムされた加工速度又は変更された加工速度で２次元移動
する駆動手段と、被加工物の加工速度を算出し、算出し
た加工速度に対応する大きさの電圧を出力する速度演算
回路と、速度演算回路の出力電圧に対応する周波数のパ
ルス信号を出力する第１の電圧−周波数変換回路と、被
加工物の材質及び厚さに応じて、レーザ光の被加工物へ
の照射時間を設定し、この設定した照射時間に対応する
大きさの電圧を出力するパルス幅調整器と、パルス幅調
整器の出力電圧に対応する周波数のパルス信号を出力す
る第２の電圧−周波数変換回路と、第１の電圧−周波数
変換回路が出力するパルス信号によりへイレペルの状態
となり、第２の電圧−周波数変換回路が出力する信号に
よりローベルの状態となる信号を出力するフリップフロ
ップと、フリップフロップの出力信号に基づいて、レー
ザ発振器から出力されるレーザ光をオフオン制御するレ
ーザ光制御回路とからレーザ加工制御装置を構成する。
上記構成のレーザ加工制御装置は、制御装置が速度制御
プログラムを加工プログラムの実行前に実行し、加工形
状が鋭角のときはプログラムされた加工速度をそれより
も遅い速度に変更する。加工プログラムに従ってレーザ
発振器が光学手段を介して被加工物にレーザ光を照射す
る。駆動手段が被加工物をプログラムされた加工方向に
プログラムされた加工速度又は変更された加工速度で移
動させる。このとき、速度演算回路が被加工物の加工速
度に対応する大きさの電圧を出力し、第１の電圧−周波
数変換回路がこの出力電圧に対応する周波数のパルス信
号を出力する。一方、パルス幅調整器がレーザ光の加工
物への照射時間に対応する大きさの電圧を出力し、第２
の電圧−周波数変換回路がこの出力電圧に対応する周波
数のパルス信号を出力する。さらにフリップフロップが
第１の電圧−周波数変換回路のパルス信号によりハイレ
ベルの状態となり、第２の電圧−周波数変換回路のパル
ス信号によりローレベルの状態となる信号を出力し、レ
ーザ光制御回路がこの信号に基づいてレーザ発振器から
出力されるレーザ光のオンオフ制御を行う。
プログラムを加工プログラムの実行前に実行し、加工形
状が鋭角のときはプログラムされた加工速度をそれより
も遅い速度に変更する。加工プログラムに従ってレーザ
発振器が光学手段を介して被加工物にレーザ光を照射す
る。駆動手段が被加工物をプログラムされた加工方向に
プログラムされた加工速度又は変更された加工速度で移
動させる。このとき、速度演算回路が被加工物の加工速
度に対応する大きさの電圧を出力し、第１の電圧−周波
数変換回路がこの出力電圧に対応する周波数のパルス信
号を出力する。一方、パルス幅調整器がレーザ光の加工
物への照射時間に対応する大きさの電圧を出力し、第２
の電圧−周波数変換回路がこの出力電圧に対応する周波
数のパルス信号を出力する。さらにフリップフロップが
第１の電圧−周波数変換回路のパルス信号によりハイレ
ベルの状態となり、第２の電圧−周波数変換回路のパル
ス信号によりローレベルの状態となる信号を出力し、レ
ーザ光制御回路がこの信号に基づいてレーザ発振器から
出力されるレーザ光のオンオフ制御を行う。
以下、本発明の一実施例を添付図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明に係るレーザ加工制御装置の概略図であ
る。なお、第１図において（１）〜（９）は第４図の（
１）〜（９）に対応する部分であり、その説明は省略す
る。（１０）はＮＣ装置であって、少なくとも被加工物
（６）の加工速度、被加工物（６）の加工方向及び被加
工物（６）に対するレーザ光（２）の送出がプログラム
された従来の加工プログラムと、加工形状が鋭角である
ときにプログラムされた加工速度よりも遅い加工速度で
被加工物（６）を動かす速度ｆｌｌＪ＃プログラムとを
有している。又、（１１）はＮＣ装置（１０）が被加工
物（６）の加工速度を制御するのに対応して、レーザ光
（２）の出力を制御する出力制御回路、 （１２）は駆
動モータ（８）の回転数を検出するタコジェネレータ、
（１３）は駆動モータ（９）の回転数を検出するタコジ
ェネレータ、（１５）はタコジェネレータ（１２）。
る。なお、第１図において（１）〜（９）は第４図の（
１）〜（９）に対応する部分であり、その説明は省略す
る。（１０）はＮＣ装置であって、少なくとも被加工物
（６）の加工速度、被加工物（６）の加工方向及び被加
