JPS63100818A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS63100818A JPS63100818A JP61246650A JP24665086A JPS63100818A JP S63100818 A JPS63100818 A JP S63100818A JP 61246650 A JP61246650 A JP 61246650A JP 24665086 A JP24665086 A JP 24665086A JP S63100818 A JPS63100818 A JP S63100818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- trs
- capability
- diffusion layer
- fuse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
Landscapes
- Logic Circuits (AREA)
- Filters And Equalizers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はスイッチング回路において、トランジスタ能力
補正のためのトランジスタ回路を有する半導体装置に関
する。
補正のためのトランジスタ回路を有する半導体装置に関
する。
従来、この種のトランジスタ能力補正は、フォトマスク
数種用意することにより、別々のチップ上に能力の異な
るトランジスタをパターン形成していた。
数種用意することにより、別々のチップ上に能力の異な
るトランジスタをパターン形成していた。
上述した従来のトランジスタ能力の補正は、フォトマス
クの切換えによって最適なトランジスタ能力を決定して
いるので、計画に必要なだけのフォトマスクを準備する
必要があった。
クの切換えによって最適なトランジスタ能力を決定して
いるので、計画に必要なだけのフォトマスクを準備する
必要があった。
上述した従来のフォトマスクを用いたトランジスタ能力
の補正に対し、本発明は複数個の補正用トランジスタと
ヒユーズ回路を組合せることによシ、切換えがパターン
形成後に容易に可能となり。
の補正に対し、本発明は複数個の補正用トランジスタと
ヒユーズ回路を組合せることによシ、切換えがパターン
形成後に容易に可能となり。
しかも補正用のトランジスタの組合せにより、トランジ
スタ能力を広い範囲での補正が可能となる。
スタ能力を広い範囲での補正が可能となる。
本発明は、スイ・ソチング回路を有する半導体装置にお
いて、上記スイッチング回路にトランジスタ能力補正用
トランジスタと切換用のヒユーズ回路を有し、その組合
せによ、9)ランジスタ能力の補正を可能にしたことを
特徴としている。
いて、上記スイッチング回路にトランジスタ能力補正用
トランジスタと切換用のヒユーズ回路を有し、その組合
せによ、9)ランジスタ能力の補正を可能にしたことを
特徴としている。
〔突施汐lJ )
次に、本発明について図面を参照にして説明する。第1
図は本発明の一実施例の平面図で、第2図はその回路図
である。2は、Pへ1(JS (トランジスタ(Tr)
OP1〜(JP4のソースあるいはドレインは極となる
P+拡散層領域で、5はOPl 。
図は本発明の一実施例の平面図で、第2図はその回路図
である。2は、Pへ1(JS (トランジスタ(Tr)
OP1〜(JP4のソースあるいはドレインは極となる
P+拡散層領域で、5はOPl 。
13はQ P * * l 4はQPx、15はQ P
aのゲート電極である。一方7はNM(JS T、
QN1〜Q4のソースあるいはドレイン’!fflと
なるN+拡散層領域である。18はQN 、 17はQ
Nzt16はQN s e19はQN4のゲート−他で
ある。また、13〜15.16〜18のゲートはトラン
ジスタ能力補正用のゲートである。また9〜12はそれ
に連なったヒユーズ回路F1〜F・である。また1が電
源配線、8がGND配線であり、4が入力電極。
aのゲート電極である。一方7はNM(JS T、
QN1〜Q4のソースあるいはドレイン’!fflと
なるN+拡散層領域である。18はQN 、 17はQ
Nzt16はQN s e19はQN4のゲート−他で
ある。また、13〜15.16〜18のゲートはトラン
ジスタ能力補正用のゲートである。また9〜12はそれ
に連なったヒユーズ回路F1〜F・である。また1が電
源配線、8がGND配線であり、4が入力電極。
6が出力′?L極でめる。F1〜F6のヒユーズを切る
ことにより、それに対するトランジスタが動作する。こ
れにより、必要なトランジスタ能力を得ることができる
。
ことにより、それに対するトランジスタが動作する。こ
れにより、必要なトランジスタ能力を得ることができる
。
〔実施例2〕
第3図は本発明の実施例20回路図である。本実施例で
は、補正用のトランジスタを並列に配置しており、同様
な効果を得ることができる。
は、補正用のトランジスタを並列に配置しており、同様
な効果を得ることができる。
以上説明したよりに本発明は複数個のトランジスタとヒ
ユーズ回路を用いることにより、スイッチング回路にお
けるトランジスタ能力の補正をパターン形成後に簡単に
行うことができる。
ユーズ回路を用いることにより、スイッチング回路にお
けるトランジスタ能力の補正をパターン形成後に簡単に
行うことができる。
第1図は本発明の一実施例を示す平面図、第2図は第1
図の回路図、第3図は第2の実施例を示す回路図である
。 1・・・・・・vcct極、2・・・・・・P+拡散層
、3・・・・・・コンタクト、4・・・・・・入力電極
、5.13〜19・・・・・・ゲート電極、6・・・・
・・出力電極、7・・・・・・N+拡散層、8・・・・
・・GND配線、9〜12・・・・・・、ヒユーズ回路
、IN・・・・・・入力端、OUT・・・・・・出力端
、Q N t〜QN4・・・・・・NチャネルMO8)
ランジスタ、OF、〜UP。 ・・・・・・NチャネルMO8)ランジスタ、oP1〜
UP。 ・・・、・・PチャネルMO8)ランジスタ、F1〜F
s・・・・・・ヒユーズ回路、■cc・・・・・・電源
。 xf図
図の回路図、第3図は第2の実施例を示す回路図である
。 1・・・・・・vcct極、2・・・・・・P+拡散層
、3・・・・・・コンタクト、4・・・・・・入力電極
、5.13〜19・・・・・・ゲート電極、6・・・・
・・出力電極、7・・・・・・N+拡散層、8・・・・
・・GND配線、9〜12・・・・・・、ヒユーズ回路
、IN・・・・・・入力端、OUT・・・・・・出力端
、Q N t〜QN4・・・・・・NチャネルMO8)
ランジスタ、OF、〜UP。 ・・・・・・NチャネルMO8)ランジスタ、oP1〜
UP。 ・・・、・・PチャネルMO8)ランジスタ、F1〜F
s・・・・・・ヒユーズ回路、■cc・・・・・・電源
。 xf図
Claims (1)
- スイッチング回路を有する半導体装置において、上記ス
イッチング回路にトランジスタ能力補正のためのトラン
ジスタ回路を有し、かつ上記トランジスタ回路の組合せ
によりトランジスタ能力補正を可能にした半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61246650A JPS63100818A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61246650A JPS63100818A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63100818A true JPS63100818A (ja) | 1988-05-02 |
Family
ID=17151571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61246650A Pending JPS63100818A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63100818A (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5710533A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-20 | Nec Corp | Logical circuit |
| JPS5895428A (ja) * | 1981-12-01 | 1983-06-07 | Nec Corp | 半導体装置 |
| JPS60127477A (ja) * | 1983-12-14 | 1985-07-08 | Toshiba Corp | 論理回路 |
| JPS60130157A (ja) * | 1983-12-17 | 1985-07-11 | Sharp Corp | モノリシツク半導体集積回路 |
| JPS60140857A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | Nec Corp | 電界効果型半導体装置 |
| JPS60170100A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-09-03 | モステツク・コーポレイシヨン | Cmos半導体集積回路 |
| JPS61234119A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-18 | Seiko Epson Corp | C・mos型電流増幅回路 |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP61246650A patent/JPS63100818A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5710533A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-20 | Nec Corp | Logical circuit |
| JPS5895428A (ja) * | 1981-12-01 | 1983-06-07 | Nec Corp | 半導体装置 |
| JPS60127477A (ja) * | 1983-12-14 | 1985-07-08 | Toshiba Corp | 論理回路 |
| JPS60130157A (ja) * | 1983-12-17 | 1985-07-11 | Sharp Corp | モノリシツク半導体集積回路 |
| JPS60140857A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | Nec Corp | 電界効果型半導体装置 |
| JPS60170100A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-09-03 | モステツク・コーポレイシヨン | Cmos半導体集積回路 |
| JPS61234119A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-18 | Seiko Epson Corp | C・mos型電流増幅回路 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW200419813A (en) | Semiconductor device and the manufacturing method of the same (II) | |
| JPS5293278A (en) | Manufacture for mos type semiconductor intergrated circuit | |
| JPS63100818A (ja) | 半導体装置 | |
| KR920004225B1 (ko) | 마스터 슬라이스(Master slice)방법을 사용하여 반도체 집적회로를 형성하는 방법 | |
| JPH11111855A (ja) | フォトマスク及び半導体装置の製造方法 | |
| US20100009298A1 (en) | Forming sub-lithographic patterns using double exposure | |
| JPS6037159A (ja) | Mos型集積回路 | |
| JPH04164371A (ja) | 半導体集積回路 | |
| JPH02303065A (ja) | 1つのマスキング工程で決定される異なるしきい値電圧をもつ電界効果トランジスタを有する半導体チップとその製造方法 | |
| JP3595008B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS61287244A (ja) | 半導体素子 | |
| JP2001177357A (ja) | 差動アンプ | |
| JPS63128644A (ja) | 半導体装置のオプシヨン切換回路 | |
| JPH0750392A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPS6037158A (ja) | Mos型集積回路 | |
| JPS59215766A (ja) | Mos集積回路装置 | |
| JPH029161A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPH0427159A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0154861B2 (ja) | ||
| JPS6396940A (ja) | マクロロジツクアレ− | |
| JPH03145762A (ja) | マスタースライス集積回路 | |
| JPH05167048A (ja) | ゲートアレー | |
| JPH01175241A (ja) | 半導体装置のマスタスライス方法 | |
| JPS6272143A (ja) | 半導体集積回路のパタ−ン形成方法 | |
| JPH01244640A (ja) | 半導体装置のマスタスライス方法 |