JPS63126848A - 4,4’−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 - Google Patents
4,4’−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法Info
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- JPS63126848A JPS63126848A JP27280386A JP27280386A JPS63126848A JP S63126848 A JPS63126848 A JP S63126848A JP 27280386 A JP27280386 A JP 27280386A JP 27280386 A JP27280386 A JP 27280386A JP S63126848 A JPS63126848 A JP S63126848A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−
3,3′、5.5’−テトラメチルビフェニルおよびそ
の製造方法に関する。
3,3′、5.5’−テトラメチルビフェニルおよびそ
の製造方法に関する。
更に詳しくは、414゛−ジヒドロキシ−3+3Z5+
O’−テトラメチルビフェニルとトジニトロベンゼンと
を塩基の存在下、非プロトン性極性溶媒中で縮合して得
られる4、4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,
3’、5.5°−テトラメチルビフェニルを、更に還元
して得られるも4゛−ビス(3−アミノフェノキシ)−
3,3’、5.5’−テトラメチルビフェニルに関する
。
O’−テトラメチルビフェニルとトジニトロベンゼンと
を塩基の存在下、非プロトン性極性溶媒中で縮合して得
られる4、4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,
3’、5.5°−テトラメチルビフェニルを、更に還元
して得られるも4゛−ビス(3−アミノフェノキシ)−
3,3’、5.5’−テトラメチルビフェニルに関する
。
本発明の4.4°−ビス(3−アミノフェノキシ)−3
,3’、5,5°−テトラメチルビフェニルはかって製
造された例がなく、従って、既知の用途も知られていな
い。
,3’、5,5°−テトラメチルビフェニルはかって製
造された例がなく、従って、既知の用途も知られていな
い。
しかしながら、その構造上、耐熱性高分子のモノマー、
特にポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマレ
イド樹脂等の基幹原料として有用である。
特にポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマレ
イド樹脂等の基幹原料として有用である。
(従来技術)
従来、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの反応によ
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広く利用されることが期待されている。
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広く利用されることが期待されている。
しかしながら、従来公知のポリイミド樹脂は、優れた耐
熱性を有するものは加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等、種々の問題点を有で表わされる基本骨格からな
るポリイミド樹脂(Dupont社製、商品名Kapt
on、Vespel)は明確なガラス転移温度を有して
おらず、耐熱性は優れているものの加工性に劣り、成形
材料として用いる場合、焼結成形等の手法を用いなけれ
ば加工できない。
熱性を有するものは加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等、種々の問題点を有で表わされる基本骨格からな
るポリイミド樹脂(Dupont社製、商品名Kapt
on、Vespel)は明確なガラス転移温度を有して
おらず、耐熱性は優れているものの加工性に劣り、成形
材料として用いる場合、焼結成形等の手法を用いなけれ
ば加工できない。
また、近年、その耐熱性および絶縁性のために、ポリイ
ミド樹脂が電気電子部品の基材として用いられているが
、式(3)で表わされるポリイミド樹脂は吸水性が高く
、電気電子部品の材料として用いる際に重要な因子とな
る寸法安定性、絶縁性、ハンダ耐熱性に悪影響を及ぼす
という欠点を有している。また、式(4) で表わされる基本骨格を有するポリエーテルイミド系樹
