JPS63106949A - トラツク溝付き光カ−ド用基板の製造方法 - Google Patents
トラツク溝付き光カ−ド用基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS63106949A JPS63106949A JP61250707A JP25070786A JPS63106949A JP S63106949 A JPS63106949 A JP S63106949A JP 61250707 A JP61250707 A JP 61250707A JP 25070786 A JP25070786 A JP 25070786A JP S63106949 A JPS63106949 A JP S63106949A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mold
- base material
- optical card
- translucent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はトラック溝付き光カード用基板の製造方法に関
し、特に光学的に情報の記録・再生を行なうカード状の
情報記録担体(以下光カードと称する)に於けるトラッ
ク溝付き基板の製造方法に関するものである。
し、特に光学的に情報の記録・再生を行なうカード状の
情報記録担体(以下光カードと称する)に於けるトラッ
ク溝付き基板の製造方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、クレジットカード、バンクカード、クリニックカ
ード等のカード類に埋設される記録材料としては、磁気
材料が主として用いられて来た。
ード等のカード類に埋設される記録材料としては、磁気
材料が主として用いられて来た。
この様な磁気材料は情報の書き込み、読み出しが容易に
行なえるという利点がある反面、情報の内容が容易に変
化したり、また高密度記録が出来ないという問題点があ
った。かかる問題点を解決する為に、多種多様の情報を
効率良く取り扱う手段として、光カードによる光学的情
報記録方法が提案され、その為の光学的情報記録担体、
記録再生方式、記録再生装置等が提案されている。
行なえるという利点がある反面、情報の内容が容易に変
化したり、また高密度記録が出来ないという問題点があ
った。かかる問題点を解決する為に、多種多様の情報を
効率良く取り扱う手段として、光カードによる光学的情
報記録方法が提案され、その為の光学的情報記録担体、
記録再生方式、記録再生装置等が提案されている。
かかる情報記録担体としての光カードは、一般にレーザ
ー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散さ
せるか、反射率の変化を生じさせるか或いは変形を生じ
させて、光学的な反射率や透過率の差に依って情報を記
録し、或いは再生を行なっている。この場合、光記録層
は情報の書き込み後、現像処理などの必要がなく、「書
いた後に直読する」ことの出来る、所謂DRAW[ダイ
レクト リード アフター ライト(direct r
eadafter write) ]媒体であり、高密
度記録が可能であり、また追加書き込みも可能である事
から光カード用の記録媒体としては有効である。
ー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散さ
せるか、反射率の変化を生じさせるか或いは変形を生じ
させて、光学的な反射率や透過率の差に依って情報を記
録し、或いは再生を行なっている。この場合、光記録層
は情報の書き込み後、現像処理などの必要がなく、「書
いた後に直読する」ことの出来る、所謂DRAW[ダイ
レクト リード アフター ライト(direct r
eadafter write) ]媒体であり、高密
度記録が可能であり、また追加書き込みも可能である事
から光カード用の記録媒体としては有効である。
第2図は従来の光カードの模式的断面図である。同第2
図に於いて、1は透明樹脂基材、2はトラック溝部、3
は光記録層、4は接着層、5は不透明カード基材である
。第2図に於いて、情報の記録・再生は、透明樹脂基材
1及びトラック溝部2を通して光学的に書き込みと読み
出しを行なう、トラック溝部2の微細な凹凸を利用して
レーザー光の位相差によりトラッキングを行なえる様に
