JPS6310695B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なカルバミン酸エステル誘導体、
チオールカルバミン酸エステル誘導体、チオカル
バミン酸エステル誘導体、およびジオチカルバミ
ン酸エステル誘導体とそれらの製造方法およびそ
の用途に係わるものである。詳しくは 一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
ある場合を除く。R₁，R₂は水素原子または低級
アルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合
する窒素原子とともにアルキレン基または異項原
子を含むアルキレン基によつて環を形成すること
も可能である。）で表わされる化合物とその製造
法およびこれらの化合物の少くとも一種を有効成
分として含有することを特徴とする除草剤に関す
るものである。 本発明は、特に除草剤として有用な新規なアリ
ルカルバミン酸エステル誘導体を提供しようとす
るものである。 また、本発明は新規なアリルカルバミン酸エス
テル誘導体を有利に製造するための方法を提供し
ようとするものである。 さらに、本発明は、特にイネ科属間選択性が優
れた除草剤を提供しようとするものである。 本発明者らは、これまでジフエニルエーテル系
除草剤がイネに薬害が少ないことに着眼し研究を
進めてきたが、近年遂次領域を増大しつつある還
元性土壌に施用しても、効力を失わない化合物、
すなわちニトロ基を含有しない新規ジフエニルエ
ーテル系化合物を探索した結果、本発明化合物が
除草剤として多くの、すぐれた特徴を有すること
を発見して本発明を完成するに至つた。 本発明のアリルカルバミン酸エステル誘導体は
下記の反応式(1)〜(4)に従つて、工業的に有利に製
造されうる。 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
ある場合を除く。R₁，R₂は水素原子または低級
アルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合
する窒素原子とともにアルキレン基または異項原
子を含むアルキレン基によつて環を形成すること
も可能である。Ｍは水素原子またはアルカリ金属
原子を示し、Ｇはハロゲン原子を示す。Ｑはハロ
ゲン原子または