脂(GE社製、商品名ULTEM)は加工性に優れてい
るものの、ガラス転移温度が217℃と低く、耐熱性に
劣り、しかもメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水
素系の溶媒に可溶であるという欠点を有している。
ミド樹脂が電気電子部品の基材として用いられているが
、式(3)で表わされるポリイミド樹脂は吸水性が高く
、電気電子部品の材料として用いる際に重要な因子とな
る寸法安定性、絶縁性、ハンダ耐熱性に悪影響を及ぼす
という欠点を有している。また、式(4) で表わされる基本骨格を有するポリエーテルイミド系樹
脂(GE社製、商品名ULTEM)は加工性に優れてい
るものの、ガラス転移温度が217℃と低く、耐熱性に
劣り、しかもメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水
素系の溶媒に可溶であるという欠点を有している。
本発明者らは、先に、4.4′−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ビフェニルをジアミン成分とするポリイミド樹
脂が優れた耐熱性、加工性、透明性、低吸水性および接
着性を有することを見出し、出願した(特願昭6O−2
10266)。
ノキシ)ビフェニルをジアミン成分とするポリイミド樹
脂が優れた耐熱性、加工性、透明性、低吸水性および接
着性を有することを見出し、出願した(特願昭6O−2
10266)。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の課題は、ポリイミド樹脂が本来有する優れた耐
熱性に加え、優れた加工性および耐熱接着性を有する多
目的用途に使用可能なポリイミド樹脂の原料となる新規
な化合物、すなわち、芳香族エーテルジアミンを提供す
ることである。
熱性に加え、優れた加工性および耐熱接着性を有する多
目的用途に使用可能なポリイミド樹脂の原料となる新規
な化合物、すなわち、芳香族エーテルジアミンを提供す
ることである。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、上記のような課題達成のため種々のジア
ミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹脂を製造
しその性能の評価を行ってきた。
ミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹脂を製造
しその性能の評価を行ってきた。
その結果、前記式(1)で表わされる4、4゛−ビス(
3−アミノフェノキシ)−3,3”、5.5’−テトラ
メチルビフェニルを初めて製造し、この化合物がテトラ
カルボン酸二無水物との重合体において優れた耐熱性、
加工性を存し、この新規な芳香族エーテルジアミンが耐
熱性樹脂原料として好ましいものであることを見出した
。
3−アミノフェノキシ)−3,3”、5.5’−テトラ
メチルビフェニルを初めて製造し、この化合物がテトラ
カルボン酸二無水物との重合体において優れた耐熱性、
加工性を存し、この新規な芳香族エーテルジアミンが耐
熱性樹脂原料として好ましいものであることを見出した
。
すなわち、本発明は、新規な芳香族エーテルジアミンで
ある4、4’−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3
’、5.5’−テトラメチルビフェニルおよびその製造
方法に関する。
ある4、4’−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3
’、5.5’−テトラメチルビフェニルおよびその製造
方法に関する。
従来、芳香族ニトロ化合物において、0−またはp−位
の電子吸引性基により活性化されている化合物のニトロ
基をフェノール類で置換する反応に関しては多数の例が
知られている。
の電子吸引性基により活性化されている化合物のニトロ
基をフェノール類で置換する反応に関しては多数の例が
知られている。
しかしながら、トジニトロベンゼンのように活性化され
ていないニトロ基の反応に関しては、大環状ポリエーテ
ルの存在下、極性有機溶媒中、信−ジニトロベンゼンと
アルカリ金属のフェノキシトとを反応させて3−ニトロ
ジフェニルエーテルを製造する方法が知られているにす
ぎない(特開昭54−39030)、まして、2個の水
酸基を有する4、4°−ジヒドロキシ−3,3’ 、5
.5’−テトラメチルビフェニルと2分子の訃ジニトロ
ベンゼンとを縮合させることによって、4.4゛−ビス
(3−アミノフェノキシ) −3,3’、5.5’−ビ
フェニルのような芳香族エーテルジアミンを製造しよう
とする方法は知られておらず、勿論、化合物自体も従来
