JPS63128644A - 半導体装置のオプシヨン切換回路 - Google Patents

半導体装置のオプシヨン切換回路

Info

Publication number
JPS63128644A
JPS63128644A JP61274729A JP27472986A JPS63128644A JP S63128644 A JPS63128644 A JP S63128644A JP 61274729 A JP61274729 A JP 61274729A JP 27472986 A JP27472986 A JP 27472986A JP S63128644 A JPS63128644 A JP S63128644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
output
turned
semiconductor device
option
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61274729A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Ariki
有木 康志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP61274729A priority Critical patent/JPS63128644A/ja
Publication of JPS63128644A publication Critical patent/JPS63128644A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分計〕 この発明は半導体装置に属するオプション切換回路に関
するものである。
〔従来の技術〕
@4図及び@6図は従来の半導体オプション切換回路で
あり、@4図ICおいて、(1)、(2)はオプション
・スイッチ用のnチャネルMOS トランジスタ(n 
−MOST ) 、 (3)はCMOSTからなるバン
ファである。
第z図はクロンク同期形ダイナミック回路であるが、(
4) 、 (5)はオプシ”;17−Xインチ用のn−
MOST。
(6a) 〜(6f)は入力用MOST、 +7)はプ
リチャージ用MOST、 (8)はディスチャージ用M
OSTである。
次に動作について説明する。(1) 、 +2)は通常
はエンハンスメントn−MOSTであり1回路的にはO
FF’状態にあるが、 MOST(1)又は(2)のい
づれ力)一方にウェーハプロセス中のチャネルドープ工
程においてリンイオンを注入することでデプレッション
・MOST +形成させることによって、そのMOST
はソース・ドVイン間が電気的に通電し出力にlol又
は′1#が出力される。@4図の場合MOST (1)
をデプレッション形にすると出力は#0# 、 MOS
T +2)の場合は出力は11′である。@6図の場合
も上記と同様sc MOST (4)をデプレッション
形Iζすると。
A −X’−C−Dが出力され、MOST +5)の場
合B−X◆C−Dが出力される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来のオプション切換回路は以上のように構成新たに9
エバープロセスを投入しなければならず。
多大な出費と時間がかかるなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、異なったオプション回路を得るために、新た
に9工tX−プロセスを実施したり。
別のマスクを作成することなく、異なったオプションの
選択ができる切換回路を得ることを目的とする。
ゲート電圧が供給される2つのMOSTの一方の属する
回路の配線を切断することによって2つのオプションの
一方を選ぶようにしたものである。
〔作用〕
この発明におけるオプション切換回路では、共通のゲー
ト電圧が供給される2つのMOST fこついて、一方
のMOST回路を断にすることによって。
ウェハープロセスに複雑な工程を必要とせず、出来上っ
たチップについてオプションの切換ができる。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明す変更部分
、 (10a) 、 (10b)はレーザで切断する部
分でアル。第2図はパターン・レイアウト変更部分(9
)を詳細に示した図であり、Q])はアルミニ9ム(ア
ルミ)配線、@はコンタク)、Q3はn4形拡散である
。
パターン・レイアウト変更部分(9)はレーザー・カン
トできるようにアルミ配線につなぎかえた例である。そ
の他、従来例と同一符号は同等部分を示す。
例えば、チャネルドープ工程でn−MOST (1)を
デプレッション形とした場合、出力はIQIであるが部
分(10a)をレーザー・カッターで切断した場合。
エンハンスメントn −MOST (2) (Dノース
・ドレイン間のリーク電流でCMOSTからなるインバ
ータ(3)のp−MOST側をONさせることができ、
出力はIIIとなる。つまり、ワエハープロセスで得ら
れたものとは逆のオプションが得られたことになる。
上記と逆の場合は1部分(lob)を切断することで。
n −MOST (1)のリーク電流により、CMOS
Tからなるインバータ(3)のn−MOST側をONさ
せることができ。
出力は#01となる。この場合レーザーで切断するのは
アルミ配縁が最もよい。
同様に他の実施例を以下1こ説明する。1g3図は従来
型の@6図に付加回路をつけ、パターン・レイアウトも
変更したものであり、(2)はn−MOST。
(15a) 、 (15b) 、 (15c)はレーザ
ーで切断する部分であり、アルミ配線でなければならな
い。
第3図の場合はクロンク同期形ダイナミック回路である
が1例えばn −MOST (4) ’itデグレツシ
ョン形とした場合出力はA −X+C−Dであるが1部
分(15a)と(15b)との切断によりn −MOS
T a4)のノース−ドレイン間のリーク電流でn−M
OST(51をONさせることができ、出力はB −x
+c−Dとなり異なったオプションが選択できる。同様
に1部分(15a)と(15c)との切断により出力は
A−XヰC−Dになる。
又、このような回路はPLA回路にも使用できる。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、半導体装置のオプシ
ョン切換がマスク変更や新たにウニへ−プロセス投入す
ることなく可能になるので、LSI評価やサンプル出荷
が安価にでき、大幅な時間削減が可能である。
【図面の簡単な説明】
@1図はこの発明の一実施例によるオプション切換回路
を示す回路図、第2図はその要部詳細パターン図、第3
図はこの発明の他の実施例を示す回路図、第4図は従来
のオプション切換回路の一例を示す回路図、第5図はそ
の等価回路図、@6図は他の従来例を示す回路図、$7
図はその等価回路図である。 図において、 (1) 、 121はオプション切換用
の2つのMOST 、 (4) 、 (5)はオプショ
ン切換用の2つのMOST 、  (10a)、 (l
ob)、 (15a)、 (15c)は配線切断部分で
ある。 なお1図中同一符号は同一、または相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)共通のゲート電圧が与えられる2つのMOSトラ
    ンジスタの一方をオフ(OFF)状態に他方をオン(O
    N)状態にして2つのオプションの間の切換えを行うも
    のにおいて、 上記2つのMOSトランジスタの回路にそれぞれ配線切
    断可能部分を設け、一方の上記MOSトランジスタの属
    する回路の配線を切断して当該MOSトランジスタをO
    FF状態にするようにしたことを特徴とする半導体装置
    のオプション切換回路。
JP61274729A 1986-11-18 1986-11-18 半導体装置のオプシヨン切換回路 Pending JPS63128644A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61274729A JPS63128644A (ja) 1986-11-18 1986-11-18 半導体装置のオプシヨン切換回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61274729A JPS63128644A (ja) 1986-11-18 1986-11-18 半導体装置のオプシヨン切換回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63128644A true JPS63128644A (ja) 1988-06-01