【式】を示す。） すなわち、前記反応式(1)においては、アリルフ
エノールまたはアリルチオフエノール〔〕を適
当な溶媒に溶かし、これに同じ溶媒に溶かしたイ
ソシアナートまたはチオイソシアナート〔〕
を、場合によつてはさらに第三成分を加えて−20
〜50℃で１〜５時間反応させたのち、脱溶媒し、
少量の溶媒を加えて再結晶するか、減圧蒸留また
はカラムクロマトグラフイーを用いて精製するこ
とによつて、本発明の化合物〔〕を好収率で得
ることができる。反応溶媒としてはベンゼン、ト
ルエン、ケトン類、エーテル類またはジオキサン
などがある。第三成分としてはトリエチルアミン
やピリジンなどの有機塩基がよく、再結晶溶媒は
ベンゼンやトルエンを使用できる。反応温度は好
ましくは０℃〜室温である。 反応式(2)ではアリルフエノールまたはアリルチ
オフエノールのナトリウム塩などのアルカリ金属
塩〔′〕をイソプロパノール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、ベンゼン、トルエン、クロロホ
ルム、ジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロ
フランなどの溶媒中に溶解または懸濁させ、カル
バモイルハライドまたはチオカルバモイルハライ
ド〔〕を加えて−20℃〜80℃で２〜６時間反応
させる。場合によつては、アリルフエノールまた
はアリルチオフエノール〔′〕を不活性溶媒に
溶かし、水素化ナトリウムなどの塩基によつて溶
媒中で造塩したのち、カルバモイルハライドまた
はチオカルバモイルハライド〔〕を反応させる
こともできる。同様に、アリルフエノールまたは
アリルチオフエノール〔′〕とカセイカリ、炭
酸カリ、カセイソーダ、ジメチルアニリン、トリ
エチルアミンまたはピリジンなどの脱酸剤の共存
下で、カルバモイルハライドまたはチオカルバモ
イルハライド〔〕を反応させてもよい。以上の
反応により本発明の化合物〔〕を得ることがで
きる。 反応式(3)では、アリルフエノールまたはアリル
チオフエノール〔〕をアセトン、メチルエチル
ケトン、ベンゼン、トルエンまたはクロロホルム
などにとかし、これとカルボニルジハライドとを
−20℃〜室温で反応させてハロ蟻酸アリルエステ
ルまたはハロ蟻酸アリルチオエステルまたはアリ
ル炭酸ジエステルまたはアリル炭酸ジチオエステ
〔〕を得る。〔〕は空気中の水分などで分解し
易いため、これを単離せず、上記反応液中の生成
ハロゲン化水素および過剰の溶解カルボニルハラ
イドを減圧除去したのち、倍モル量のアミンと反
応させることもできる。生成したアミンのハロゲ
ン化水素塩を別するか、または水中に排出し溶
媒で目的物を抽出し溶媒を留去したのち、反応(1)
と同様な精製方法によつて、本発明の化合物
〔〕を得ることができる。 反応式(4)では、ｍ―ヒドロキシまたはｍ―メル
カプトフエニルカルバミン酸エステル、ｍ―ヒド
ロキシまたはｍ―メルカプトフエニルチオカルバ
ミン酸エステル、ｍ―ヒドロキシまたはｍ―メル
カプトフエニルカルバミン酸チオエステル、ｍ―
ヒドロキシまたはｍ―メルカプトフエニルジチオ
カルバミン酸エステル〔〕を、ジメチルホルム
アミドまたはスルホランなどの溶媒中で３，４―
ジクロルベンゾトリフルオライド〔〕と縮合さ
せる。この際一般式〔〕の化合物はあらかじめ
アルカリ塩にしておいてもよいが、反応時に脱酸
剤を加えてもよい。またジメチルホルムアミド、
スルホランなどの溶媒中でレゾルシン、ジチオレ
ゾルシンまたはｍ―メルカプトフエノールと一般
式〔〕または〔〕の化合物を反応させ得られ
た〔〕を単離せずに、そのまま３，４―ジクロ
ルベンゾトリフルオライド〔〕と反応させるこ
とによつても本発明の化合物〔〕を得ることが
できる。 以上の製造法によつて得られる代表的な化合物
を次に例示する。 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―メチルチオールカー
バメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジメチルチオー
ルカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―エチルチオールカー
バメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニール―Ｎ，Ｎ―ジエチルチオ
ールカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―ｎ―プロピルチオー
ルカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジ―ｎ―プロピ
ルチオールカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―イソプロピルチオー
ルカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジイソプロピル
チオールカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―ｎ―ブチルチオール
カーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―エチレンチオー
ルカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―テトラメチレン
チオールカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ペンタメチレン
チオールカーバメート、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエノキシ）フエニルチオ〕カルボニルモルホ
リン、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエノキシ）フエニルチオ〕カルボニル―
N′―メチルピペラジン、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―メチルジチオカーバ
メート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジメチルジチオ
カーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―エチルジチオカーバ
メート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―ｎ―プロピルジチオ
カーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ―イソプロピルジチオ
カーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジイソプロピル
ジチオカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―エチレンジチオ
カーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ペンタメチレン
ジチオカーバメート、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエノキシ）フエニルチオ〕チオカルボニルモ
ルホリン、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―メチルチオールカ
ーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―エチルチオールカ
ーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジエチルチオ
ールカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―ｎ―プロピルチオ
ールカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―イソプロピルチオ
ールカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―ブチルチオールカ
ーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ヘキサメチレ
ンチオールカーバメート、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエニルチオ）フエニルチオ〕カルボニル―
N′―メチルピペラジン、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―メチルカーバメート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ジメチルカーバメー
ト、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―エチルカーバメート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ジエチルカーバメー
ト、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニル―Ｎ―ｎ―プロピルカーバメ
ート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―イソプロピルカーバメー
ト、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ジイソプロピルカー
バメート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―ブチルカーバメート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―エチレンカーバメー
ト、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―テトラメチレンカー
バメート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ペンタメチレンカー
バメート、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエニルチオ）フエノキシ〕カルボニルモルホ
リン、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエニルチオ）フエノキシ〕カルボニル―
N′―メチルピペラジン、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―メチルチオカーバメー
ト、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ジメチルチオカーバ
メート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―エチルチオカーバメー
ト、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―ｎ―プロピルチオカーバ
メート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ―イソプロピルチオカーバ
メート、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ジイソプロピルチオ
カーバメート、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエニルチオ）フエノキシ〕チオカルボニルモ
ルホリン、 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフエ
ニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ペンタメチレンチオ
カーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―メチルジチオカー
バメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジメチルジチ
オカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―エチルジチオカー
バメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―ｎ―プロピルジチ
オカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―イソプロピルジチ
オカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジイソプロピ
ルジチオカーバメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニル―Ｎ―ブチルジチオカー
バメート、 Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニルＮ，Ｎ―ペンタメチレン