全く知られていない。
ていないニトロ基の反応に関しては、大環状ポリエーテ
ルの存在下、極性有機溶媒中、信−ジニトロベンゼンと
アルカリ金属のフェノキシトとを反応させて3−ニトロ
ジフェニルエーテルを製造する方法が知られているにす
ぎない(特開昭54−39030)、まして、2個の水
酸基を有する4、4°−ジヒドロキシ−3,3’ 、5
.5’−テトラメチルビフェニルと2分子の訃ジニトロ
ベンゼンとを縮合させることによって、4.4゛−ビス
(3−アミノフェノキシ) −3,3’、5.5’−ビ
フェニルのような芳香族エーテルジアミンを製造しよう
とする方法は知られておらず、勿論、化合物自体も従来
全く知られていない。
本発明者らは、耐熱性樹脂の合成検討の中で、4.4°
−ジヒドロキシ−3,3’ 、5.5’−テトラメチル
ビフェニルとm−ジニトロベンゼンとを塩基の存在下、
非プロトン性極性溶媒中で反応させると4.4”−ビス
(3−ニトロフェノキシ) −3,3’ 、5,5°−
テトラメチルビフェニルが製造でき、更にこれを還元す
ることにより4.4゛−ビス(3−アミノフェノキシ)
−3,3’、5.5’−テトラメチルビフェニルを合成
することに成功した。ついで、この化合物を原料として
重合体を製造し、この重合体が極めて優れた性能を有す
ることを確認した。すなわち、この化合物が、高度の有
用性を有するものであることをWtU2し、本発明の課
題を達成することができた。
−ジヒドロキシ−3,3’ 、5.5’−テトラメチル
ビフェニルとm−ジニトロベンゼンとを塩基の存在下、
非プロトン性極性溶媒中で反応させると4.4”−ビス
(3−ニトロフェノキシ) −3,3’ 、5,5°−
テトラメチルビフェニルが製造でき、更にこれを還元す
ることにより4.4゛−ビス(3−アミノフェノキシ)
−3,3’、5.5’−テトラメチルビフェニルを合成
することに成功した。ついで、この化合物を原料として
重合体を製造し、この重合体が極めて優れた性能を有す
ることを確認した。すなわち、この化合物が、高度の有
用性を有するものであることをWtU2し、本発明の課
題を達成することができた。
本発明の化合物を製造するのに用いられる方法は、4,
4°−ジヒドロキシ−3,3°、5,5°−テトラメチ
ルビフェニルと1ジニトロベンゼンの縮合反応(以下、
第1段の反応という)と還元反応(以下、第2段の反応
という)の2種の反応より成る。
4°−ジヒドロキシ−3,3°、5,5°−テトラメチ
ルビフェニルと1ジニトロベンゼンの縮合反応(以下、
第1段の反応という)と還元反応(以下、第2段の反応
という)の2種の反応より成る。
第1段の反応で使用される原料の4,4゛−ジヒドロキ
シ−3,3’ 、5.5°−テトラメチルビフェニルは
2.6−シメチルフエノールの酸化により容易に製造で
きる(特開昭53−65834およびジャーナル・オブ
・オーガニック・ケミストリー(J、Org Che1
1+、)、50.3927(1985)) 。
シ−3,3’ 、5.5°−テトラメチルビフェニルは
2.6−シメチルフエノールの酸化により容易に製造で
きる(特開昭53−65834およびジャーナル・オブ
・オーガニック・ケミストリー(J、Org Che1
1+、)、50.3927(1985)) 。
原料の使用量は、特に限定的なものではないが、通常、
鵬−ジニトロベンゼンが4,4゛−ジヒドロキシ−3,
3’ 、5.5°−テトラメチルビフェニルに対して1
.5〜3倍モルであるように使用する。縮合反応では塩
基を使用する0例えば、アルカリ金属の酸化物、水酸化
物、炭酸塩、炭酸水素塩、水素化物およびアルコキシド
類が使用されるが、通常、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどが多使
用される。
鵬−ジニトロベンゼンが4,4゛−ジヒドロキシ−3,
3’ 、5.5°−テトラメチルビフェニルに対して1
.5〜3倍モルであるように使用する。縮合反応では塩
基を使用する0例えば、アルカリ金属の酸化物、水酸化
物、炭酸塩、炭酸水素塩、水素化物およびアルコキシド
類が使用されるが、通常、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどが多使
用される。
塩基の量は通常、原料の4.4”−ジヒドロキシ−3,
3’ 、5.5’−テトラメチルビフェニルに対して、
1〜5倍モル、好ましくは1.5〜3倍モルである。
3’ 、5.5’−テトラメチルビフェニルに対して、
1〜5倍モル、好ましくは1.5〜3倍モルである。
この反応の際に4級アンモニウム塩、4級リン塩、クラ
ウンエーテルのような大環状ポリエーテル、クリプテー
トのような含窒素大環状ポリエーテル、含窒素鎖状ポリ
エーテル、ポリエチレングリコール及びそのアルキルエ
