JPS6312157A - 耐熱プラスチツク半導体装置 - Google Patents
耐熱プラスチツク半導体装置Info
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- JPS6312157A JPS6312157A JP62067935A JP6793587A JPS6312157A JP S6312157 A JPS6312157 A JP S6312157A JP 62067935 A JP62067935 A JP 62067935A JP 6793587 A JP6793587 A JP 6793587A JP S6312157 A JPS6312157 A JP S6312157A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は耐熱プラスチック半導体装置に係シ、特に耐熱
性、耐湿性の高密度実装用フラットパッケージを使用し
た耐熱プラスチック半導体装置に関する。
性、耐湿性の高密度実装用フラットパッケージを使用し
た耐熱プラスチック半導体装置に関する。
電子機器の多機能化、情報処理の高速化・大容量化に伴
い、LSI等の半導体装置としては高密度、面実装、自
動化等の基板実装の点で有利なプラスチックフラットパ
ッケージ(FPP)を使用した、所謂7ラン)ICが大
量に導入されている。
い、LSI等の半導体装置としては高密度、面実装、自
動化等の基板実装の点で有利なプラスチックフラットパ
ッケージ(FPP)を使用した、所謂7ラン)ICが大
量に導入されている。
第3図は、このフラジ)ICt−示したものであシ、そ
のB−B線階段断面図は第4図のようになっている。第
4図(a)はソヤンクションコーティングレソン(JC
R)を使用しない場合であり、同図(b)はJCBを使
用した場合を示している。この第3図及び第4図(a)
において、まずアイランドサポートによって支えられた
アイランド22にICチップ23をダイスボンドし、次
いで外部導出リード21とICテップ23間にAu
ワイヤ24をワイヤボンドし、それをモールド樹脂25
によって封止した構造になっている。なお第4図(b)
では耐湿性向上の為に、上記Au ワイヤ24をワイ
ヤデンドした後、ICチップ23表面にJCR26’を
塗布している。
のB−B線階段断面図は第4図のようになっている。第
4図(a)はソヤンクションコーティングレソン(JC
R)を使用しない場合であり、同図(b)はJCBを使
用した場合を示している。この第3図及び第4図(a)
において、まずアイランドサポートによって支えられた
アイランド22にICチップ23をダイスボンドし、次
いで外部導出リード21とICテップ23間にAu
ワイヤ24をワイヤボンドし、それをモールド樹脂25
によって封止した構造になっている。なお第4図(b)
では耐湿性向上の為に、上記Au ワイヤ24をワイ
ヤデンドした後、ICチップ23表面にJCR26’を
塗布している。
そして、上記のような構造を有するフラン)IC29を
プリント基板27に実装する場合は、従来は第5図に示
すように、端子部のみ半田ごて30で力ロ熱して半田付
けする部分加熱接合法が採られていた。またこの外、量
産向きにする場合には、最近では・ぞツケーソ全体を加
熱する方法が多用されている。具体的には、第6図(a
)に示す如く、プリント基板27に半田ペースト28を
塗布しておき、プリント基板27にフラットIC29を
載せ、温風または近・遠赤外線等を当てて加熱するよう
にしている。また同図(b)に示す場合は、プリント基
板27上に接着剤31を塗布しておき、この接着剤31
上にフラン)IC29を載せてプリント基板27に接着
し、この後半田槽に浸漬するというような方法である。
プリント基板27に実装する場合は、従来は第5図に示
すように、端子部のみ半田ごて30で力ロ熱して半田付
けする部分加熱接合法が採られていた。またこの外、量
産向きにする場合には、最近では・ぞツケーソ全体を加
熱する方法が多用されている。具体的には、第6図(a
)に示す如く、プリント基板27に半田ペースト28を
塗布しておき、プリント基板27にフラットIC29を
載せ、温風または近・遠赤外線等を当てて加熱するよう
にしている。また同図(b)に示す場合は、プリント基