ジチオカーバメート、 Ｎ―〔３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエニルチオ）フエニルチオ〕チオカルボニル
―N′―メチルピペラジン、 次に実施例をあげて前記一般式〔〕で示され
る本発明化合物の製造法につき詳しく説明する。 実施例 １ Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―ジメチルチ
オールカーバメート〔化合物番号１〕 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフ
エノキシ）チオフエノール1.52ｇ（５×10^-3モ
ル）を15mlのジメチルホルムアミドに溶解し窒素
気流下、水素化ナトリウム（50％品）0.26ｇ
（5.5×10^-3モル）を添加し、水素の発生が止んで
から、５mlのジメチルホルムアミドに溶解したジ
メチルカルバモイルクロライド0.59ｇ（5.5×10^-3
モル）を室温で滴下し、そのまま１時間撹拌をつ
づけた。反応液を水に排出し、酢酸エチルで抽出
し、水洗、乾燥、濃縮した後、シリカゲルクロマ
トグラフイー（展開溶媒ｎ―ヘキサン／酢酸エチ
ル＝８／２）で精製し、1.36ｇのＳ―３―（２―
クロル―４―トリフルオルメチルフエノキシ）フ
エニル―Ｎ，Ｎ―ジメチルチオールカーバメート
を得た。融点64―65℃、収率72％ 元素分析値 C₁₆H₁₃ClF₃NO₂Sとして 計算値 Ｃ，51.13；Ｈ，3.49；Cl，9.43；Ｆ，
15.17；Ｎ，3.73；Ｓ，8.53 実験値 Ｃ，51.31；Ｈ，3.24；Cl，9.48；Ｆ，
14.82；Ｎ，3.86；Ｓ，8.39 IR^KBr _naxcm^-1，1670，1335 NMR（CCl₄，100MHz）δ；2.98（6H，ｓ），
6.84−7.75（7H，ｍ） 実施例 ２ ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフ
エニルチオ）フエニルＮ―イソプロピルカーバ
メート〔化合物番号２〕 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフ
エニルチオ）フエノール１ｇ（3.3×10^-3モル）
を20mlのテトラヒドロフランに溶解し、これにト
リエチルアミン0.1mlを加え、更に窒素気流下室
温でイソプロピルイソシアナート0.84ｇ（9.9×
10^-3モル）を加え、１時間還流したのち溶媒を留
去し、得られた結晶を石油ベンジンで再結晶し１
ｇの３―（２―クロル―４―トリフルオルメチル
フエニルチオ）フエニルＮ―イソプロピルカーバ
メートを得た。融点134.5−137℃ 収率77.5％ 元素分析値 C₁₇H₁₅ClF₃NO₂Sとして 計算値 Ｃ，52.38；Ｈ，3.88；Cl，9.10；Ｆ，
14.62；Ｎ，3.59；Ｓ，8.23 実験値 Ｃ，52.65；Ｈ，4.18；Cl，9.40；Ｆ，
14.41；Ｎ，3.42；Ｓ，8.14 IR^KBr _naxCm^-1；1720，1330 NMR（Acetone―d₆；60MHz）δ；1.21（6H，
ｄ，Ｊ＝7.0Hz） 3.85（IH，Sept.J＝7.0Hz），65−7.85（8H，
ｍ，D₂O添加によつてIH分減少） 実施例 ３ Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―エチレンチ
オールカーバメート〔化合物番号３〕 ３―（２―クロル―４―トリフルオルメチルフ
エノキシ）チオフエノール3.05ｇ（0.01モル）、
トリエチルアミン1.21ｇ（0.012モル）をトルエ
ン10mlに溶解し、氷冷下ホスゲンを導入した。１
時間後過剰のホスゲンを除去した後エチレンイミ
ン1.29ｇ（0.03モル）を氷冷下滴下し、１時間撹
拌した後析出物を別し、液を濃縮乾固し得ら
れた残留物をシリカゲルクロマトグラフイー（展
開溶媒、ｎ―ヘキサン／酢酸エチル＝８／２）で
精製し油状のＳ―３―（２―クロル―４―トリフ
ルオルメチルフエノキシ）フエニル―Ｎ，Ｎ―エ
チレンチオールカーバメート２ｇを得た。収率53
％。 元素分析値 C₁₆H₁₁ClF₃NO₂Sとして 計算値 Ｃ，51.41；Ｈ，2.97；Cl，9.48；Ｆ，
15.25；Ｎ，3.75；Ｓ，8.58 実験値 Ｃ，51.18；Ｈ，3.22；Cl，9.25；Ｆ，
15.02；Ｎ，3.58；Ｓ，8.73 IR^KBr _naxCm^-1；3000，1700，1335 NMR（CCl₄、100MHz）δ；2.29（4H，ｓ），
6.7〜7.8（7H，ｍ） 実施例 ４ Ｓ―３―（２―クロル―４―トリフルオルメチ
ルフエニルチオ）フエニル―Ｎ―イソプロピル
チオールカーバメート〔化合物番号４〕 ジチオレゾルシン2.84ｇ（0.02モル）をジメチ
ルホルムアミド15mlに溶解し、窒素気流下０〜５
℃でイソプロピルイソシアナート1.7ｇ（0.02モ
ル）を加え１時間撹拌した。次いで室温に戻し、
水素化ナトリウム（50％品）0.96ｇ（0.02モル）
を加え、80℃まで加温した後３，４―ジクロルベ
ンゾトリフルオライド4.3ｇ（0.02モル）を滴下
し、２時間100℃で撹拌をつづけた。冷却後反応
液を水に排出し、酢酸エチルで抽出後水洗、乾
燥、濃縮によつて残留物7.8ｇを得た。これをシ
リカゲルクロマトグラフイー（展開溶媒石油ベン
ジン）によつて精製し、3.9ｇのＳ―３―（２―
クロル―４―トリフルオルメチルフエニルチオ）
フエニル―Ｎ―イソプロピルチオールカーバメー
トを得た。融点146〜149℃ 収率48％ 元素分析値 C₁₇H₁₅ClF₃NOS₂として 計算値 Ｃ，50.31；Ｈ，3.73；Cl，8.74；Ｆ，
14.04；Ｎ，3.45；Ｓ，15.80 実験値 Ｃ，50.50；Ｈ，3.65；Cl，8.91；Ｆ，
13.84；Ｎ，3.56；Ｓ，16.10 IR^KBr _naxCm^-1；3290，1670，1330 NMR（acetone―d₆，60MHz）δ；1.18（6H，
ｄ，Ｊ＝70Hz） 4.03（IH，Sep，Ｊ＝7.0）、6.8〜7.9（8H，
ｍ D₂O添加によつて1H分減少） 同様な方法によつて得られた本発明の代表的な
化合物とその物性を下記の第１表に記載する。表
中の略号は以下の通りである。 NMR；プロトン核磁気共鳴吸収スペクトル。 単位はテトラメチルシラン（内部標準）から
のppm ｂ…broad、ｄ…doublet、ｍ…multiplet、
ｑ…quartet、Ｓ…singlet、Sept…septet、ｔ
…triplet IR；赤外線吸収スペクトル、単位Cm^-1、液
体はNaCl板にはさみ液膜とし、固体はKBr錠
剤とした。