ーテルのような相間移動触媒、銅粉および銅塩などを反
応促進剤として加えてもよい。
ウンエーテルのような大環状ポリエーテル、クリプテー
トのような含窒素大環状ポリエーテル、含窒素鎖状ポリ
エーテル、ポリエチレングリコール及びそのアルキルエ
ーテルのような相間移動触媒、銅粉および銅塩などを反
応促進剤として加えてもよい。
反応溶媒としては、非プロトン性極性溶媒が使用される
0例えばN、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルス
ルホン、スルホラン、1−メチル−2−ピロリジノンま
たは1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンのような
ものが使用される。これらの溶媒は通常、原料に対して
1〜10重量倍で使用される。
0例えばN、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルス
ルホン、スルホラン、1−メチル−2−ピロリジノンま
たは1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンのような
ものが使用される。これらの溶媒は通常、原料に対して
1〜10重量倍で使用される。
反応の手順は、通常、−一ジニトロベンゼンを含むすべ
ての原料を最初から装入して、そのまま反応させる方法
で実施される。
ての原料を最初から装入して、そのまま反応させる方法
で実施される。
反応温度は、100〜240℃、好ましくは120〜1
80℃の範囲であり、反応時間は5〜30時間の範囲で
ある9反応終了後、溶媒を留去した後、あるいは反応液
をそのまま水中に排出すると目的の粗製品が得られる。
80℃の範囲であり、反応時間は5〜30時間の範囲で
ある9反応終了後、溶媒を留去した後、あるいは反応液
をそのまま水中に排出すると目的の粗製品が得られる。
この粗製品は再結晶などにより精製することができるが
、通常は、そのまま第2段の還元反応を行う。
、通常は、そのまま第2段の還元反応を行う。
第2段の反応は特に制限はなく、通常ニトロ基をアミノ
基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、
酸化と還元〔■〕、丸善(1977))を適用できるが
、工業的には接触還元またはヒドラジン還元が好ましい
、接触還元の例をあげれば、ニッケル、パラジウム、白
金等の金属触媒や担持触媒またはニッケルや銅などのラ
ネー触媒等の還元触媒を原料の414゛−ビス(3−ニ
トロフェノキシ)−3,3’、5.5’−テトラメチル
ビフェニルに対して、金属として0.01−10重量%
、したがって、金属の状態で使用する場合は2〜8重量
%、担体に担持させた場合では0.1〜5重量%の範囲
で用いて還元反応を行う。
基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、
酸化と還元〔■〕、丸善(1977))を適用できるが
、工業的には接触還元またはヒドラジン還元が好ましい
、接触還元の例をあげれば、ニッケル、パラジウム、白
金等の金属触媒や担持触媒またはニッケルや銅などのラ
ネー触媒等の還元触媒を原料の414゛−ビス(3−ニ
トロフェノキシ)−3,3’、5.5’−テトラメチル
ビフェニルに対して、金属として0.01−10重量%
、したがって、金属の状態で使用する場合は2〜8重量
%、担体に担持させた場合では0.1〜5重量%の範囲
で用いて還元反応を行う。
還元反応に使用する溶媒としては、反応に不活性なメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチル
セロソルブのようなものが使用できる。
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチル
セロソルブのようなものが使用できる。
反応温度は、特に限定はない、一般的には20〜200
℃の範囲、特に20〜100℃が好ましい、また、反応
圧力は、通常、常圧〜50Kg/c+J−’程度である
。
℃の範囲、特に20〜100℃が好ましい、また、反応
圧力は、通常、常圧〜50Kg/c+J−’程度である
。
一方、ヒドラジン還元の例をあげれば、ヒドラジンを、
通常、理論量の1.2〜2倍量用いて還元反応を実施す
る。
通常、理論量の1.2〜2倍量用いて還元反応を実施す
る。
触媒としては、−iに接触還元に用いられている金属触
媒を使用することができる。とくにパラジウム/カーボ
ン、白金/カーボンまたは塩化第2鉄を活性炭に吸着さ
せた触媒が好ましい、その使用量は通常、原料の4,4
゛−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3°、 5.