板27上に接着剤31を塗布しておき、この接着剤31
上にフラン)IC29を載せてプリント基板27に接着
し、この後半田槽に浸漬するというような方法である。
しかしながら、上述したようなパンケーソ全体力n熱方
式を用いて半田付けを行うと、23℃、60%RHの雰
囲気中で1週間程度以上の放置によってノッケーソ円に
侵入した水分が200°C’r超える温度に曝れ、水蒸
気化して内部より・々ツケーソ外側へ多大な応力を発生
させることとなる。また、この際モールド樹脂の強度は
減少し、はぼ0Ki10+i近くまで、例えば0 、
I Kf/i 程度と小さくなっている。この為、I
Cチップ周辺が密閉されておシ蒸気が外部へ放出され難
いことと相まって、特にモールド肉厚が薄いフラン)I
Cではモールド部が風船のようにふくれ、やがて第7図
(a)(外観不良を示すフラットIC29の断面図)、
同図(b)(同図(a)の平面図)及び同図(C)(同
図(a)の底面図)に示すように、モールド樹脂25の
表面及び裏面にイ、口で図示する如き亀裂が生じ、外観
を大きく損ねてしまう。
式を用いて半田付けを行うと、23℃、60%RHの雰
囲気中で1週間程度以上の放置によってノッケーソ円に
侵入した水分が200°C’r超える温度に曝れ、水蒸
気化して内部より・々ツケーソ外側へ多大な応力を発生
させることとなる。また、この際モールド樹脂の強度は
減少し、はぼ0Ki10+i近くまで、例えば0 、
I Kf/i 程度と小さくなっている。この為、I
Cチップ周辺が密閉されておシ蒸気が外部へ放出され難
いことと相まって、特にモールド肉厚が薄いフラン)I
Cではモールド部が風船のようにふくれ、やがて第7図
(a)(外観不良を示すフラットIC29の断面図)、
同図(b)(同図(a)の平面図)及び同図(C)(同
図(a)の底面図)に示すように、モールド樹脂25の
表面及び裏面にイ、口で図示する如き亀裂が生じ、外観
を大きく損ねてしまう。
このような状態でフラン)IC29を使用すると第1に
亀裂部分のAu線が断線するという問題があり、第2に
亀裂発生部から容易に水分が入シ、ICチップ231F
3へと侵入し表面のAe配線が腐食され、やがて断線に
至りICとしての機能を果さなくなるという問題があっ
た。
亀裂部分のAu線が断線するという問題があり、第2に
亀裂発生部から容易に水分が入シ、ICチップ231F
3へと侵入し表面のAe配線が腐食され、やがて断線に
至りICとしての機能を果さなくなるという問題があっ
た。
従って、本発明は上述した問題を解消し、ガス化した水
分を脱気し易く、耐熱性、耐湿性に優れた耐熱プラスチ
ック半導体装置を提供することを目的とする。
分を脱気し易く、耐熱性、耐湿性に優れた耐熱プラスチ
ック半導体装置を提供することを目的とする。
本発明に係る耐熱プラスチック半導体装置は、ICチッ
プの搭載されるアイランドの裏側に封止樹脂と密着性の
悪い低密着性被膜を形成すると共に、ノZツケーソ央面
の上記低密着性被膜の形成領域上にベント孔を設けるよ
う構成したものである。
プの搭載されるアイランドの裏側に封止樹脂と密着性の
悪い低密着性被膜を形成すると共に、ノZツケーソ央面
の上記低密着性被膜の形成領域上にベント孔を設けるよ
う構成したものである。
本発明は以上のように構成したので、・ぐツケージのモ
ールド樹脂と低密着性被膜との界面の@層性は低下して
おり、パソケーソ全体加熱方式等による半田付は処理の
際には、モールド樹脂内に吸湿されている水分は蒸気化
して上記界面及びベント孔を通して容易にパンケーソ外
部へと放出される。従って・ぞツケーソ円水蒸気圧に起
因する内部応力は十分低減されるので、パンケーソの亀
裂発生を回避できる。
ールド樹脂と低密着性被膜との界面の@層性は低下して
おり、パソケーソ全体加熱方式等による半田付は処理の
際には、モールド樹脂内に吸湿されている水分は蒸気化
して上記界面及びベント孔を通して容易にパンケーソ外
部へと放出される。従って・ぞツケーソ円水蒸気圧に起
因する内部応力は十分低減されるので、パンケーソの亀
裂発生を回避できる。
以下、第1図及び第2図に基き本発明の一実施例を詳細
に説明する。第1図(a)は要部の底面図、同図(b)
はそのA−A線断面図である。同図において、11.1
2は夫々リードフレーム(42Alloyのリードフレ