【表】

【表】

【表】 本発明化合物の除草剤としての生理作用特性は
次の通りである。(1)イネに対しては直播きをはじ
め、置き苗および移植苗の全ての栽培方式にわた
り著しい高薬量まで無害であり、(2)水田における
強害草ノビエをはじめ、一般広葉雑草およびカヤ
ツリグサ科のホタルイおよびミズガヤツリなど従
来防除至難な雑草にも卓効を示し、(3)水稲の田植
処理、田植直後処理、および移植後10日以上をす
ぎたイネおよび雑草の生育期における処理など適
用期間が長く、(4)アカザメヒシバ、アオビユ、ハ
キダメギク、スズメノテツポウ、およびハルタデ
などの畑雑草に対して土壌処理能力のみならず乾
田植播や陸稲栽培における茎葉（地上部）処理能
力を持つ。(5)生わら施用の還元性土壌中でも効果
が低減し難い。 以上の如く、本発明化合物は乾田直播や陸稲栽
培における茎葉（地上部）処理能力を持ち、ほと
んど全ての雑草に効力を有し、イネ科のうちイネ
属に対しては全く無害という、驚くべきイネ科属
間選択（イネ科のうちイネ属にのみ無害で小麦
属、メヒシバ属、ノビエ属、およびトウモロコシ
属等は枯死あるいは甚害を示すことをいう）を示
す。本発明化合物を処理した場合に示される薬害
症状は、イネ以外のイネ科雑草に対しては成長点
の細胞裂伸長を強度に阻害する。その作用は茎葉
処理、土壌処理を問わず、本発明化合物が幼芽部
または根部から吸収されたのち、太陽光線を受け
作用をあらわすという特徴を有する。 なお本発明薬剤は上述の如く水稲田および畑地
のほか、果樹園、桑園、山林その他農耕地などに
使用でき、その適用範囲は広い。本発明薬剤の使
用方法は一般的には従来の除草剤のそれに準ず
る。すなわち対象植物等により異なるものである
が、一般的には湛水または非湛水の土壌処理また
は全面茎葉処理による方法が適当である。 本発明の除草剤の有効成分である前記一般式
〔〕で示される化合物の施用濃度（施用薬量）
は対象植物により異なるが、一般的には３ｇ〜50
ｇ／アールの範囲で使用すればよい。 本発明の除草剤を使用する際は、使用場面に応
じて各種の担体と混合し、例えば粉剤、粒剤、錠
剤、水和剤、乳剤等として使用することができ
る。ここにいう担体とは固体、液体の何れでもよ
く、それらの組合せでもよい。その例を列記すれ
ば、カオリナイト、ベントナイト、パイロフイラ
イト、タルク、けいそう土、シリカゲル、炭酸カ
ルシウム、消石灰などの鉱物性粉末、でん粉、ア
ラビアゴムなどの植物性粉末、アルコール類、ケ
トン類、ケロシン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、シクロヘキサン、メチルナフタレン、ジオキ
サン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
サイド、トウモロコシ油、ｏ―ジクロルベンゼ
ン、イソホロン等の有機溶剤などであり、さらに
農薬の製剤上使用される補助剤、例えば湿潤剤、
分散剤、固着剤、展着剤などを必要に応じて適宜
使用してもよい。 いずれの製剤もそのまま単独で使用できるのみ
ならず、殺菌剤、殺線虫剤、殺虫剤または植物生
長調整剤などと混合してもよく、また他の除草剤
と混合してもよく、さらには肥料と混合して使用
してもよい。 次に実施例によつて本発明除草剤の代表的製剤
例を示す。 化合物は実施例１〜４および第１表の化合物番
号によつて表わす。「部」は「重量部」をもつて
示す。 実施例 ５ 化合物番号１ 20部 タルク 80部 これらをボールミルでよく粉砕混合して粉剤と
した。 実施例 ６ 化合物番号12 ７部 ベントナイト 88部 リグニンスルホン酸ナトリウム ５部 これらに少量の水を加え造粒して粒剤とした。 実施例 ７ 化合物番号17 50部 ベントナイト 45部 ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル ５部 これらを混合粉砕して、50％水和剤とした。 次に本発明化合物の効果を試験例により説明す
る。 下記各試験例における表中の数値は作物薬害お
よび雑草害の程度を示すもので、具体的には下記
の通りである。