構成されている。
図に於いて、1は透明樹脂基材、2はトラック溝部、3
は光記録層、4は接着層、5は不透明カード基材である
。第2図に於いて、情報の記録・再生は、透明樹脂基材
1及びトラック溝部2を通して光学的に書き込みと読み
出しを行なう、トラック溝部2の微細な凹凸を利用して
レーザー光の位相差によりトラッキングを行なえる様に
構成されている。
この方式では凹凸(通常、トラック溝と呼ぶ)が情報の
記録・再生の案内役を果す為、レーザービームのトラッ
ク制御精度が向上し、溝無しの基板を用いる方式よりも
高速アクセスが可能となる。また、トラック溝の他、ト
ラック溝のアドレス、スタートビット、ストップビット
、クロック信号、エラー訂正信号等のプリフォーマット
を基板表面に形成しておく事も行なわれている。
記録・再生の案内役を果す為、レーザービームのトラッ
ク制御精度が向上し、溝無しの基板を用いる方式よりも
高速アクセスが可能となる。また、トラック溝の他、ト
ラック溝のアドレス、スタートビット、ストップビット
、クロック信号、エラー訂正信号等のプリフォーマット
を基板表面に形成しておく事も行なわれている。
これらのトラック溝やプレフォーマットの基板への形成
方法としては、従来、基板が熱可塑性樹脂である場合に
は、融点以上の温度での射出成型や熱ブレス成型等の方
法によりスタンパ−型を熱転写する方法、或いは基板上
に光硬化性樹脂組成物を塗布した後、スタンパ−型を密
着させて基板側から紫外線の如きエネルギーを賦与して
、該光硬化性樹脂組成物を硬化させる方法(以下、2P
プロセス法と称する)によりスタンパ−型を転写する方
法が知られている。
方法としては、従来、基板が熱可塑性樹脂である場合に
は、融点以上の温度での射出成型や熱ブレス成型等の方
法によりスタンパ−型を熱転写する方法、或いは基板上
に光硬化性樹脂組成物を塗布した後、スタンパ−型を密
着させて基板側から紫外線の如きエネルギーを賦与して
、該光硬化性樹脂組成物を硬化させる方法(以下、2P
プロセス法と称する)によりスタンパ−型を転写する方
法が知られている。
[発明が解決しようとする問題点]
これらに使用されるスタンパ−型は、従来、プラスチッ
ク成型用に使用される金型と同様な方法で作成されてい
る。通常、トラック溝及びプレフォーマットに基づいた
パターンを有するフォトマスクを作成し、該フォトマス
クを用いて、これらのパターンに相当するレジストパタ
ーンをガラス原盤の上に形成し、導電処理後ニッケルメ
ッキ、銅メッキを施す、所謂電鋳により作成されている
。
ク成型用に使用される金型と同様な方法で作成されてい
る。通常、トラック溝及びプレフォーマットに基づいた
パターンを有するフォトマスクを作成し、該フォトマス
クを用いて、これらのパターンに相当するレジストパタ
ーンをガラス原盤の上に形成し、導電処理後ニッケルメ
ッキ、銅メッキを施す、所謂電鋳により作成されている
。
しかも、熱転写法に使用するスタンパ−型に於いては、
電鋳により銅メッキをかなり厚く施さねばならない事、
電鋳の製作に治具を多数必要とする事、電鋳後の成型加
工に手間のかかる事等からスタンパ−型の製造に日数と
手間がかかり、スタンパ−型が高価になるという欠点が
あった。
電鋳により銅メッキをかなり厚く施さねばならない事、
電鋳の製作に治具を多数必要とする事、電鋳後の成型加
工に手間のかかる事等からスタンパ−型の製造に日数と
手間がかかり、スタンパ−型が高価になるという欠点が
あった。
一方、2Pプロセス法に於いては、熱転写法に比較して
スタンパ−型は、厚みが9く、その分だけスタンパ−型
の製造コストは低下するものの。
スタンパ−型は、厚みが9く、その分だけスタンパ−型
の製造コストは低下するものの。
やはりスタンパ−型のコストは大きい問題である。
また、2Pプロセスに於いても、上記の様にして作成し
たスタンパ−型は、金属性である為に透光性かない為、
基板側から光を照射する以外にトラック溝やプレフォー
マット等のパターンを基板上に形成する事が出来なかっ
た。その為、紫外線吸収剤を含有する基板の場合には、
2Pプロセスを行なっても満足されたトラック溝やプレ
フォーマット等のパターンを形成する事は出来なかった
。
たスタンパ−型は、金属性である為に透光性かない為、
基板側から光を照射する以外にトラック溝やプレフォー
マット等のパターンを基板上に形成する事が出来なかっ