5’−テトラメチルビフェニルに対して、金属として0
.01〜30重量%の範囲である。
媒を使用することができる。とくにパラジウム/カーボ
ン、白金/カーボンまたは塩化第2鉄を活性炭に吸着さ
せた触媒が好ましい、その使用量は通常、原料の4,4
゛−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3°、 5.
5’−テトラメチルビフェニルに対して、金属として0
.01〜30重量%の範囲である。
反応溶媒としては、接触還元の場合と同様の溶媒を用い
ることができる0反応温度は特に限定はなく、一般的に
は20〜150℃の範囲、とくに40〜100℃が好ま
しい。
ることができる0反応温度は特に限定はなく、一般的に
は20〜150℃の範囲、とくに40〜100℃が好ま
しい。
反応終了後、反応液を熱濾過して触媒を除去した後、必
要に応じて溶媒を留去すると目的とする4、4°−ビス
(3−アミノフェノキシ)ビフェニルの粗製品が得られ
る。この粗製品は再結晶または塩酸塩として単離するこ
とにより精製することができる。
要に応じて溶媒を留去すると目的とする4、4°−ビス
(3−アミノフェノキシ)ビフェニルの粗製品が得られ
る。この粗製品は再結晶または塩酸塩として単離するこ
とにより精製することができる。
以上の方法により本発明の新規の芳香族エーテルジアミ
ンを得ることができる。
ンを得ることができる。
本発明の芳香族エーテルジアミンは一種以上のテトラカ
ルボン酸二無水物と重合させてポリアミド酸、更にこれ
を環化脱水してポリイミドを得ることができる。
ルボン酸二無水物と重合させてポリアミド酸、更にこれ
を環化脱水してポリイミドを得ることができる。
本発明の化合物を原料とするポリイミド樹脂は、従来の
ポリイミド樹脂特有の耐熱性を有していながら、熱可塑
性であるため、加工性および耐熱接着性に優れてお吟、
その中のあるものは高耐熱性で溶融成形可能なポリイミ
ド樹脂である。
ポリイミド樹脂特有の耐熱性を有していながら、熱可塑
性であるため、加工性および耐熱接着性に優れてお吟、
その中のあるものは高耐熱性で溶融成形可能なポリイミ
ド樹脂である。
従って、宇宙・航空機用基材、電気電子部品基材、更に
は、耐熱性接着剤として、広くその有用性が発揮される
。
は、耐熱性接着剤として、広くその有用性が発揮される
。
(作用および効果)
本発明の新規な芳香族エーテルジアミンである4、4゛
−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3”、5.5’
−テトラメチルビフェニルは、4,4′−ジヒドロキシ
−3,3’ 、5.5’−テトラメチルビフェニルとト
ジニトロベンゼンとの縮合、還元反応により工業的に容
易に製造できる。また、この化合物をテトラカルボン酸
二無水物と重合させると、新規な重合体が得られ、この
重合体は、優れた耐熱性、加工性および接着能を有して
いる。すなわち、本発明の化合物は今後更に耐熱性が要
求される分野の樹脂原料として広く利用されうるもので
ある。
−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3”、5.5’
−テトラメチルビフェニルは、4,4′−ジヒドロキシ
−3,3’ 、5.5’−テトラメチルビフェニルとト
ジニトロベンゼンとの縮合、還元反応により工業的に容
易に製造できる。また、この化合物をテトラカルボン酸
二無水物と重合させると、新規な重合体が得られ、この
重合体は、優れた耐熱性、加工性および接着能を有して
いる。すなわち、本発明の化合物は今後更に耐熱性が要
求される分野の樹脂原料として広く利用されうるもので
ある。
(実施例)
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する。
実施例1
攪拌機、温度針、冷却管を装備した反応フラスコに、4
,4゛−ジヒドロキシ−3,3’ 、5.5’−テトラ
メチルビフェニル48.4g(0,2モル)、m−ジニ
トロベンゼン80.6g(0,48モル)、炭酸カリウ
ム66.2g(0,48モル)、N、N−ジメチルホル
ムアミド750m1を装入し、140〜147℃で7.