工物（６）に対するレーザ光（２）の送出がプログラム
された従来の加工プログラムと、加工形状が鋭角である
ときにプログラムされた加工速度よりも遅い加工速度で
被加工物（６）を動かす速度ｆｌｌＪ＃プログラムとを
有している。又、（１１）はＮＣ装置（１０）が被加工
物（６）の加工速度を制御するのに対応して、レーザ光
（２）の出力を制御する出力制御回路、 （１２）は駆
動モータ（８）の回転数を検出するタコジェネレータ、
（１３）は駆動モータ（９）の回転数を検出するタコジ
ェネレータ、（１５）はタコジェネレータ（１２）。
（１３）、乗算回路（１Ｂ） 、 （１７）及び平方根
回路（１８）から構成された速度演算回路、（１９）は
速度演算回路（１５）の出力電圧に対応する周波数のパ
ルス信号を出力する第１の電圧／周波数変換回路（以下
、Ｖ７Ｆ変換回路という） 、（２０）は被加工物（６
）に照射するレーザ光（２）のパルス幅を設定する可変
抵抗器（パルス調整器） 、（２１）は可変抵抗！ （
２０）の出力電圧に対応する周波数のパルス信号を出力
する第２のＶ／Ｆ変換回路、（２２）はセットリセット
フリップフロップ（以下、Ｒ８−ＦＦという） 、（２
３）はレーザ光制御回路である。
回路（１８）から構成された速度演算回路、（１９）は
速度演算回路（１５）の出力電圧に対応する周波数のパ
ルス信号を出力する第１の電圧／周波数変換回路（以下
、Ｖ７Ｆ変換回路という） 、（２０）は被加工物（６
）に照射するレーザ光（２）のパルス幅を設定する可変
抵抗器（パルス調整器） 、（２１）は可変抵抗！ （
２０）の出力電圧に対応する周波数のパルス信号を出力
する第２のＶ／Ｆ変換回路、（２２）はセットリセット
フリップフロップ（以下、Ｒ８−ＦＦという） 、（２
３）はレーザ光制御回路である。
乗算回路（１６）はタコジェネレータ（１２）が検出す
るステージ（７）（被加工物（６））のｘ軸方向の速度
に対応する大きさの電圧信号Ｖｘを二乗して、電圧信号
ｖ２χを出力する。同様にして、乗算回路（１７）はタ
コジェネレータ（１３）が検出するステージ（７）のＹ
軸方向の速度に対応する大きさの電圧信号Ｖｙを二乗し
て、電圧信号Ｖ″ｙを出力する。平方根回＃（１８）は
電圧信号Ｖ”Ｘとｖ２ｙとの和の平方根である電圧信号
Ｖ ｆ （＝ Ｖ’ｘ＋Ｖ’ｙ ）を出力する。従
って、この電圧信号Ｖｆは被加工物（６）の実際の加工
速度に対応するものとなる。
るステージ（７）（被加工物（６））のｘ軸方向の速度
に対応する大きさの電圧信号Ｖｘを二乗して、電圧信号
ｖ２χを出力する。同様にして、乗算回路（１７）はタ
コジェネレータ（１３）が検出するステージ（７）のＹ
軸方向の速度に対応する大きさの電圧信号Ｖｙを二乗し
て、電圧信号Ｖ″ｙを出力する。平方根回＃（１８）は
電圧信号Ｖ”Ｘとｖ２ｙとの和の平方根である電圧信号
Ｖ ｆ （＝ Ｖ’ｘ＋Ｖ’ｙ ）を出力する。従
って、この電圧信号Ｖｆは被加工物（６）の実際の加工
速度に対応するものとなる。
第１のＶ／Ｆ変換回路（１９）は平方根回路（１８）が
出力する電圧信号Ｖｆに対応する周波数Ｆｆのパル信号
Ｓｆを出力する。
出力する電圧信号Ｖｆに対応する周波数Ｆｆのパル信号
Ｓｆを出力する。
ところで、上述したように被加工物（６）は加工形状が
鋭角であるときは加工速度が遅くなるようにＮＣ装置（
１１）によって制御される。加工速度が遅くなったとき
に、レーザ光（２）の出力が変わらなければ、被加工物
（６）により多くのレーザ光（２）のエネルギーが注が
れ、溶は落ちが生じる。そこで、本発明においては、被
加工物（６）の加工速度に対応して被加工物（６）に断
続的にレーザ光（２）を照射する。レーザ光（２）のビ
ーム径をφ〔閣〕、被加工物（６）の加工速度をＶ ［
ｍ ／ ｓｅｅ］としたとき、被加工物（６）に加える
べきレーザ光（２）の周期Ｔｆ［秒］はＴｆ磯２Ｖ／φ
になる。即ち、レーザ光（２）の−周期Ｔｆ〔秒〕間に
被加工物（６）がレーザ光（２）のビーム径のほぼ半分
（φ／ ２ ［：ｍｍ］ ）程度移動するようにすれば
、レーザ光（２）を被加工物（６）に断続的に照射して
も、被加工物（６）は連続的にしかも溶は落ちが生じな
いように加工されることになる。従って、被加工物（６
）の加工速度Ｖに対応する電圧信号Ｖｆに対して、パル
ス信号Ｓｆの周波数がＦｆ （Ｈｚｌ（周期Ｔｆ（秒〕
）となるようにする。可変抵抗器（２０）は被加工物（