【表】 試験例１ （湛水土壌能力検定試験） 1/10000アールポツトに水田土壌を充填し、ノ
ビエ、キカシダサ、ミゾハコベ、ホタルイを播種
し、深さ３cmに湛水する。雑草発芽時、下記有効
成分の所定濃度をピペツトで滴下する。薬剤散布
後、20日目に雑草防除力の程度を観察した。結果
を第２表に示す。化合物は実施例１〜４および第
１表の化合物番号で示す。（以下同様）

【表】

【表】 ※１ 有効成分；Ｓ−（４−クロルベン
ジル）−Ｎ，Ｎ−ジエチルカーバ
メート
試験例 ２ 供試植物として下記植物を用い次のような方法
で試験をした。1/10000アールポツトに水田土壌
を充填する。イネは種子を直播する（表中略記
「直播」）か、２葉期のイネ苗を土壌表層２〜４cm
の深さに移植する（移植）か、または移植せず土
壌表層に根を固定させる（苗播）三つの様式を用
いた。また１年生広葉雑草ミゾハコベ、アゼナお
よびコナギは土壌表層１cmに混入する方法を用い
た。 さらにミズガヤツリおよびマツバイは移植する
方法を用いた。上記播種または移植後ポツトを３
cmに湛水する。雑草発芽時所定濃度の有効成分を
ピペツトで滴下する。薬剤散布後20日目にイネの
薬害と雑草防除力の程度を観察した。 結果を第３表に示す。

【表】 ※１…第２表参照
試験例 ３ 試験例２と同じ供試植物を準備し、ノビエの
2.5葉期、すなわち田植後15日目に所定濃度の薬
剤を施用した。施用後20日にイネの薬害と雑草防
除力の程度を観察した。結果を第４表に示す。

【表】 ※１…第２表参照

試験例 ４ 試験例２と同じ供試雑草を用い、雑草は播種ま
たは移植し、湛水したのち直ちに所定濃度の有効
成分を施用した。３日後に土壌表層２cmの深さに
イネ苗を移植した。薬剤処理後20日目にイネの薬
害と雑草防除力の程度を観察した。 結果を第５表に示す。

【表】 ル）−１，３，４−オキサジアゾリン−２−オ
ン
試験例５ （畑地土壌処理試験） 供試作物としてイネ、コムギ、ダイコンおよび
ダイズを、雑草植物としてメヒシバ、アオビユ、
ハキダメギクおよびハルタデの各種子を含む畑地
土壌を素焼ばちに充填し、下記化合物を下記濃度
で処理した後、処理後30日目に供試作物の薬害状
況および雑草防除力を観察した。 結果を第６表に示す。

【表】 ※３ 有効成分；２−クロル−４，６−ビス
（エチルアミノ）−１，３，５−ト
リアジン
試験例６ （茎葉接触毒力試験） 1/10000アールポツトに畑地土壌を充填し、下
記供試植物の種子を播種し、１cmの覆土をする。
これらの種子発芽後、ダイコンでは本葉１〜２葉
期、またコムギでは本葉２〜３葉期に所定濃度の
有効成分水和剤希釈液１mlを全面に噴霧処理し
た。処理後、15日目に供試植物の薬害の程度を観
察した。 結果を第７表に示す。

【表】 ※４ 有効成分；３，４−ジクロルプロ
ピオンアニリド
試験例 ７ 試験例６と同様な方法で下記植物を用い、茎葉
接触毒力試験を行つた。薬剤処理後、15日目に供
試植物の薬害の程度を観察した。 結果を第８表に示す。

【表】 ※４・・・第７表参照

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。R₁，R₂は水素原子または低級
   アルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合
   する窒素原子とともにアルキレン基または異項原
   子を含むアルキレン基によつて環を形成すること
   も可能である。） で表わされるアリルカルバミン酸エステル誘導
   体。 ２ 一般式 （式中、Ｘ，Ｙは酸素原子または硫黄原子を示
   す。） で表わされる化合物と一般式 R₁−Ｎ＝Ｃ＝Ｚ （式中、R₁は低級アルキル基を示し、Ｚは酸
   素原子または硫黄原子を示す。） で表わされるイソシアン酸エステル誘導体とを反
   応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。R₁は低級アルキル基を示す。） で表わされるアリルカルバミン酸エステル誘導体
   の製造方法。 ３ 一般式 （式中、Ｘ，Ｙは酸素原子または硫黄原子を示
   し、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子を示
   す。） で表わされる化合物と一般式 （式中、R₁，R₂は水素原子または低級アルキ
   ル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合する窒
   素原子とともにアルキレン基または異項原子を含
   むアルキレン基によつて環を形成することも可能
   である。Ｚは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｇ
   はハロゲン原子を示す。） で表わされる化合物とを反応させることを特徴と
   する一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。R₁，R₂は水素原子または低級
   アルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合
   する窒素原子とともにアルキレン基または異項原
   子を含むアルキレン基によつて環を形成すること
   も可能である。） で表わされるアリルカルバミン酸エステル誘導体
   の製造方法。 ４ 一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。Ｑはハロゲン原子または
   【式】を示す。） で表わされる化合物と一般式 （式中、R₁，R₂は水素原子または低級アルキ
   ル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合する窒
   素原子とともにアルキレン基または異項原子を含
   むアルキレン基によつて環を形成することも可能
   である。） で表わされるアミン化合物を反応させることを特
   徴とする一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。R₁，R₂は水素原子または低級
   アルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合
   する窒素原子とともにアルキレン基または異項原
   子を含むアルキレン基によつて環を形成すること
   も可能である。） で表わされるアリルカルバミン酸エステル誘導体
   の製造方法。 ５ 一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。Ｍは水素原子またはアルカリ金
   属原子を示す。R₁，R₂は水素原子または低級ア
   ルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合す
   る窒素原子とともにアルキレン基または異項原子
   を含むアルキレン基によつて環を形成することも
   可能である。） で表わされる化合物と３，４―ジクロルベンゾト
   リフルオライドとを反応させることを特徴とする
   一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。R₁，R₂は水素原子または低級
   アルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合
   する窒素原子とともにアルキレン基または異項原
   子を含むアルキレン基によつて環を形成すること
   も可能である。） で表わされるアリルカルバミン酸エステル誘導体
   の製造方法。 ６ 一般式 （式中、Ｘ，Ｙ，Ｚは酸素原子または硫黄原子
   を示す。ただし、Ｘ，Ｙ，Ｚが同時に酸素原子で
   ある場合を除く。R₁，R₂は水素原子または低級
   アルキル基を示す。またR₁とR₂はそれらが結合
   する窒素原子とともにアルキレン基または異項原
   子を含むアルキレン基によつて環を形成すること
   も可能である。） で表わされるアリルカルバミン酸エステル誘導体
   を有効成分として含有することを特徴とする除草
   剤。