5時間攪拌する。
,4゛−ジヒドロキシ−3,3’ 、5.5’−テトラ
メチルビフェニル48.4g(0,2モル)、m−ジニ
トロベンゼン80.6g(0,48モル)、炭酸カリウ
ム66.2g(0,48モル)、N、N−ジメチルホル
ムアミド750m1を装入し、140〜147℃で7.
5時間攪拌する。
冷却後、水中に排出し、ベンゼンで抽出後、溶媒を減圧
濃縮して、4.4’−ビス(3−ニトロフェノキシ)−
3,3’、5.5’−テトラメチルビフェニルの黄褐色
結晶を得た。収量43.6g(収率45.0χ)0分析
用サンプルは、クロロホルム/エタノールより再結晶し
て得た。
濃縮して、4.4’−ビス(3−ニトロフェノキシ)−
3,3’、5.5’−テトラメチルビフェニルの黄褐色
結晶を得た。収量43.6g(収率45.0χ)0分析
用サンプルは、クロロホルム/エタノールより再結晶し
て得た。
鵬、9186.6〜187.5℃(corr) 黄色
立方晶IR(KBr、 01−’):1530とt35
0otoi基) 、1225 (エーテル結合) 元素分析値 (C*JxeNzOa) CHN計算値(χ)
69.41 4.99 5.78実測値(X)
69.68 4.99 5.77このようにして得られ
た4、4°−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3’
、5.5’−テトラメチルビフェニル43.6g(0,
1モル)と塩化鉄(I[[) ・6水和物90 ’m
g、活性炭(へ〇P炭、東洋カルボン製) 1.31g
、 2−メトキシエタノール200m lを反応フラ
スコに装入し、80〜90℃で30分間攪拌後、80%
ヒドラジン−水和物37.6g (0,6モル)を80
〜90℃で3時間かけて滴下し、更に105℃で1時間
撹拌する。冷却後、濾過、洗浄し、溶媒を減圧濃縮して
黄褐色結晶を得た。これに、2−メトキシエタノールと
水の混合溶媒を加え濃塩酸を加えて加熱溶解し、活性炭
処理後、冷却晶析して塩酸塩の結晶を得た。水中、アン
モニア水で中和後、トルエンで再結晶して、目的とする
4、4’−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’、
5.5’−テトラメチルビフェニルを白色結晶として得
た。
立方晶IR(KBr、 01−’):1530とt35
0otoi基) 、1225 (エーテル結合) 元素分析値 (C*JxeNzOa) CHN計算値(χ)
69.41 4.99 5.78実測値(X)
69.68 4.99 5.77このようにして得られ
た4、4°−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3’
、5.5’−テトラメチルビフェニル43.6g(0,
1モル)と塩化鉄(I[[) ・6水和物90 ’m
g、活性炭(へ〇P炭、東洋カルボン製) 1.31g
、 2−メトキシエタノール200m lを反応フラ
スコに装入し、80〜90℃で30分間攪拌後、80%
ヒドラジン−水和物37.6g (0,6モル)を80
〜90℃で3時間かけて滴下し、更に105℃で1時間
撹拌する。冷却後、濾過、洗浄し、溶媒を減圧濃縮して
黄褐色結晶を得た。これに、2−メトキシエタノールと
水の混合溶媒を加え濃塩酸を加えて加熱溶解し、活性炭
処理後、冷却晶析して塩酸塩の結晶を得た。水中、アン
モニア水で中和後、トルエンで再結晶して、目的とする
4、4’−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’、
5.5’−テトラメチルビフェニルを白色結晶として得
た。
収量 29.7g(収率70.Oχ)
mp 191.8〜192.6℃(corr)IR