ーム)を構成する外部導出リード及びアイランドである
。13はこのアイランド12にダイスボンドされたIC
チップ、また14はAu線から成る金属細線であり上記
ICチップ13表面の電極と外部導出リード11内方端
とをワイヤボンドにより配線接続さnる。llaはアイ
ランドサポートである。
に説明する。第1図(a)は要部の底面図、同図(b)
はそのA−A線断面図である。同図において、11.1
2は夫々リードフレーム(42Alloyのリードフレ
ーム)を構成する外部導出リード及びアイランドである
。13はこのアイランド12にダイスボンドされたIC
チップ、また14はAu線から成る金属細線であり上記
ICチップ13表面の電極と外部導出リード11内方端
とをワイヤボンドにより配線接続さnる。llaはアイ
ランドサポートである。
また17はAuメッキ層から成る低密着性被膜で、上記
アイランド12の裏側、即ちICテップ13の搭載され
る側と反対側にメッキされている。この低密着性被膜1
7はAuメッキ層の場合、その表面が不働態である為、
エポキシ樹脂から成るモールド樹脂15とは@層性が低
くなっている。
アイランド12の裏側、即ちICテップ13の搭載され
る側と反対側にメッキされている。この低密着性被膜1
7はAuメッキ層の場合、その表面が不働態である為、
エポキシ樹脂から成るモールド樹脂15とは@層性が低
くなっている。
そして18はベント孔でhF)、パツケーソ裏側から上
記低密着性被膜17に至るように形成さnている。この
ベント孔18は、文献の沖電気研究開発128 VoJ
、52A4分冊P、73〜P、78に記載される如き構
造を有するもので、例えば成形型によシ円形に形成され
る。
記低密着性被膜17に至るように形成さnている。この
ベント孔18は、文献の沖電気研究開発128 VoJ
、52A4分冊P、73〜P、78に記載される如き構
造を有するもので、例えば成形型によシ円形に形成され
る。
このようにパンクーノ裏側に低密着性被膜17及びベン
ト孔18を設けることにより、200℃を超える半田付
は処理の際には、水蒸気は・臂ツケーソ円に固定される
ことなく外部へと放出されるので、加熱後の変形?]−
最小限に抑えることができる。一方上記ベント孔18、
及び低密着性被膜17とモールド樹脂15との界面より
侵入し易くなる水分に対する防御と熱履歴によシリコン
樹脂15がICテンプ13に与えるストレスを緩和する
目的で、ICチップ13茨而にはこれと@層性の高いシ
リコン樹脂から成るチップコート16が塗布されている
。
ト孔18を設けることにより、200℃を超える半田付
は処理の際には、水蒸気は・臂ツケーソ円に固定される
ことなく外部へと放出されるので、加熱後の変形?]−
最小限に抑えることができる。一方上記ベント孔18、
及び低密着性被膜17とモールド樹脂15との界面より
侵入し易くなる水分に対する防御と熱履歴によシリコン
樹脂15がICテンプ13に与えるストレスを緩和する
目的で、ICチップ13茨而にはこれと@層性の高いシ
リコン樹脂から成るチップコート16が塗布されている
。
ここにおいて上記低密着性被膜17とベント孔18との
間には、例えば第2図(a)に示す如き薄いフラッシュ
15aが介在していても良い。同図においてrはベント
孔半径、hはモールド樹脂15の低密着性被膜下肉厚を
、またtはフラッシュ厚さを示している。そしてこの場
合、半田付は処理の際にフラッシュ15aが優先的に破
壊する為の最大許容フラッシュ厚さは、ベント孔半径r
を7ぐラメータとして同図(b)のように示される。即
ち各ベント孔半径rVCおいて、矢印に示すように各直
線の下の領域であればフラッシュ15aが優先してわれ
る為、パンケーソの亀裂発生は回避される。
間には、例えば第2図(a)に示す如き薄いフラッシュ
15aが介在していても良い。同図においてrはベント
孔半径、hはモールド樹脂15の低密着性被膜下肉厚を
、またtはフラッシュ厚さを示している。そしてこの場
合、半田付は処理の際にフラッシュ15aが優先的に破
壊する為の最大許容フラッシュ厚さは、ベント孔半径r
を7ぐラメータとして同図(b)のように示される。即
ち各ベント孔半径rVCおいて、矢印に示すように各直
線の下の領域であればフラッシュ15aが優先してわれ
る為、パンケーソの亀裂発生は回避される。