６）の材質及び厚さにより定まり、前述したように断続
的に照射されるレーザ光（２）の１パルス当りの照射時
間を調整するものである。
鋭角であるときは加工速度が遅くなるようにＮＣ装置（
１１）によって制御される。加工速度が遅くなったとき
に、レーザ光（２）の出力が変わらなければ、被加工物
（６）により多くのレーザ光（２）のエネルギーが注が
れ、溶は落ちが生じる。そこで、本発明においては、被
加工物（６）の加工速度に対応して被加工物（６）に断
続的にレーザ光（２）を照射する。レーザ光（２）のビ
ーム径をφ〔閣〕、被加工物（６）の加工速度をＶ ［
ｍ ／ ｓｅｅ］としたとき、被加工物（６）に加える
べきレーザ光（２）の周期Ｔｆ［秒］はＴｆ磯２Ｖ／φ
になる。即ち、レーザ光（２）の−周期Ｔｆ〔秒〕間に
被加工物（６）がレーザ光（２）のビーム径のほぼ半分
（φ／ ２ ［：ｍｍ］ ）程度移動するようにすれば
、レーザ光（２）を被加工物（６）に断続的に照射して
も、被加工物（６）は連続的にしかも溶は落ちが生じな
いように加工されることになる。従って、被加工物（６
）の加工速度Ｖに対応する電圧信号Ｖｆに対して、パル
ス信号Ｓｆの周波数がＦｆ （Ｈｚｌ（周期Ｔｆ（秒〕
）となるようにする。可変抵抗器（２０）は被加工物（
６）の材質及び厚さにより定まり、前述したように断続
的に照射されるレーザ光（２）の１パルス当りの照射時
間を調整するものである。
Ｖ／Ｆ変換回路（２１）は、可変抵抗！ （２０）の出
力電圧Ｖｔに対応する周波数Ｆｔを有するパルス信号Ｓ
ｔに変換する。なお、パルス信号Ｓｔはパルス信号Ｓｔ
が出力されてから一定時間、即ちレーザ航（２）の１パ
ルス当たりの照射時間経過後に出力され、又パルス信号
Ｓｔの周波数Ｆｔが一定周波数以上になったときは出力
されないようになっている。
力電圧Ｖｔに対応する周波数Ｆｔを有するパルス信号Ｓ
ｔに変換する。なお、パルス信号Ｓｔはパルス信号Ｓｔ
が出力されてから一定時間、即ちレーザ航（２）の１パ
ルス当たりの照射時間経過後に出力され、又パルス信号
Ｓｔの周波数Ｆｔが一定周波数以上になったときは出力
されないようになっている。
、ＲＳ −Ｆ Ｆ （２２）はセット端子（Ｓ）に入力
されるＶ／Ｆ変換回路（１９）のパルス信号Ｓｆにより
、出力信号Ｖｐがハイレベル“Ｌ”の状態となり、リセ
ット端子（Ｒ）に入力されるＶ／Ｆ変換回路（２１）の
パルス信号Ｓｔにより、出力信号Ｖｐローレベル“Ｈ”
の状態となる。レーザ光制御回路（２３）は信号Ｖｐに
応じてレーザ光（２）のパルス条件を制御する。このよ
うに、出力制園回路（１１）は被加工物（６）の加工速
度が遅いときはレーザ光（２）の出力を小さくし、被加
工物（６）の加工速度が速いときはレーザ光（２）の出
力を太き（する。
されるＶ／Ｆ変換回路（１９）のパルス信号Ｓｆにより
、出力信号Ｖｐがハイレベル“Ｌ”の状態となり、リセ
ット端子（Ｒ）に入力されるＶ／Ｆ変換回路（２１）の
パルス信号Ｓｔにより、出力信号Ｖｐローレベル“Ｈ”
の状態となる。レーザ光制御回路（２３）は信号Ｖｐに
応じてレーザ光（２）のパルス条件を制御する。このよ
うに、出力制園回路（１１）は被加工物（６）の加工速
度が遅いときはレーザ光（２）の出力を小さくし、被加
工物（６）の加工速度が速いときはレーザ光（２）の出
力を太き（する。
次に本発明に係るレーザ加工制御装置の全体の動作を第
２図及び第３図を参照して説明する。第２図は速度制御
プログラムのフローチャートチアリ、第３図は加工速度
及びレーザ光（２）の出力のタイミングチャートである
。まず、ＮＣ装置（１１）は加工方向を検出しくステッ
プ１０１）、加工方向の変更の有無を判断し、加工方向
の変更が無いときはステップ１０６に進む（ステップ１
０２）。
２図及び第３図を参照して説明する。第２図は速度制御
プログラムのフローチャートチアリ、第３図は加工速度
及びレーザ光（２）の出力のタイミングチャートである
。まず、ＮＣ装置（１１）は加工方向を検出しくステッ
プ１０１）、加工方向の変更の有無を判断し、加工方向
の変更が無いときはステップ１０６に進む（ステップ１
０２）。
ＮＣ装置（１１）は加工方向の変更が有るときは、変更
前の加工方向と変更後の加工方向とのなす角度である変
更角度を算出しくステップ１０３）、検出した変更角度
と予め設定した設定角度とを比較し、変更角度が設定角
度より大きいときはステップ１０６に進む（ステップ１
