JPS63114221A - ガラス基板上の半導体素子の取外し方法および装置 - Google Patents

ガラス基板上の半導体素子の取外し方法および装置

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JPS63114221A
JPS63114221A JP61259931A JP25993186A JPS63114221A JP S63114221 A JPS63114221 A JP S63114221A JP 61259931 A JP61259931 A JP 61259931A JP 25993186 A JP25993186 A JP 25993186A JP S63114221 A JPS63114221 A JP S63114221A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
solder
semiconductor element
ici
pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP61259931A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Adachi
安立 英明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments and Electronics Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments and Electronics Ltd filed Critical Seiko Instruments and Electronics Ltd
Priority to JP61259931A priority Critical patent/JPS63114221A/ja
Publication of JPS63114221A publication Critical patent/JPS63114221A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071—Connecting or disconnecting
    • H10W72/072—Connecting or disconnecting of bump connectors
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/721—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
    • H10W90/724—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、液晶表示板、プラズマディスプレー等、透
明ガラス基板上に、半導体素子をフェースダウンで多数
実装する際、不良半導体の取外し方法に関する。
〔発明の概要〕
液晶表示板に半導体素子(以下rcと略す)を多数個実
装する際、接続不良や故障等が製造中で生ずる事がある
。このような場合には、不具合のICを取外し、良品の
ICと取替えなくてはならない。不具合のICを取外し
た時、ガラス基板上に残存するはんだの量が一定でない
と、良品のICを取替えた際、接合不良を起こす。本発
明は、不具合のICを取外した際、残存するはんだの量
を一定にする為、ガラス基板を冷却し、不具合のICを
、放電アーク光による光ビームで加熱する事により、I
Cのフェース面のはんだがン容融すると同時に、IC背
面に付加された引離し力でICがガラス基板から取外さ
れる。
〔従来の技術〕
従来は、ガラス基板5を予熱板12で予熱し、IC1の
背面に真空吸引具11を付加し、ICIを常に冷却しな
がら引離す力を付加して、赤外線ランプ13でガラス基
板5の裏面を加熱し、はんだ2aを溶融させ、ICIを
取外していた。
〔発明が解決しようとする間S点〕
従来の方法では、溶融がはんだ28部で発生し、ガラス
基板5のパターン8上にはんだ2aが少量残存する。新
しい良品の[C1を前記はんだ2a上に位置合せし、加
熱によりはんだ2aと新しいはんだ2を接合せしめる。
液晶表示板等に用いられるガラス基板5上に設置するパ
ターン8は一般に数μm以下と薄いので、ICIの取外
し、再接合時にはんだ2aの拡散が進行し、パターン8
が劣化する不具合を生ずる。また、予熱板12でガラス
基板5全体を予熱し、取外すべきIC1部分のガラス基
板5を局部的に加熱するため、液晶表示板では液晶の劣
化やガラス基板5が割れるという不具合もあった。
c問題点を解決するための手段〕 本発明は前記問題点を解決するため、不具合のICIを
取外す際、はんだ2b部を溶融させ、IC1を取外すよ
うにするため、ICIの背面に磁性材料3を固着し、外
部から磁力を与え、ICIを常にガラス基板5から引離
す方向に力を加えた状態で、ガラス基板5の裏面を冷却
エアー14で冷却しながら、放電アーク光6の光ビーム
をガラス基板5を透過させて照射し、ICIのフェース
面をはんだ2の融点以上に加熱し、はんだ2b部が溶融
した時、ICIを取外す事ができるようにした。
〔作用〕
上記のように構成したため、ガラス基板5及びパターン
8が加熱されず、ICIのみ加熱されるため、TCIの
はんだ2bから)8融、引離されるため取外し、再取付
によるパターン8の劣化がなくなり、ガラス基板5を加
熱する事がないので液晶の劣化やガラス基板5が割れる
という不具合がなくなる。また、パターン8に残存する
はんだは、はんだ量、はんだ貰さとも揃うので、新しい
ICを再取付ける際に不具合を生ずる事がない。
〔実施例〕
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第
1図は本発明のガラス基板上の半導体素子の取外し方法
を示す断面略図で、第2図は従来の半導体素子の取外し
方法を示す断面略図である。
取外すべきICIは、はんだ2によりガラス基板5のパ
ターン8と接合している。前記■C1の背面に接着剤9
が付いた磁性材料3を貼付ける。
これは、磁性材料3の粉体を接着剤9に分散された磁性
塗料をICIの背面に塗布しても良い、基板受台10に
永久磁石4もしくは電磁石をセットし、常に磁界を与え
ておき、基板受台10上に、磁性材料3を付けたICi
を永久磁石4と対向させて、ガラス基板5をセントする
。放電アーク光6の焦点を前記ICIのフェース面に合
せ、ガラス基板5のパターン8の裏側から冷却エアー1
4を当て、ガラス基板5を冷却しながら、放電アーク光
6のシャッター15を開くと、放電アーク光6はシャッ
ター15の下の遮光マスク7′′によりICIのフェー
ス面に照射され、照射された放電アーク光6は、ガラス
基板5が透明であるため3yi3?rし、ICIのフェ
ース面に吸収、加熱され、ICIの温度が上昇する。こ
の時、ICIをガラス基板5から引離す力を磁力により
行なうので、ICIを冷却する事がないので、ICIの
温度上昇が速い。はんだ2a部はガラス基板5で冷却さ
れ、はんだ2b部はTClで加熱される。ICIの温度
が上昇し、はんだの融点に達すると、TCIはばんだ2
b部から硼力により引離され、ICIがガラス基板5か
ら取外される。尚、加熱源として放電アーク光6のほか
に、赤外線ランプ13も使用する事ができるが、赤外線
ランプ13の場合は、放電アーク光6よりガラス基板5
の熱吸収が高く、ガラ子基板5が加熱されるので、透明
ガラス基板5を使用する液晶パネル等では放電アーク光
6の方が、ガラス基板5を加熱しないので良い。
〔発明の効果〕
この発明は以上説明したように、ガラス基板5を加熱す
る事なく、IcIのみ加熱し、TCIを取外すので、ガ
ラス基数5上に設置したパターン8を劣化させる事なく
 ICIを取外す事ができ、ガラス割れを発生させない
。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のガラス基板上の半導体素子の取外し
装置の断面を示す略図で、第2図は、従来装置の取外し
方法の断面を示す略図である。 1 ・ ・ ・ I C 2・・・はんだ 3・・・磁性材料 4・・・永久磁石 5・・・ガラス基(反 6・・・放電アーク光 7・・・遮光マスク 8・・・パターン 9・・・接着剤 10・・・基板受台 11・・・真空吸引具 12・・・予熱板 13・・・赤外線ランプ 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 77″ウス胴丸Eの牛譚r木禾子の取′1タトし装置の
許面図第1図 従来に直ハ陪面図 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガラス基板の表側に、はんだが接合する金属パタ
    ーンを設置し、当該金属パターン上に半導体素子をはん
    だによって接合せしめた後、このガラス基板から当該半
    導体素子を取外す方法において、取外すべき半導体素子
    を、常にガラス基板から引離す方向に力を付加した状態
    で、前記半導体素子部分に位置するガラス基板の裏側を
    冷却しながら、光エネルギーを当該半導体素子の取付位
    置に対応するガラス基板の裏側から照射し、ガラス基板
    を透過した光エネルギーが、半導体素子の能動面をはん
    だの溶融温度以上に加熱し、はんだが溶けると同時に、
    ガラス基板から当該半導体素子を取外す事を特徴とした
    ガラス基板上の半導体素子の取外し方法。
  2. (2)半導体素子をはんだによってガラス基板の表側に
    接合せしめた後、このガラス基板から当該半導体素子を
    取外す装置において、取外すべき半導体素子をガラス基
    板から引離す方向の引っ張りを付加する引き剥がし装置
    と、ガラス基板を冷却する装置と、ガラス基板の裏から
    光エネルギーを照射し、ガラス基板の表側に接合された
    半導体素子の能動面をはんだの溶融温度以上に加熱する
    装置とから構成されている事を特徴とする半導体素子の
    取外し装置。
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