ベント孔直径2rをφ1.OBに設定すると、フラッシ
ュ15aの厚みが帆1聡ある場合、封止材によってはフ
クレ・クラックが発生するが、低密着性被膜下肉厚りを
o、ssmaaとすることにより皆無となシ、封止材料
の選択範囲が広げられる。
ュ15aの厚みが帆1聡ある場合、封止材によってはフ
クレ・クラックが発生するが、低密着性被膜下肉厚りを
o、ssmaaとすることにより皆無となシ、封止材料
の選択範囲が広げられる。
以上のような構成の基に、フラット/ぐツケーソを用い
た耐熱プラスチック半導体装置が形成される。なお、上
記実施例では低密着性被膜17にAuメッキ層を用いて
いるが、この外、六面に同様の不働態もしくは不働態酸
化膜が形成されるNl + Cr+CO等のメッキ層を
用いても良く、更にモールド樹脂(エポキシ樹脂)と低
密着性を有するフッ素樹脂(商標名;テフロン)、シリ
コン樹脂等を用いることもできる。
た耐熱プラスチック半導体装置が形成される。なお、上
記実施例では低密着性被膜17にAuメッキ層を用いて
いるが、この外、六面に同様の不働態もしくは不働態酸
化膜が形成されるNl + Cr+CO等のメッキ層を
用いても良く、更にモールド樹脂(エポキシ樹脂)と低
密着性を有するフッ素樹脂(商標名;テフロン)、シリ
コン樹脂等を用いることもできる。
また、この低密着性被膜17の形成範囲はアイランド1
2のKm全体及びベント孔18に対応する一部の領域の
外、蒸気化する水分の外部放出をより容易とする為にア
イランドサポートllaの全面または一部に広げるよう
にしても良い。更に、低密着性被膜17は42A11o
yのリードフレームに形成しているが、Cu1J−ドフ
レームに形成することも勿論可能である。
2のKm全体及びベント孔18に対応する一部の領域の
外、蒸気化する水分の外部放出をより容易とする為にア
イランドサポートllaの全面または一部に広げるよう
にしても良い。更に、低密着性被膜17は42A11o
yのリードフレームに形成しているが、Cu1J−ドフ
レームに形成することも勿論可能である。
また上記ベント孔18は円形の外、多角形の形状でも良
く小孔であればその形状は特に限定されるものではない
。また更に、チップコート16としては上述したシリコ
ン樹脂の外、ポリイミド系樹月旨を用いることもできる
。
く小孔であればその形状は特に限定されるものではない
。また更に、チップコート16としては上述したシリコ
ン樹脂の外、ポリイミド系樹月旨を用いることもできる
。
以上フラットパッケージについて述べ九が、本発明は樹
脂封止パンケージ等のDIP構造にも広く適用すること
ができる。
脂封止パンケージ等のDIP構造にも広く適用すること
ができる。
ここにおいて、本発明の耐熱プラスチック半導体装置の
耐熱試験結果t−表1に示す。なお、評価用試料として
は、フラッシュ厚さt=0.0.1、ベント孔半径r=
lWφの44PINフラツトノぞツケージ金用い、吸湿
条件を85℃、85係RH。
耐熱試験結果t−表1に示す。なお、評価用試料として
は、フラッシュ厚さt=0.0.1、ベント孔半径r=
lWφの44PINフラツトノぞツケージ金用い、吸湿
条件を85℃、85係RH。
72)f、また加熱条件を・ぞツケーソ巽面温度245
℃の赤外線リフロー炉中での加熱処理としている。
℃の赤外線リフロー炉中での加熱処理としている。
表 1
このように不発明の装置では、極めて良好な試験結果が
得られる。
得られる。
また、上述一実施例のようにICテップ衣面に少なくと
も不純物イオンの透過を抑制するテップコート乞施せは
上述した亀裂発生の回避と相まって、外部からの少なく
とも不純物イオンのチップ氏面への到達が抑制される為
、耐湿性を著しく同上させることができるという効果も
ある。我2は、本発明の耐熱プラスチック半導体装置の
耐湿試験結果を示す。試験条件は121℃、100%R
H放置である。
も不純物イオンの透過を抑制するテップコート乞施せは
上述した亀裂発生の回避と相まって、外部からの少なく
とも不純物イオンのチップ氏面への到達が抑制される為
、耐湿性を著しく同上させることができるという効果も
ある。我2は、本発明の耐熱プラスチック半導体装置の
耐湿試験結果を示す。試験条件は121℃、100%R
H放置である。
ナオ、評価用試料としては、フラッシュ厚さt= 0.