た。その為、紫外線吸収剤を含有する基板の場合には、
2Pプロセスを行なっても満足されたトラック溝やプレ
フォーマット等のパターンを形成する事は出来なかった
。
本発明は光学的情報記Q41!体の基板の製造に於ける
基板のトラック溝やプレフォーマットの形成に使用され
るスタンパ−型に関する上記の様な問題点を克服し、特
に透光性スタンパ−型を使用することにより紫外線吸収
剤入りの基板に対しても2Pプロセスを行なうことがで
きるトラック溝付き光カード用基板の製造方法を提供す
る事を目的とするものである。
基板のトラック溝やプレフォーマットの形成に使用され
るスタンパ−型に関する上記の様な問題点を克服し、特
に透光性スタンパ−型を使用することにより紫外線吸収
剤入りの基板に対しても2Pプロセスを行なうことがで
きるトラック溝付き光カード用基板の製造方法を提供す
る事を目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]
即ち5本発明は透明樹脂基材上に光硬化性樹脂混合物を
塗布し、その上から凹凸パターンからなる透光性スタン
パ−型を圧着し、次いで該透光性スタンパ−型側から紫
外線を照射することにより前記光硬化性樹脂混合物を固
定して透明樹脂基材上にトラッキング用の溝を形成する
ことを特徴とするトラック溝付き光カード用基板の製造
方法である。
塗布し、その上から凹凸パターンからなる透光性スタン
パ−型を圧着し、次いで該透光性スタンパ−型側から紫
外線を照射することにより前記光硬化性樹脂混合物を固
定して透明樹脂基材上にトラッキング用の溝を形成する
ことを特徴とするトラック溝付き光カード用基板の製造
方法である。
以下、図面を用いて、本発明の詳細な説明する。
第1図(a)〜(c)は本発明のトラック溝付き光カー
ド基板の製造方法の概略工程図であり、1は透明樹脂基
材、6は光硬化性樹脂混合物(以下、樹脂混合物と略記
する)、7は透光性スタンパ−型、8は紫外線、9は完
成したトラック溝付き光カード基板である。
ド基板の製造方法の概略工程図であり、1は透明樹脂基
材、6は光硬化性樹脂混合物(以下、樹脂混合物と略記
する)、7は透光性スタンパ−型、8は紫外線、9は完
成したトラック溝付き光カード基板である。
透明樹脂基材l上へのトラック溝やプレフォーマット等
のパターン形成工程仲、まず第1図(a)に示す様に、
樹脂混合物6を透明樹脂基板l上に塗布する。塗布方法
としてはロールコート、スピンニート、ディップコート
等の公知の方法が使用可能である。
のパターン形成工程仲、まず第1図(a)に示す様に、
樹脂混合物6を透明樹脂基板l上に塗布する。塗布方法
としてはロールコート、スピンニート、ディップコート
等の公知の方法が使用可能である。
次いで、その上から第1図(b)に示す様に、透光性ス
タンパ−型7を圧着し、透光性スタンパ−型7の溝であ
る凹部10内に前記樹脂混合物6を収容すると同時に、
透光性スタンパ−型7の凸部11の面を前記樹脂混合物
6に密着させ、透光性スタンパ−型7側から紫外線8を
照射して前記樹脂混合物6の硬化物を透明樹脂基材1上
に固定化する。
タンパ−型7を圧着し、透光性スタンパ−型7の溝であ
る凹部10内に前記樹脂混合物6を収容すると同時に、
透光性スタンパ−型7の凸部11の面を前記樹脂混合物
6に密着させ、透光性スタンパ−型7側から紫外線8を
照射して前記樹脂混合物6の硬化物を透明樹脂基材1上
に固定化する。
第1図(C)は透光性スタンパ−型7を取り去つた後の
トラック溝付き光カード基板9を示しており、溝の深さ
9幅、精度、ピッチ間隔等は透光性スタンパ−型7を転
写した形となるため、透光性スタンパ−型7の溝を精度
よく仕上げておけば任意の形状を有するトラック溝付き
光カード基板9を第1図(a)〜(C)に示す様な簡単
な工程により作製する事が出来る。
トラック溝付き光カード基板9を示しており、溝の深さ
9幅、精度、ピッチ間隔等は透光性スタンパ−型7を転
写した形となるため、透光性スタンパ−型7の溝を精度
よく仕上げておけば任意の形状を有するトラック溝付き
光カード基板9を第1図(a)〜(C)に示す様な簡単
な工程により作製する事が出来る。
本発明に用いられる透明樹脂基材1としては。
光学的な記録・再生に於いて不都合の少ないものが好ま
しく、平滑性が高く、記録・再生に使用するレーザー光
の透過率が高く、複屈折の小さい材料である事が必要で
ある0通常、プラスチック板やフィルムが用いられ1例
えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボ
ネート系樹脂、ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リイミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリオレフィ
ン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体等が用
いられ、特にレーザー光透過率が良好でかつ複屈折の少
ないアクリル系樹脂(メタアクリレートの各種共重合体
樹脂)、ポリカーボネート系樹脂が好ましい、透明樹脂
基材1は通常0.3〜0.5j1層厚の平滑な平成に成
形して用いられる。
しく、平滑性が高く、記録・再生に使用するレーザー光
の透過率が高く、複屈折の小さい材料である事が必要で
ある0通常、プラスチック板やフィルムが用いられ1例
えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボ
ネート系樹脂、ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リイミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリオレフィ
ン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体等が用
いられ、特にレーザー光透過率が良好でかつ複屈折の少
ないアクリル系樹脂(メタアクリレートの各種共重合体
樹脂)、ポリカーボネート系樹脂が好ましい、透明樹脂
基材1は通常0.3〜0.5j1層厚の平滑な平成に成
形して用いられる。
本発明に使用される樹脂混合物は公知の2Pプロセスに
使用可能なものとして市販されているもので良く、主に
(メタ)アクリレートを主体とした各種の単官能又は多
官能モノマー、オリゴマー、ポリマー、その他必要に応
じて各種の添加剤を含有するものであり、例えば、被覆
形成時の粘度調節のための有機溶剤、被膜の可とう性や
硬度の調節用の非反応性のポリマー、硬化手段が紫外線
である場合に必要な増感剤や重合開始剤、充填剤、接着
性向上の為のシランカップリング剤。
使用可能なものとして市販されているもので良く、主に
(メタ)アクリレートを主体とした各種の単官能又は多
官能モノマー、オリゴマー、ポリマー、その他必要に応
じて各種の添加剤を含有するものであり、例えば、被覆
形成時の粘度調節のための有機溶剤、被膜の可とう性や
硬度の調節用の非反応性のポリマー、硬化手段が紫外線
である場合に必要な増感剤や重合開始剤、充填剤、接着
性向上の為のシランカップリング剤。
チタンカップリング剤等を含有するものが用いられる。
いずれにしても、成型後に透光性を失わずかつ透明樹脂
基材1との屈折率差が0.05以内のものであればよく
、該透明樹脂基材1と接着性が良く、且つスタンパ−型
とのa型性の良い事が必要である。
基材1との屈折率差が0.05以内のものであればよく
、該透明樹脂基材1と接着性が良く、且つスタンパ−型
とのa型性の良い事が必要である。
本発明に使用される透光性スタンパ−型7は凹凸パター
ンから成る透光性のスタンパ−型であって、トラック溝
やプレフォーマット等のパターンから成るフォトマスク
を使用してガラス基板又は石芙基板等の透光性基板上に
レジストを塗布したものに公知のフォトリソプロセスを
適用して、前記透光性基板上にレジストパターンを形成
し、レジストパターンをマスクとして透光性基板を所望
17)ffさまでエツチングし、レジストパターンを剥
膜する事により得られる。または、上記のフォトマスク
のパターン(通常クロム薄膜から成るパターン)を利用
して、フォトマスク基板の透光性の部分を所望の深さま
でエツチングし、前記パターン(クロムパターン)を剥
膜する事によっても得られる。後者の方法は、本発明の
透光性スタンパ−型を短時間で作成することができるの
で大いに利点がある。
ンから成る透光性のスタンパ−型であって、トラック溝
やプレフォーマット等のパターンから成るフォトマスク
を使用してガラス基板又は石芙基板等の透光性基板上に
レジストを塗布したものに公知のフォトリソプロセスを
適用して、前記透光性基板上にレジストパターンを形成
し、レジストパターンをマスクとして透光性基板を所望
17)ffさまでエツチングし、レジストパターンを剥
膜する事により得られる。または、上記のフォトマスク
のパターン(通常クロム薄膜から成るパターン)を利用
して、フォトマスク基板の透光性の部分を所望の深さま
でエツチングし、前記パターン(クロムパターン)を剥
膜する事によっても得られる。後者の方法は、本発明の
透光性スタンパ−型を短時間で作成することができるの
で大いに利点がある。
得られた透光性スタンパ−型は、トラック溝部の深さと
して波長が700乃至900n+sの半導体レーザーを
使用して光カードの記録・再生を行なう場合には、0.
1乃至0.18pmが好ましい。また、スタンバー型上
のパターンとしてのトラック溝は、溝幅が2乃至4鋳霞
で、記録部は3乃至111t■が一般的である。この場
合、2Pプロセス後に得られる凹凸パターンに於いて、
凹部がトラック溝となる事が好ましく、透光性スタンバ
−型としては、トラック溝部が凸部、記録部か四部のパ
ターンとなっている事が望ましい。
して波長が700乃至900n+sの半導体レーザーを
使用して光カードの記録・再生を行なう場合には、0.
1乃至0.18pmが好ましい。また、スタンバー型上
のパターンとしてのトラック溝は、溝幅が2乃至4鋳霞
で、記録部は3乃至111t■が一般的である。この場
合、2Pプロセス後に得られる凹凸パターンに於いて、
凹部がトラック溝となる事が好ましく、透光性スタンバ
−型としては、トラック溝部が凸部、記録部か四部のパ
ターンとなっている事が望ましい。
[作 用]
本発明のトラック溝付き光カード用基板の製造方法は透
明樹脂基材上に樹脂混合物を塗布し、その上から凹凸パ
ターンからなる透光性スタンバ−型を圧着し、次いで該
透光性スタンバ−型側から紫外線を照射することにより
前記樹脂混合物を硬化せしめて透明樹脂基材上に固定し
ているので。
明樹脂基材上に樹脂混合物を塗布し、その上から凹凸パ
ターンからなる透光性スタンバ−型を圧着し、次いで該
透光性スタンバ−型側から紫外線を照射することにより
前記樹脂混合物を硬化せしめて透明樹脂基材上に固定し
ているので。
透光性スタンバ−型を使用することにより、スタンバ−
型の側から紫外線を照射することが可能となると共に透
明樹脂基材の物性に依存せず、2Pプロセスの自由度が
増大し、トラッキング用溝やプレフォーマット等を、例
えば容易に紫外線吸収剤入り透明樹脂基材上にも成型す
ることができる。
型の側から紫外線を照射することが可能となると共に透
明樹脂基材の物性に依存せず、2Pプロセスの自由度が
増大し、トラッキング用溝やプレフォーマット等を、例
えば容易に紫外線吸収剤入り透明樹脂基材上にも成型す
ることができる。
〔実施例]
以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれに
より何ら限定されるものではない。
より何ら限定されるものではない。
実施例1
O透光性スタンバ−型の製造方法
両面を鏡面仕上げした石英ガラス基板(厚さ2.2m厘
、5インチ角型)上に、ネガ型遠紫外線用レジスト(R
D−200ON、日立化成輛製)をスピンコードにより
、厚さ0.65棒量にt膜し、波長290nmのよくコ
リメートされた遠紫外光を、トラック溝及びプレフォー
マットのパターンから成るフォトマスクを介して露光し
た後、現像しく現像液:RD−ディベロツバ−1日立化
成■製)、硬化レジストパターンを形成した。
、5インチ角型)上に、ネガ型遠紫外線用レジスト(R
D−200ON、日立化成輛製)をスピンコードにより
、厚さ0.65棒量にt膜し、波長290nmのよくコ
リメートされた遠紫外光を、トラック溝及びプレフォー
マットのパターンから成るフォトマスクを介して露光し
た後、現像しく現像液:RD−ディベロツバ−1日立化
成■製)、硬化レジストパターンを形成した。
該レジストパターンをマスクとして、石英ガラス基板を
ドライエツチングした。エツチング条件は、エツチング
ガスとしてCF、 (16,83(:CM)を使用し、
エツチング圧カフPa、RFパワー0.16W/cm”
、7分間エツチングして、エツチング深さを0 、1
:1gmとした。
ドライエツチングした。エツチング条件は、エツチング
ガスとしてCF、 (16,83(:CM)を使用し、
エツチング圧カフPa、RFパワー0.16W/cm”
、7分間エツチングして、エツチング深さを0 、1
:1gmとした。
その後レジストパターンを剥離剤(マイクロポジットリ
ムーバー140、シブレイ(社)製)にて、80°C1
5分間、超音波洗浄器中で剥離し、石英ガラス基板上に
深さ0.1:lps、幅が凹部9終鳳および凸部3MI
Iの凹凸パターンを形成した透光性スタンバ−型を製造
した。
ムーバー140、シブレイ(社)製)にて、80°C1
5分間、超音波洗浄器中で剥離し、石英ガラス基板上に
深さ0.1:lps、幅が凹部9終鳳および凸部3MI
Iの凹凸パターンを形成した透光性スタンバ−型を製造
した。
Oトラック溝付き透明樹脂基板の製造方法厚さ0.4m
mの紫外線吸収剤入りポリカーボネート板(パンライト
211、帝人化成麹製)上に、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート70重量部、ビスフェノール系エポキ
シアクリレート[エピコート828(商品名、油化シェ
ルエポキシ■製)にアクリル酸を付加した2官能性アク
リレ一ト]30重量部、及びベンゾインイソプロピルエ
ーテル1重量部から成る光硬化性の樹脂混合物をロール
コートし、厚さ70終■の塗膜を形成した。
mの紫外線吸収剤入りポリカーボネート板(パンライト
211、帝人化成麹製)上に、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート70重量部、ビスフェノール系エポキ
シアクリレート[エピコート828(商品名、油化シェ
ルエポキシ■製)にアクリル酸を付加した2官能性アク
リレ一ト]30重量部、及びベンゾインイソプロピルエ
ーテル1重量部から成る光硬化性の樹脂混合物をロール
コートし、厚さ70終■の塗膜を形成した。
形成された樹脂混合物の塗膜上に上記の透光性スタンバ
−型を圧着し、該樹脂混合物を前記透光性スタンバ−型
の溝内に収容して密着させた。
−型を圧着し、該樹脂混合物を前記透光性スタンバ−型
の溝内に収容して密着させた。
透光性スタンバ−型側から、照射パワー10mW/cs
+”の高圧水銀灯に10分間翼露し、樹脂を硬化させた
。ポリカーボネート板を透光性スタンバ−型から剥して
トラック溝付き透明樹脂基板を製造した。
+”の高圧水銀灯に10分間翼露し、樹脂を硬化させた
。ポリカーボネート板を透光性スタンバ−型から剥して
トラック溝付き透明樹脂基板を製造した。
[発明の効果]
以上、述べた様に、本発明は、透光性スタンバ−型を使
用して2Pプロセスを行なう事により、凹凸パターンを
形成するのに基板の透光性が関与せず、基板選択の自由
度が増し、特に光カードの基板材料として紫外線吸収剤
入りの透明樹脂基板が使用可能となる利点がある。
用して2Pプロセスを行なう事により、凹凸パターンを
形成するのに基板の透光性が関与せず、基板選択の自由
度が増し、特に光カードの基板材料として紫外線吸収剤
入りの透明樹脂基板が使用可能となる利点がある。
また、透光性スタンバ−型を比較的容易に短時間で製造
出来るので、透光性スタンバ−型の製造コストが低くな
り、光カードの製造コストを下げる事が可能となる。
出来るので、透光性スタンバ−型の製造コストが低くな
り、光カードの製造コストを下げる事が可能となる。
第1図(a)〜(C)は本発明のトラック溝付き光カー
ト用基板の製造方法の概略工程図、および第2図は従来
の光カードの模式的断面図である。 1−・・透明樹脂基材 2・・・トラック溝部3
・・・光記録層 4・・・接着層5・・・不
透明カート基材 6・・・光硬化性樹脂混合物 7・・・透光性スタンバ−型
ト用基板の製造方法の概略工程図、および第2図は従来
の光カードの模式的断面図である。 1−・・透明樹脂基材 2・・・トラック溝部3
・・・光記録層 4・・・接着層5・・・不
透明カート基材 6・・・光硬化性樹脂混合物 7・・・透光性スタンバ−型
Claims (1)
- 透明樹脂基材上に光硬化性樹脂混合物を塗布し、その上
から凹凸パターンからなる透光性スタンパー型を圧着し
、次いで該透光性スタンパー型側から紫外線を照射する
ことにより前記光硬化性樹脂混合物を固定して透明樹脂
基材上にトラッキング用の溝を形成することを特徴とす
るトラック溝付き光カード用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61250707A JPS63106949A (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | トラツク溝付き光カ−ド用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61250707A JPS63106949A (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | トラツク溝付き光カ−ド用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63106949A true JPS63106949A (ja) | 1988-05-12 |
Family
ID=17211851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61250707A Pending JPS63106949A (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | トラツク溝付き光カ−ド用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63106949A (ja) |
-
1986
- 1986-10-23 JP JP61250707A patent/JPS63106949A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3104699B1 (ja) | 細溝付き成形基板の製造方法 | |
| JPH0224848A (ja) | 光記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPS63251924A (ja) | 情報記録用円板および情報記録方法 | |
| JPS59114031A (ja) | 光デイスク用スタンパの作製方法 | |
| JP2001234383A (ja) | スタンパーの製造方法 | |
| JPS63106949A (ja) | トラツク溝付き光カ−ド用基板の製造方法 | |
| JPH0337842A (ja) | 情報記録媒体用スタンパーの製造方法 | |
| JPH04372741A (ja) | 両面タイプの2p基板の製造方法 | |
| JPH10154351A (ja) | 光学記録媒体とその製造方法 | |
| JPH0963130A (ja) | 光学的記録担体作製用スタンパ及びその製造方法 | |
| JPH0660436A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JP2006073087A (ja) | 光情報記録媒体用成形基板と該製造方法、光情報記録媒体と該製造方法 | |
| JPH11333856A (ja) | 樹脂基板用の成形型の製造方法 | |
| JPH03235233A (ja) | 情報記録媒体用基板の成形用ロール型の製造方法及びそれを用いた情報記録媒体用基板の製造方法 | |
| JP2556351B2 (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0482035A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH0316720A (ja) | 光記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPS63134078A (ja) | スタンパ−型およびプレフオ−マツト・パタ−ンの転写方法 | |
| JPH07141704A (ja) | 光ディスクの加工方法 | |
| JPH02128337A (ja) | 光学情報記録媒体用基板の製造方法 | |
| JP2515587B2 (ja) | 情報記録媒体用基板の注型成形用型、それを用いた情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH01285040A (ja) | 光ディスク用基板の製造方法 | |
| JPS62291732A (ja) | スタンパ−型 | |
| JPH0729221A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPS6318540A (ja) | 光カ−ドのプレフオ−マツト形成方法 |