Family

ID=17545763

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61274729A Pending JPS63128644A (ja) 1986-11-18 1986-11-18 半導体装置のオプシヨン切換回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63128644A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02109419A (ja) * 1988-10-19 1990-04-23 Toshiba Corp Romを内蔵した集積回路
JPH0348928U (ja) * 1989-09-19 1991-05-13
JP2011035050A (ja) * 2009-07-30 2011-02-17 Ricoh Co Ltd 半導体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02109419A (ja) * 1988-10-19 1990-04-23 Toshiba Corp Romを内蔵した集積回路
JPH0348928U (ja) * 1989-09-19 1991-05-13
JP2011035050A (ja) * 2009-07-30 2011-02-17 Ricoh Co Ltd 半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100275725B1 (ko) 트리플웰 구조를 갖는 반도체 메모리 장치 및 그 제조방법
US4235010A (en) Semiconductor integrated circuit device composed of insulated gate field-effect transistor
JPS60117757A (ja) 半導体論理回路の製造方法
JPH08186180A (ja) Cmis型集積回路装置及びその製造方法
US4183093A (en) Semiconductor integrated circuit device composed of insulated gate field-effect transistor
KR890005891A (ko) 반도체 집적회로 장치 및 그 제조방법
JPS63278248A (ja) ゲ−トアレイの基本セル
KR920007194A (ko) 표준 셀 방식의 반도체 집접회로
JPS5937858B2 (ja) 半導体装置およびその製法
US4980745A (en) Substrate potential detecting circuit
JP2000040810A (ja) 半導体装置
KR970013406A (ko) 씨모스(cmos) 트랜지스터 제조방법
JPH02303065A (ja) 1つのマスキング工程で決定される異なるしきい値電圧をもつ電界効果トランジスタを有する半導体チップとその製造方法
JPH01206646A (ja) 半導体集積回路
JPH0750392A (ja) 半導体集積回路装置
JP2520473B2 (ja) 半導体集積回路
JPH0216061B2 (ja)
JPH02174258A (ja) 遅延セル
JPH0218960A (ja) 相補型クロックドナンド回路
JP3073064B2 (ja) 多入力論理回路及び半導体メモリ
CA1079409A (en) Semiconductor integrated circuit device composed of insulated gate field-effect transistors
KR970063748A (ko) 에스램(sram) 셀의 제조방법
JPH0831536B2 (ja) 半導体集積回路
KR970053899A (ko) 씨모스 박막트랜지스터 및 그 제조방법
JP2000164729A (ja) 半導体装置およびその製造方法