(KBr、 cm−’) : 3475と3380(N
H*基)。
(KBr、 cm−’) : 3475と3380(N
H*基)。
1200(エーテル結合)
元素分析値
(C*JzJ*Oz) CHN
計算値(χ) 79.21 6.65 6.60実測
値(χ) 79.14 6.61 6.53実施例2 溶媒として1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを
用いる以外は、実施例1と全く同様にして、160℃で
5時間反応を行い、4.4′−ビス(3−ニトロフェノ
キシ)−3,3“、5.5’−テトラメチルビフェニル
を得た。収量36.0g(収率37.2χ)このように
して得られた4、4′−ビス−(3−ニトロフェノキシ
)−3,3’、5.5°−テトラメチルビフェニル29
.8g(0,05モル)を2−メトキシエタノール10
0■lに溶解し、5χPd/C(日本エンゲルハルト−
製) Igを加えた。45〜50℃で激しく撹拌しなが
ら水素を導入すると6時間でそれ以上吸収しなくなり、
反応が完了した。
値(χ) 79.14 6.61 6.53実施例2 溶媒として1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを
用いる以外は、実施例1と全く同様にして、160℃で
5時間反応を行い、4.4′−ビス(3−ニトロフェノ
キシ)−3,3“、5.5’−テトラメチルビフェニル
を得た。収量36.0g(収率37.2χ)このように
して得られた4、4′−ビス−(3−ニトロフェノキシ
)−3,3’、5.5°−テトラメチルビフェニル29
.8g(0,05モル)を2−メトキシエタノール10
0■lに溶解し、5χPd/C(日本エンゲルハルト−
製) Igを加えた。45〜50℃で激しく撹拌しなが
ら水素を導入すると6時間でそれ以上吸収しなくなり、
反応が完了した。
実施例1と同様の方法で、後処理、精製を行い、 4.
4’−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’ 、5
.5’ −テトラメチルビフェニルを得た。
4’−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’ 、5
.5’ −テトラメチルビフェニルを得た。
収量 13.8g (収率65.O! )mp
191.8 〜192.6℃(corr)参考例1 攪拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に、
4.4°−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’、
5.5’ −テトラメチルビフェニル7.0g(0,
0165モル)とN、N−ジメチルアセトアミド42.
4gを装入し、室温で窒素雰囲気下に、ピロメリット酸
二無水物3.6g(0,0165モル)を溶液温度の上
昇に注意しながら分割して加え、室温で約20時間攪拌
した。
191.8 〜192.6℃(corr)参考例1 攪拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に、
4.4°−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’、
5.5’ −テトラメチルビフェニル7.0g(0,
0165モル)とN、N−ジメチルアセトアミド42.
4gを装入し、室温で窒素雰囲気下に、ピロメリット酸
二無水物3.6g(0,0165モル)を溶液温度の上
昇に注意しながら分割して加え、室温で約20時間攪拌
した。
このようにして得られたポリアミド酸の対数粘度は1.