０４）。ＮＣ装置（１１）は変更角度が設定角度よりも
小さいか等しいときは、プログラムされた加工速度を加
工速度よりも遅い設定速度に変更する（ステップ１０５
）。
前の加工方向と変更後の加工方向とのなす角度である変
更角度を算出しくステップ１０３）、検出した変更角度
と予め設定した設定角度とを比較し、変更角度が設定角
度より大きいときはステップ１０６に進む（ステップ１
０４）。ＮＣ装置（１１）は変更角度が設定角度よりも
小さいか等しいときは、プログラムされた加工速度を加
工速度よりも遅い設定速度に変更する（ステップ１０５
）。
次いで、ＮＣ装置（１１）は駆動モータ（８１，［９）
を駆動して、被加工物（６）をプログラムされた加工速
度又は変更された加工速度でプログラムされた加工方向
に移動させるとともに、被加工物（６）の移動位置に応
じて制御回路（１１）によって出力制御されたレーザ光
（２）を被加工物（６）に照射させ、被加工物を加工す
る（ステップ１０６）。この場合、加工方向の変更があ
るときには第３図（ａ）に示すように被加工物（６）は
ａ点までばプログラムされた加工速度で移動し、ａ点か
ら加工方向を変更するｂ点までは徐々に減少する加工速
度で移動し、ｂ点から０点までは、即ち設定距離間はプ
ログラムされた加工速度よりも遅い速度で移動し、ざら
に０点からは再びプログラムされた加工速度で移動する
ことになる。又、加工速度の変化に対応して第３図（ｂ
）に示すようにレーザ光（２）の出力は変化する。
を駆動して、被加工物（６）をプログラムされた加工速
度又は変更された加工速度でプログラムされた加工方向
に移動させるとともに、被加工物（６）の移動位置に応
じて制御回路（１１）によって出力制御されたレーザ光
（２）を被加工物（６）に照射させ、被加工物を加工す
る（ステップ１０６）。この場合、加工方向の変更があ
るときには第３図（ａ）に示すように被加工物（６）は
ａ点までばプログラムされた加工速度で移動し、ａ点か
ら加工方向を変更するｂ点までは徐々に減少する加工速
度で移動し、ｂ点から０点までは、即ち設定距離間はプ
ログラムされた加工速度よりも遅い速度で移動し、ざら
に０点からは再びプログラムされた加工速度で移動する
ことになる。又、加工速度の変化に対応して第３図（ｂ
）に示すようにレーザ光（２）の出力は変化する。
ＮＣ装置（１１）は加工方向を検出した区間の加工が終
了したかどうかを判断して、加工が終了したときはステ
ップ１１２に進む（ステップ１ｏ７）。
了したかどうかを判断して、加工が終了したときはステ
ップ１１２に進む（ステップ１ｏ７）。
加工が終了していないときは、加工速度がプログラムさ
れたものか、変更されたものであるかを判断し、プログ
ラムされた加工速度であるときはステップ１０６に進む
（ステップ１０８）。又、加工速度が変更されたもので
あるときは、加工方向を変更した位置から現在加工を行
なっている位置までの加工距離を検出しくステップ１０
９）、検出した加工距離と予め設定した設定距離とを比
較して、加工距離が設定距離より小さければステップ１
０６に進み（ステップ１１０）、加工距離が設定距離よ
り大きければ加工速度をプログラムされた加工速度に変
更した後に（ステップ１１１）、ステップ１０６に進む
。なお、ステップ１０７からステップ１１１までは加工
（ステップ１０６）が終わってから実行されるものでは
なく、加工中に適宜の間隔で行われているものである。
れたものか、変更されたものであるかを判断し、プログ
ラムされた加工速度であるときはステップ１０６に進む
（ステップ１０８）。又、加工速度が変更されたもので
あるときは、加工方向を変更した位置から現在加工を行
なっている位置までの加工距離を検出しくステップ１０
９）、検出した加工距離と予め設定した設定距離とを比
較して、加工距離が設定距離より小さければステップ１
０６に進み（ステップ１１０）、加工距離が設定距離よ
り大きければ加工速度をプログラムされた加工速度に変
更した後に（ステップ１１１）、ステップ１０６に進む
。なお、ステップ１０７からステップ１１１までは加工
（ステップ１０６）が終わってから実行されるものでは
なく、加工中に適宜の間隔で行われているものである。
ＮＣ装置（１１）は加工方向を検出した区間の加工が終
了すると、全加工が終了とたかどうかを判断して、全加
工が終了していないときはステップ１０１に進み、全加
工が終了する迄、ステップ１０１からステップ１１２ま
でを繰り返して実行する。
了すると、全加工が終了とたかどうかを判断して、全加
工が終了していないときはステップ１０１に進み、全加
工が終了する迄、ステップ１０１からステップ１１２ま
でを繰り返して実行する。
以上説明したように本発明によれば、加工プログラムを
実行して被加工を加工する前に、変更前の加工方向と変
更後の加工方向とのなす変更角度が設定角度より小さい
ときは、加工方向を変更する位置から設定距離を超える
まではプログラムされた加工速度をこの加工速度よりも
遅い速度に変更するとともに、プログラムされた加工速
度又は変更された加工速度で動かされる被加工物の加工
速度を検出し、検出した加工速度に応じてレーザ光の出
力を変化させることにより、被加工物の加工形状が鋭角
であっても溶は落ちが生じない。
実行して被加工を加工する前に、変更前の加工方向と変
更後の加工方向とのなす変更角度が設定角度より小さい
ときは、加工方向を変更する位置から設定距離を超える
まではプログラムされた加工速度をこの加工速度よりも
遅い速度に変更するとともに、プログラムされた加工速
度又は変更された加工速度で動かされる被加工物の加工
速度を検出し、検出した加工速度に応じてレーザ光の出
力を変化させることにより、被加工物の加工形状が鋭角
であっても溶は落ちが生じない。
第１図は本発明に係るレーザ加工制御装置の概略図、第
２図は速度制御プログラムのフローチャート、第３図は
加工速度及びレーザ光の出力のタイミングチャート、第
４図は従来のレーザ加工制御装置の概略図、第５図は被
加工物の加工形状の説明図である。 各図中、１はレーザ発振蕃、２はレーザ光、３は光学手
段、４は反射鏡、５はレンズ、６は被加工物、７は加工
テーブル、８，９は駆動モータ、１０はＮＣ装置、１１
は出力制御装置、１２．１３はタコジェネレータ、１５
は制御回路、１６．１７は乗算回路、１８は平方根回路
、１９，２１はＶ／Ｆ変換回路、２０は可変抵抗器、２
２はセットリセットフリップフロップ、２３はレーザ光
制御回路である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 手続補正書（自発） 昭和６１年５月２８日
２図は速度制御プログラムのフローチャート、第３図は
加工速度及びレーザ光の出力のタイミングチャート、第
４図は従来のレーザ加工制御装置の概略図、第５図は被
加工物の加工形状の説明図である。 各図中、１はレーザ発振蕃、２はレーザ光、３は光学手
段、４は反射鏡、５はレンズ、６は被加工物、７は加工
テーブル、８，９は駆動モータ、１０はＮＣ装置、１１
は出力制御装置、１２．１３はタコジェネレータ、１５
は制御回路、１６．１７は乗算回路、１８は平方根回路
、１９，２１はＶ／Ｆ変換回路、２０は可変抵抗器、２
２はセットリセットフリップフロップ、２３はレーザ光
制御回路である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 手続補正書（自発） 昭和６１年５月２８日
Claims (1)
- 少なくとも被加工物の加工速度、該被加工物の加工方向
及び該被加工物に対するレーザ光の送出をプログラムし
た加工プログラムと該加工プログラムから前記被加工物
の加工方向を検出する処理、該検出した加工方向の変更
の有無を検出する処理、該加工方向の変更があるときは
変更前の加工方向と変更後の加工方向とのなす変更角度
を算出する処理、該算出した変更角度と予め設定した設
定角度とを比較し、該算出した変更角度が該設定角度よ
り小さいときは、前記加工方向を変更する位置から予め
設定した設定距離を超えるまでは、前記プログラムされ
た加工速度を該加工速度よりも遅い速度に変更する処理
からなる速度制御プログラムを有し、該速度制御プログ
ラムを前記加工プログラムの実行前に実行する制御装置
と、レーザ発振器と、該レーザ発振器から出力されるレ
ーザ光を前記被加工物に照射する光学手段と、前記加工
プログロムに従って送出されるレーザ光に対して前記被
加工物を前記プログラムされた加工速度又は前記変更さ
れた加工速度で２次元移動する駆動手段と、前記被加工
物の加工速度を算出し、該算出した加工速度に対応する
大きさの電圧を出力する速度演算回路と、該速度演算回
路の出力電圧に対応する周波数のパルス信号を出力する
第１の電圧−周波数変換回路と、前記被加工物の材質及
び厚さに応じて、前記レーザ光の前記被加工物への照射
時間を設定し、該設定した照射時間に対応する大きさの
電圧を出力するパルス幅調整器と、該パルス幅調整器の
出力電圧に対応する周波数のパルス信号を出力する第２
の電圧−周波数変換回路と、前記第１の電圧−周波数変
換回路が出力するパルス信号によりハイレベルの状態と
なり、前記第２の電圧−周波数変換回路が出力するパル
ス信号によりローベルの状態となる信号を出力するフリ
ップフロップと、該フリップフロップの出力信号に基ず
いて、前記レーザ発振器から出力されるレーザ光をオン
オフ制御するレーザ光制御回路を備えたことを特徴とす
るレーザ加工制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60149124A JPS629794A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | レ−ザ加工制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60149124A JPS629794A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | レ−ザ加工制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS629794A true JPS629794A (ja) | 1987-01-17 |
| JPH0256194B2 JPH0256194B2 (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=15468249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60149124A Granted JPS629794A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | レ−ザ加工制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS629794A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990014195A1 (fr) * | 1989-05-17 | 1990-11-29 | Fanuc Ltd | Procede d'usinage a decoupe par faisceau laser |
| WO1991004124A1 (en) * | 1989-09-19 | 1991-04-04 | Fanuc Ltd | Laser machining method |
| US5453594A (en) * | 1993-10-06 | 1995-09-26 | Electro Scientific Industries, Inc. | Radiation beam position and emission coordination system |
-
1985
- 1985-07-09 JP JP60149124A patent/JPS629794A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990014195A1 (fr) * | 1989-05-17 | 1990-11-29 | Fanuc Ltd | Procede d'usinage a decoupe par faisceau laser |
| WO1991004124A1 (en) * | 1989-09-19 | 1991-04-04 | Fanuc Ltd | Laser machining method |
| US5453594A (en) * | 1993-10-06 | 1995-09-26 | Electro Scientific Industries, Inc. | Radiation beam position and emission coordination system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0256194B2 (ja) | 1990-11-29 |
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