1 ml、ベント孔半径r=1mφの44PINフラツ
ト・9ツケーソを用い、吸湿条件を85°C285%R
H,72H%またカロ熱条件をパンケーソ表面温度24
5℃の赤外線リフロー炉内での加熱処理としている。チ
ップコートなしで発生している不良はポンディングパッ
ド部のM腐蝕によるコンタクト不良である。チップコー
トを施すことによ?)耐湿性が向上していることが分る
。
1 ml、ベント孔半径r=1mφの44PINフラツ
ト・9ツケーソを用い、吸湿条件を85°C285%R
H,72H%またカロ熱条件をパンケーソ表面温度24
5℃の赤外線リフロー炉内での加熱処理としている。チ
ップコートなしで発生している不良はポンディングパッ
ド部のM腐蝕によるコンタクト不良である。チップコー
トを施すことによ?)耐湿性が向上していることが分る
。
表 2
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したように、不発明によれば、アイラン
ド裏面の少なくとも一部分に低密着性被膜を形成すると
共にその形成領域と対応するパッケージの裏面位置にベ
ント孔を設けるよう構成したので、半田付は等の熱処理
の際にはガス化した吸湿水分は低密着性被膜とモールド
樹脂との界面、及びベント孔を通して外部へと放出され
る。従って水蒸気圧に起因する内部応力は低減され、パ
ッケージの亀裂発生を回避できるので、耐熱性、耐湿性
を同上できるという効果があり、高信頼性の耐熱プラス
チック半導体装置を実現できるから、極めて高い工業的
利用価値を有する。
ド裏面の少なくとも一部分に低密着性被膜を形成すると
共にその形成領域と対応するパッケージの裏面位置にベ
ント孔を設けるよう構成したので、半田付は等の熱処理
の際にはガス化した吸湿水分は低密着性被膜とモールド
樹脂との界面、及びベント孔を通して外部へと放出され
る。従って水蒸気圧に起因する内部応力は低減され、パ
ッケージの亀裂発生を回避できるので、耐熱性、耐湿性
を同上できるという効果があり、高信頼性の耐熱プラス
チック半導体装置を実現できるから、極めて高い工業的
利用価値を有する。
第1図(a)は本発明の詳細な説明する底面図、同図(
b)は同図(a)のA−A線断面図、第2図(a)はペ
ント部の7ラツシユを説明する要部断面図、同図(b)
は同フラッシュの最大許各厚さを説明する特性図、第3
図は従来例を説明する要部平面図、第4図は第3図のB
−B線階段断面図、第5図はフラノ)ICの部分加熱接
合法を説明する概略図、第6図は同フラットICの・セ
ッケーソ全体加熱方式を説明する概略図、第7図は従来
例の欠点を説明する概略図である。 11・・・外部itリード、11a・・・アイランドサ
ポート、12・・・アイランド、13・・・ICチップ
、14・・・金属MP線、15・・・モールド樹脂、1
5B・・・フラッシュ、16・・・チップコート、17
・・・低密着性被膜、18・・・ベント孔。 第2図 21:91−筈戸導出リード 第4図 第5図 フラゾ1−ICのハ1ソケージ全イ本力DF&で衣の2
完結図第6図 21外141出リート 第7図
b)は同図(a)のA−A線断面図、第2図(a)はペ
ント部の7ラツシユを説明する要部断面図、同図(b)
は同フラッシュの最大許各厚さを説明する特性図、第3
図は従来例を説明する要部平面図、第4図は第3図のB
−B線階段断面図、第5図はフラノ)ICの部分加熱接
合法を説明する概略図、第6図は同フラットICの・セ
ッケーソ全体加熱方式を説明する概略図、第7図は従来
例の欠点を説明する概略図である。 11・・・外部itリード、11a・・・アイランドサ
ポート、12・・・アイランド、13・・・ICチップ
、14・・・金属MP線、15・・・モールド樹脂、1
5B・・・フラッシュ、16・・・チップコート、17
・・・低密着性被膜、18・・・ベント孔。 第2図 21:91−筈戸導出リード 第4図 第5図 フラゾ1−ICのハ1ソケージ全イ本力DF&で衣の2
完結図第6図 21外141出リート 第7図
Claims (1)
- (1)ICチップ表面の電極とリードフレームの外部導
出リード内方端とを金属細線で配線接続し、その配線部
、ICチップ及び上記外部導出リードの一部をモールド
樹脂により一体化して封止した耐熱プラスチツク半導体
装置において、上記ICチップの搭載されたアイランド
の裏面の少なくとも一部分にモールド樹脂と密着性の悪
い低密着性被膜を形成すると共に、上記低密着性被膜形
成領域に対応する上記モールド樹脂の裏側位置にて、そ
の厚さ方向に入るようにベント孔を設けて構成されたこ
とを特徴とする耐熱プラスチック半導体装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-67143 | 1986-03-27 | ||
| JP6714386 | 1986-03-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6312157A true JPS6312157A (ja) | 1988-01-19 |
Family
ID=13336387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62067935A Pending JPS6312157A (ja) | 1986-03-27 | 1987-03-24 | 耐熱プラスチツク半導体装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4777520A (ja) |
| EP (1) | EP0239315B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6312157A (ja) |
| KR (1) | KR960001604B1 (ja) |
| CN (1) | CN1005945B (ja) |
| DE (1) | DE3770847D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980030032A (ko) * | 1996-10-29 | 1998-07-25 | 황인길 | 반도체 패키지 |
| JP2009035215A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Mazda Motor Corp | 自動車のバッテリー取付構造 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61230344A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-14 | Toray Silicone Co Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
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| US6979595B1 (en) | 2000-08-24 | 2005-12-27 | Micron Technology, Inc. | Packaged microelectronic devices with pressure release elements and methods for manufacturing and using such packaged microelectronic devices |
| US6838760B1 (en) | 2000-08-28 | 2005-01-04 | Micron Technology, Inc. | Packaged microelectronic devices with interconnecting units |
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| FR2488445A1 (fr) * | 1980-08-06 | 1982-02-12 | Efcis | Boitier plastique pour circuits integres |
| JPS5922349A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPS5987840A (ja) * | 1982-11-10 | 1984-05-21 | Toray Silicone Co Ltd | 半導体装置 |
| JPS60208847A (ja) * | 1984-04-02 | 1985-10-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | 表面実装型icに内在する水分の排出方法 |
| JPS6123348A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-01-31 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
| JPS6178150A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 樹脂封止型半導体装置用リ−ドフレ−ム |
-
1987
- 1987-03-11 US US07/024,795 patent/US4777520A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-18 EP EP87302325A patent/EP0239315B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-18 DE DE8787302325T patent/DE3770847D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-24 JP JP62067935A patent/JPS6312157A/ja active Pending
- 1987-03-25 KR KR87002755A patent/KR960001604B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-27 CN CN87102401.2A patent/CN1005945B/zh not_active Expired
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| KR19980030032A (ko) * | 1996-10-29 | 1998-07-25 | 황인길 | 반도체 패키지 |
| JP2009035215A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Mazda Motor Corp | 自動車のバッテリー取付構造 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1005945B (zh) | 1989-11-29 |
| CN87102401A (zh) | 1987-10-07 |
| US4777520A (en) | 1988-10-11 |
| KR870009461A (ko) | 1987-10-26 |
| EP0239315A1 (en) | 1987-09-30 |
| EP0239315B1 (en) | 1991-06-19 |
| KR960001604B1 (en) | 1996-02-02 |
| DE3770847D1 (de) | 1991-07-25 |
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