16dl/gであった。このポリアミド酸溶液の一部を
とり、ガラス板上にキャストした後、100℃、200
℃、300℃で各々1時間加熱して淡黄色透明、フィル
ム厚35μのポリイミドフィルムを得た。
16dl/gであった。このポリアミド酸溶液の一部を
とり、ガラス板上にキャストした後、100℃、200
℃、300℃で各々1時間加熱して淡黄色透明、フィル
ム厚35μのポリイミドフィルムを得た。
このポリイミドフィルムの引張強さは10.76Kg/
as”、引張伸び率は8.3zであった(測定方法は、
ともにASTM 0−882に拠る。以下同様)。
as”、引張伸び率は8.3zであった(測定方法は、
ともにASTM 0−882に拠る。以下同様)。
また、このポリイミドフィルムのガラス転移温度は32
4℃(TMA針人法人法定、以下同様)、空気中での5
%重重量減湯温は474℃(DT^−TGで測定、以下
同様)であった、さらに、このポリイミドフィルムを1
30℃に予備加熱した冷間圧延網板(JIS G314
1,5pcc150.25X100 Xl、6mm 、
以下間lり間に挿入し、350℃、20Kg/ cdで
5分間加圧圧着させた。このものの室温での引張せん断
接着強さは250Kg/aJであった。
4℃(TMA針人法人法定、以下同様)、空気中での5
%重重量減湯温は474℃(DT^−TGで測定、以下
同様)であった、さらに、このポリイミドフィルムを1
30℃に予備加熱した冷間圧延網板(JIS G314
1,5pcc150.25X100 Xl、6mm 、
以下間lり間に挿入し、350℃、20Kg/ cdで
5分間加圧圧着させた。このものの室温での引張せん断
接着強さは250Kg/aJであった。
参考例2
攪拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に、
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’、
5.5’−テトラメチルビフェニル6.2g(0,01
46モル)とN、N−ジメチルアセトアミド43.6g
を装入し、室温で窒素雰囲気下に、ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物4.7g(0,0146モル)を
温度の上昇に注意しながら分割して加え、室温で約20
時間攪拌した。
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3’、
5.5’−テトラメチルビフェニル6.2g(0,01
46モル)とN、N−ジメチルアセトアミド43.6g
を装入し、室温で窒素雰囲気下に、ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物4.7g(0,0146モル)を
温度の上昇に注意しながら分割して加え、室温で約20
時間攪拌した。
このようにして得られたポリアミド酸の対数粘度は0.
93 d17gであった。このポリアミド酸溶液の一部
をとり、ガラス板上にキャストした後、100℃、20
0℃、300℃で各々1時間加熱して淡黄色透明、フィ
ルム厚35μのポリイミドフィルムを得た。
93 d17gであった。このポリアミド酸溶液の一部
をとり、ガラス板上にキャストした後、100℃、20
0℃、300℃で各々1時間加熱して淡黄色透明、フィ
ルム厚35μのポリイミドフィルムを得た。
このポリイミドフィルムの引張強さは、10.96Kg
/ms” 、引張伸び率は6.3χであった。また、
このポリイミドフィルムのガラス転移温度は276℃、
空気中での5%重重量減少度は473℃であった。さら
に、このポリイミドフィルムを130’Cに予備加熱し
た冷間圧延網板間に挿入し、350℃、20Kg/ c
dで5分間加圧圧着させた。
/ms” 、引張伸び率は6.3χであった。また、
このポリイミドフィルムのガラス転移温度は276℃、
空気中での5%重重量減少度は473℃であった。さら
に、このポリイミドフィルムを130’Cに予備加熱し
た冷間圧延網板間に挿入し、350℃、20Kg/ c
dで5分間加圧圧着させた。
このものの室温での引張・せん断接着強さは275 K
g/aJであった。
g/aJであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) で表わされる4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)
−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル。 2)4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テ
トラメチルビフェニルとm−ジニトロベンゼンとを塩基
の存在下、非プロトン性極性溶媒中で縮合して、式(2
) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) で表わされる4,4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)
−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルとし、
更にこれを還元することを特徴とする式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) で表わされる4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)
−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルの製造
方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27280386A JPH0745445B2 (ja) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | 4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27280386A JPH0745445B2 (ja) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | 4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63126848A true JPS63126848A (ja) | 1988-05-30 |
| JPH0745445B2 JPH0745445B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=17518969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27280386A Expired - Fee Related JPH0745445B2 (ja) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | 4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745445B2 (ja) |
-
1986
- 1986-11-18 JP JP27280386A patent/JPH0745445B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0745445B2 (ja) | 1995-05-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |