JPH0745445B2 - 4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 - Google Patents
4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法Info
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- JPH0745445B2 JPH0745445B2 JP27280386A JP27280386A JPH0745445B2 JP H0745445 B2 JPH0745445 B2 JP H0745445B2 JP 27280386 A JP27280386 A JP 27280386A JP 27280386 A JP27280386 A JP 27280386A JP H0745445 B2 JPH0745445 B2 JP H0745445B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,
3′,5,5′−テトラメチルビフェニルおよびその製造方
法に関する。
3′,5,5′−テトラメチルビフェニルおよびその製造方
法に関する。
更に詳しくは、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テ
トラメチルビフェニルとm−ジニトロベンゼンとを塩基
の存在下、非プロトン性極性溶媒中で縮合して得られる
4,4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3′,5,5′−
テトラメチルビフェニルを、更に還元して得られる4,
4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テ
トラメチルビフェニルに関する。
トラメチルビフェニルとm−ジニトロベンゼンとを塩基
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4,4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3′,5,5′−
テトラメチルビフェニルを、更に還元して得られる4,
4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テ
トラメチルビフェニルに関する。
本発明の4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,
3′,5,5′−テトラメチルビフェニルはかって製造され
た例がなく、従って、既知の用途も知られていない。
3′,5,5′−テトラメチルビフェニルはかって製造され
た例がなく、従って、既知の用途も知られていない。
しかしながら、その構造上、耐熱性高分子のモノマー、
特にポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマレ
イド樹脂等の基幹原料として有用である。
特にポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマレ
イド樹脂等の基幹原料として有用である。
(従来技術) 従来、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの反応によ
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広く利用されることが期待されている。
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広く利用されることが期待されている。
しかしながら、従来公知のポリイミド樹脂は、優れた耐
熱性を有するものは加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等、種々の問題点を有している。例えば、式(3) で表される基本骨格からなるポリイミド樹脂(Dupont社
製、商品名Kapton.Vespel)は明確なガラス転移温度を
有しておらず、耐熱性は優れているものの加工性に劣
り、成形材料として用いる場合、焼結成形等の手法を用
いなければ加工できない。
熱性を有するものは加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等、種々の問題点を有している。例えば、式(3) で表される基本骨格からなるポリイミド樹脂(Dupont社
製、商品名Kapton.Vespel)は明確なガラス転移温度を
有しておらず、耐熱性は優れているものの加工性に劣
り、成形材料として用いる場合、焼結成形等の手法を用
いなければ加工できない。
また、近年、その耐熱性および絶縁性のために、ポリイ
ミド樹脂が電気電子部品の基材として用いられている
が、式(3)で表わされるポリイミド樹脂は吸水性が高
く、電気電子部品の材料として用いる際に重要な因子と
なる寸法安定性、絶縁性、ハンダ耐熱性に悪影響を及ぼ
すという欠点を有している。また、式(4) で表わされる基本骨格を有するポリエーテルイミド系樹
脂(GE社製、商品名ULTEM)は加工性に優れているもの
の、ガラス転移温度が217℃と低く、耐熱性に劣り、し
かもメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素系の溶
媒に可溶であるという欠点を有している。
ミド樹脂が電気電子部品の基材として用いられている
が、式(3)で表わされるポリイミド樹脂は吸水性が高
く、電気電子部品の材料として用いる際に重要な因子と
なる寸法安定性、絶縁性、ハンダ耐熱性に悪影響を及ぼ
すという欠点を有している。また、式(4) で表わされる基本骨格を有するポリエーテルイミド系樹
脂(GE社製、商品名ULTEM)は加工性に優れているもの
の、ガラス転移温度が217℃と低く、耐熱性に劣り、し
かもメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素系の溶
媒に可溶であるという欠点を有している。
本発明者らは、先に、4,4′−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ビニフェルをジアミン成分とするポリイミド樹脂
が優れた耐熱性、加工性、透明性、低吸水性および接着
性を有することを見出し、出願した(特願昭60-21026
6)。
キシ)ビニフェルをジアミン成分とするポリイミド樹脂
が優れた耐熱性、加工性、透明性、低吸水性および接着
性を有することを見出し、出願した(特願昭60-21026
6)。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の課題は、ポリイミド樹脂が本来有する優れた耐
熱性に加え、優れた加工性および耐熱接着性を有する多
目的用途に使用可能なポリイミド樹脂の原料となる新規
な化合物、すなわち、芳香族エーテルジアミンを提供す
ることである。
熱性に加え、優れた加工性および耐熱接着性を有する多
目的用途に使用可能なポリイミド樹脂の原料となる新規
な化合物、すなわち、芳香族エーテルジアミンを提供す
ることである。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上記のような課題達成のため種々のジア
ミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹脂を製造
しその性能の評価を行ってきた。その結果、前記式
(1)で表わされる4,4′−ビス(3−アミノフェノキ
シ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルを初めて
製造し、この化合物がテトラカルボン酸二無水物との重
合体において優れた耐熱性、加工性を有し、この新規な
芳香族エーテルジアミンが耐熱性樹脂原料として好まし
いものであることを見出した。
ミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹脂を製造
しその性能の評価を行ってきた。その結果、前記式
(1)で表わされる4,4′−ビス(3−アミノフェノキ
シ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルを初めて
製造し、この化合物がテトラカルボン酸二無水物との重
合体において優れた耐熱性、加工性を有し、この新規な
芳香族エーテルジアミンが耐熱性樹脂原料として好まし
いものであることを見出した。
すなわち、本発明は、新規な芳香族エーテルジアミンで
ある4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,
5′−テトラメチルビフェニルおよびその製造方法に関
する。
ある4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,
5′−テトラメチルビフェニルおよびその製造方法に関
する。
従来、芳香族ニトロ化合物において、o−またはp−位
の電子吸引性基により活性化されている化合物のニトロ
基をフェノール類で置換する反応に関しては多数の例が
知られている。
の電子吸引性基により活性化されている化合物のニトロ
基をフェノール類で置換する反応に関しては多数の例が
知られている。
しかしながら、m−ジニトロベンゼンのように活性化さ
れていないニトロ基の反応に関しては、大環状ポリエー
テルの存在下、極性有機溶媒中、m−ジニトロベンゼン
とアルカリ金属のフェノキシドとを反応させて3−ニト
ロジフェニルエーテルを製造する方法が知られているに
すぎない(特開昭54-39030)。まして、2個の水酸基を
有する4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチ
ルビフェニルと2分子のm−ジニトロベンゼンとを縮合
させることによって、4,4′−ビス(3−アミノフェノ
キシ)−3,3′,5,5′−ビフェニルのような芳香族エー
テルジアミンを製造しようとする方法は知られておら
ず、勿論、化合物自体も従来全く知られていない。
れていないニトロ基の反応に関しては、大環状ポリエー
テルの存在下、極性有機溶媒中、m−ジニトロベンゼン
とアルカリ金属のフェノキシドとを反応させて3−ニト
ロジフェニルエーテルを製造する方法が知られているに
すぎない(特開昭54-39030)。まして、2個の水酸基を
有する4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチ
ルビフェニルと2分子のm−ジニトロベンゼンとを縮合
させることによって、4,4′−ビス(3−アミノフェノ
キシ)−3,3′,5,5′−ビフェニルのような芳香族エー
テルジアミンを製造しようとする方法は知られておら
ず、勿論、化合物自体も従来全く知られていない。
本発明者らは、耐熱性樹脂の合成検討の中で、4,4′−
ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル
とm−ジニトロベンゼンとを塩基の存在下、非プロトン
性極性溶媒中で反応させると4,4′−ビス(3−ニトロ
フェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル
が製造でき、更にこれを還元することにより4,4′−ビ
ス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメ
チルビフェニルを合成することに成功した。ついで、こ
の化合物を原料として重合体を製造し、この重合体が極
めて優れた性能を有することを確認した。すなわち、こ
の化合物が、高度の有用性を有するものであることを確
認し、本発明の課題を達成することができた。
ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル
とm−ジニトロベンゼンとを塩基の存在下、非プロトン
性極性溶媒中で反応させると4,4′−ビス(3−ニトロ
フェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル
が製造でき、更にこれを還元することにより4,4′−ビ
ス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメ
チルビフェニルを合成することに成功した。ついで、こ
の化合物を原料として重合体を製造し、この重合体が極
めて優れた性能を有することを確認した。すなわち、こ
の化合物が、高度の有用性を有するものであることを確
認し、本発明の課題を達成することができた。
本発明の化合物を製造するのに用いられる方法は、4,
4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェ
ニルとm−ジニトロベンゼンの縮合反応(以下、第1段
の反応という)と還元反応(以下、第2段の反応とい
う)の2種の反応より成る。
4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェ
ニルとm−ジニトロベンゼンの縮合反応(以下、第1段
の反応という)と還元反応(以下、第2段の反応とい
う)の2種の反応より成る。
第1段の反応で使用される原料の4,4′−ジヒドロキシ
−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルは、2,6−ジメ
チルフェノールの酸化により容易に製造できる(特開昭
53-65834およびジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー(J.Org Chem.),50,3927(1985))。
−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルは、2,6−ジメ
チルフェノールの酸化により容易に製造できる(特開昭
53-65834およびジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー(J.Org Chem.),50,3927(1985))。
原料の使用量は、特に限定的なものではないが、通常、
m−ジニトロベンゼンが4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,
5,5′−テトラメチルビフェニルに対して1.5〜3倍モル
であるように使用する。縮合反応では塩基を使用する。
例えば、アルカリ金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、炭
酸水素塩、水素化物およびアルコキシド類が使用される
が、通常、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、炭酸水素ナトリウムなどが多使用される。
m−ジニトロベンゼンが4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,
5,5′−テトラメチルビフェニルに対して1.5〜3倍モル
であるように使用する。縮合反応では塩基を使用する。
例えば、アルカリ金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、炭
酸水素塩、水素化物およびアルコキシド類が使用される
が、通常、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、炭酸水素ナトリウムなどが多使用される。
塩基の量は通常、原料の4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,
5,5′−テトラメチルビフェニルに対して、1〜5倍モ
ル、好ましくは1.5〜3倍モルである。
5,5′−テトラメチルビフェニルに対して、1〜5倍モ
ル、好ましくは1.5〜3倍モルである。
この反応の際に4級アンモニウム塩、4級リン塩、クラ
ウンエーテルのような大環状ポリエーテル、クリプテー
トのような含窒素大環状ポリエーテル、含窒素鎖状ポリ
エーテル、ポリエチレングリコール及びそのアルキルエ
ーテルのような相間移動触媒、銅粉および銅塩などを反
応促進剤として加えてもよい。
ウンエーテルのような大環状ポリエーテル、クリプテー
トのような含窒素大環状ポリエーテル、含窒素鎖状ポリ
エーテル、ポリエチレングリコール及びそのアルキルエ
ーテルのような相間移動触媒、銅粉および銅塩などを反
応促進剤として加えてもよい。
反応溶媒としては、非プロトン性極性溶媒が使用され
る。例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホ
ン、スルホラン、1−メチル−2−ピロリジノンまたは
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンのようなものが
使用される。これらの溶媒は通常、原料に対して1〜10
重量倍で使用される。
る。例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホ
ン、スルホラン、1−メチル−2−ピロリジノンまたは
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンのようなものが
使用される。これらの溶媒は通常、原料に対して1〜10
重量倍で使用される。
反応の手順は、通常、m−ジニトロベンゼンを含むすべ
ての原料を最初から装入して、そのまま反応させる方法
で実施される。
ての原料を最初から装入して、そのまま反応させる方法
で実施される。
反応温度は、100〜240℃、好ましくは120〜180℃の範囲
であり、反応時間は5〜30時間の範囲である。反応終了
後、溶媒を留去した後、あるいは反応液をそのまま水中
に排出すると目的の粗製品が得られる。この粗製品は再
結晶などにより精製することができるが、通常は、その
まま第2段の還元反応を行う。
であり、反応時間は5〜30時間の範囲である。反応終了
後、溶媒を留去した後、あるいは反応液をそのまま水中
に排出すると目的の粗製品が得られる。この粗製品は再
結晶などにより精製することができるが、通常は、その
まま第2段の還元反応を行う。
第2段の反応は特に制限はなく、通常ニトロ基をアミノ
基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、酸
化と還元〔II〕、丸善(1977))を適用できるが、工業
的には接触還元またはヒドラジン還元が好ましい。接触
還元の例をあげれば、ニッケル、パラジウム、白金等の
金属触媒や担持触媒またはニッケルや銅などのラネー触
媒等の還元触媒を原料の4,4′−ビス(3−ニトロフェ
ノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルに対
して、金属として0.01〜10重量%、したがって、金属の
状態で使用する場合は2〜8重量%、担体に担持させた
場合では0.1〜5重量%の範囲で用いて還元反応を行
う。
基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、酸
化と還元〔II〕、丸善(1977))を適用できるが、工業
的には接触還元またはヒドラジン還元が好ましい。接触
還元の例をあげれば、ニッケル、パラジウム、白金等の
金属触媒や担持触媒またはニッケルや銅などのラネー触
媒等の還元触媒を原料の4,4′−ビス(3−ニトロフェ
ノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルに対
して、金属として0.01〜10重量%、したがって、金属の
状態で使用する場合は2〜8重量%、担体に担持させた
場合では0.1〜5重量%の範囲で用いて還元反応を行
う。
還元反応に使用する溶媒としては、反応に不活性なメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチル
セロソルブのようなものが使用できる。
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチル
セロソルブのようなものが使用できる。
反応温度は、特に限定はない。一般的には20〜200℃の
範囲、特に20〜100℃が好ましい。また、反応圧力は、
通常、常圧〜50kg/cm2 -G程度である。
範囲、特に20〜100℃が好ましい。また、反応圧力は、
通常、常圧〜50kg/cm2 -G程度である。
一方、ヒドラジン還元の例をあげれば、ヒドラジンを、
通常、理論量の1.2〜2倍量用いて還元反応を実施す
る。
通常、理論量の1.2〜2倍量用いて還元反応を実施す
る。
触媒としては、一般に接触還元に用いられている金属触
媒を使用することができる。とくにパラジウム/カーボ
ン、白金/カーボンまたは塩化第2鉄を活性炭に吸着さ
せた触媒が好ましい。その使用量は通常、原料の4,4′
−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3′,5,5′−テト
ラメチルビフェニルに対して、金属として0.01〜30重量
%の範囲である。
媒を使用することができる。とくにパラジウム/カーボ
ン、白金/カーボンまたは塩化第2鉄を活性炭に吸着さ
せた触媒が好ましい。その使用量は通常、原料の4,4′
−ビス(3−ニトロフェノキシ)−3,3′,5,5′−テト
ラメチルビフェニルに対して、金属として0.01〜30重量
%の範囲である。
反応溶媒としては、接触還元の場合と同様の溶媒を用い
ることができる。反応温度は特に限定はなく、一般的に
は20〜150℃の範囲、とくに40〜100℃が好ましい。
ることができる。反応温度は特に限定はなく、一般的に
は20〜150℃の範囲、とくに40〜100℃が好ましい。
反応終了後、反応液を熱濾過して触媒を除去した後、必
要に応じて溶媒を留去すると目的とする4,4′−ビス
(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチ
ルビフェニルの粗製品が得られる。この粗製品は再結晶
または塩酸塩として単離することにより精製することが
できる。
要に応じて溶媒を留去すると目的とする4,4′−ビス
(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチ
ルビフェニルの粗製品が得られる。この粗製品は再結晶
または塩酸塩として単離することにより精製することが
できる。
以上の方法により本発明の新規の芳香族エーテルジアミ
ンを得ることができる。
ンを得ることができる。
本発明の芳香族エーテルジアミンは一種以上のテトラカ
ルボン酸二無水物と重合させてポリアミド酸、更にこれ
を環化脱水してポリイミドを得ることができる。
ルボン酸二無水物と重合させてポリアミド酸、更にこれ
を環化脱水してポリイミドを得ることができる。
本発明の化合物を原料とするポリイミド樹脂は、従来の
ポリイミド樹脂特有の耐熱性を有していながら、熱可塑
性であるため、加工性および耐熱接着性に優れており、
その中のあるものは高耐熱性で溶融成形可能なポリイミ
ド樹脂である。
ポリイミド樹脂特有の耐熱性を有していながら、熱可塑
性であるため、加工性および耐熱接着性に優れており、
その中のあるものは高耐熱性で溶融成形可能なポリイミ
ド樹脂である。
従って、宇宙・航空機用基材、電気電子部品基材、更に
は、耐熱性接着剤として、広くその有用性が発揮され
る。
は、耐熱性接着剤として、広くその有用性が発揮され
る。
(作用および効果) 本発明の新規な芳香族エーテルジアミンである4,4′−
ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラ
メチルビフェニルは、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,
5′−テトラメチルビフェニルとm−ジニトロベンゼン
との縮合、還元反応により工業的に容易に製造できる。
また、この化合物をテトラカルボン酸二無水物と重合さ
せると、新規な重合体が得られ、この重合体は、優れた
耐熱性、加工性および接着能を有している。すなわち、
本発明の化合物は今後更に耐熱性が要求される分野の樹
脂原料として広く利用されうるものである。
ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラ
メチルビフェニルは、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,
5′−テトラメチルビフェニルとm−ジニトロベンゼン
との縮合、還元反応により工業的に容易に製造できる。
また、この化合物をテトラカルボン酸二無水物と重合さ
せると、新規な重合体が得られ、この重合体は、優れた
耐熱性、加工性および接着能を有している。すなわち、
本発明の化合物は今後更に耐熱性が要求される分野の樹
脂原料として広く利用されうるものである。
(実施例) 以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する。
実施例1 攪拌機、温度計、冷却管を装備した反応フラスコに、4,
4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェ
ニル48.4g(0.2モル)、m−ジニトロベンゼン80.6g
(0.48モル)、炭酸カリウム66.2g(0.48モル)、N,N−
ジメチルホルムアミド750mlを装入し、140〜147℃で7.5
時間攪拌する。冷却後、水中に排出し、ベンゼンで抽出
後、溶媒を減圧濃縮して、4,4′−ビス(3−ニトロフ
ェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルの
黄褐色結晶を得た。収量43.6g(収率45.0%)。分析用
サンプルは、クロロホルム/エタノールより再結晶して
得た。
4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェ
ニル48.4g(0.2モル)、m−ジニトロベンゼン80.6g
(0.48モル)、炭酸カリウム66.2g(0.48モル)、N,N−
ジメチルホルムアミド750mlを装入し、140〜147℃で7.5
時間攪拌する。冷却後、水中に排出し、ベンゼンで抽出
後、溶媒を減圧濃縮して、4,4′−ビス(3−ニトロフ
ェノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルの
黄褐色結晶を得た。収量43.6g(収率45.0%)。分析用
サンプルは、クロロホルム/エタノールより再結晶して
得た。
m.p186.6〜187.5℃(corr) 黄色立方晶 IR(KBr.cm-1):1530と1350(NO2基)、1225(エーテル
結合) 元素分析値 (C28H24N2O6) C H N 計算値(%) 69.41 4.99 5.78 実測値(%) 69.68 4.99 5.77 このようにして得られた4,4′−ビス(3−ニトロフェ
ノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル43.6g
(0.09モル)と塩化鉄(III)・6水和物90mg、活性炭
(ADP炭、東洋カルゴン製)1.31g、2−メトキシエタノ
ール200mlを反応フラスコに装入し、80〜90℃で30分間
攪拌後、80%ヒドラジン−水和物37.6g(0.6モル)を80
〜90℃で3時間かけて滴下し、更に105℃で1時間攪拌
する。冷却後、濾過、洗浄し、溶媒を減圧濃縮して黄褐
色結晶を得た。これに、2−メトキシエタノールと水の
混合溶媒を加え濃塩酸を加えて加熱溶解し、活性炭処理
後、冷却晶析して塩酸塩の結晶を得た。水中、アンモニ
ア水で中和後、トルエンで再結晶して、目的とする4,
4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テ
トラメチルビフェニルを白色結晶として得た。
結合) 元素分析値 (C28H24N2O6) C H N 計算値(%) 69.41 4.99 5.78 実測値(%) 69.68 4.99 5.77 このようにして得られた4,4′−ビス(3−ニトロフェ
ノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル43.6g
(0.09モル)と塩化鉄(III)・6水和物90mg、活性炭
(ADP炭、東洋カルゴン製)1.31g、2−メトキシエタノ
ール200mlを反応フラスコに装入し、80〜90℃で30分間
攪拌後、80%ヒドラジン−水和物37.6g(0.6モル)を80
〜90℃で3時間かけて滴下し、更に105℃で1時間攪拌
する。冷却後、濾過、洗浄し、溶媒を減圧濃縮して黄褐
色結晶を得た。これに、2−メトキシエタノールと水の
混合溶媒を加え濃塩酸を加えて加熱溶解し、活性炭処理
後、冷却晶析して塩酸塩の結晶を得た。水中、アンモニ
ア水で中和後、トルエンで再結晶して、目的とする4,
4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テ
トラメチルビフェニルを白色結晶として得た。
収量 29.7g(収率77.8%) mp 191.8〜192.6℃(corr) IR(KBr.cm-1):3475と3380(NH2基),1200(エーテル
結合) 元素分析値 (C28H28N2O2) C H N 計算値(%) 79.21 6.65 6.60 実測値(%) 79.14 6.61 6.53 実施例2 溶媒として1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを用
いる以外は、実施例1と全く同様にして、160℃で5時
間反応を行い、4,4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)
−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルを得た。収量3
6.0g(収率37.2%) このようにして得られた4,4′−ビス(3−ニトロフェ
ノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル29.8g
(0.05モル)を2−メトキシエタノール100mlに溶解
し、5%Pd/C(日本エンゲルハルト(株)製)1gを加え
た。45〜50℃で激しく攪拌しながら水素を導入すると6
時間でそれ以上吸収しなくなり、反応が完了した。
結合) 元素分析値 (C28H28N2O2) C H N 計算値(%) 79.21 6.65 6.60 実測値(%) 79.14 6.61 6.53 実施例2 溶媒として1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを用
いる以外は、実施例1と全く同様にして、160℃で5時
間反応を行い、4,4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)
−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルを得た。収量3
6.0g(収率37.2%) このようにして得られた4,4′−ビス(3−ニトロフェ
ノキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル29.8g
(0.05モル)を2−メトキシエタノール100mlに溶解
し、5%Pd/C(日本エンゲルハルト(株)製)1gを加え
た。45〜50℃で激しく攪拌しながら水素を導入すると6
時間でそれ以上吸収しなくなり、反応が完了した。
実施例1と同様の方法で、後処理、精製を行い、4,4′
−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テト
ラメチルビフェニルを得た。
−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−テト
ラメチルビフェニルを得た。
収量 13.8g(収率65.0%) mp 191.8〜192.6℃(corr) 参考例1 攪拌機、還流冷却機および窒素導入管を備えた容器に、
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−
テトラメチルビフェニル7.0g(0.0165モル)とN,N−ジ
メチルアセトアミド42.4gを装入し、室温で窒素雰囲気
下に、ピロメリット酸二無水物3.6g(0.0165モル)を溶
液温度の上昇に注意しながら分割して加え、室温で約20
時間攪拌した。
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−
テトラメチルビフェニル7.0g(0.0165モル)とN,N−ジ
メチルアセトアミド42.4gを装入し、室温で窒素雰囲気
下に、ピロメリット酸二無水物3.6g(0.0165モル)を溶
液温度の上昇に注意しながら分割して加え、室温で約20
時間攪拌した。
このようにして得られたポリアミド酸の対数粘度は1.16
dl/gであった。このポリアミド酸溶液の一部をとり、ガ
ラス板上にキャストした後、100℃、200℃、300℃で各
々1時間加熱して淡黄色透明、フィルム厚35μのポリイ
ミドフィルムを得た。
dl/gであった。このポリアミド酸溶液の一部をとり、ガ
ラス板上にキャストした後、100℃、200℃、300℃で各
々1時間加熱して淡黄色透明、フィルム厚35μのポリイ
ミドフィルムを得た。
このポリイミドフィルムの引張強さは10.76Kg/mm2、引
張伸び率は8.3%であった(測定方法は、ともにASTM D
−882に拠る。以下同様)。
張伸び率は8.3%であった(測定方法は、ともにASTM D
−882に拠る。以下同様)。
また、このポリイミドフィルムのガラス転移温度は324
℃(TMA針入法で測定、以下同様)、空気中での5%重
量減少温度は474℃(DTA−TGで測定。以下同様)であっ
た。さらに、このポリイミドフィルムを130℃に予備加
熱した冷間圧延鋼板(JIS G3141,spcc/SD、25×100×1.
6mm。以下同様)間に挿入し、350℃、20Kg/cm2で5分間
加圧圧着させた。このものの室温での引張せん断接着強
さは250Kg/cm2であった。
℃(TMA針入法で測定、以下同様)、空気中での5%重
量減少温度は474℃(DTA−TGで測定。以下同様)であっ
た。さらに、このポリイミドフィルムを130℃に予備加
熱した冷間圧延鋼板(JIS G3141,spcc/SD、25×100×1.
6mm。以下同様)間に挿入し、350℃、20Kg/cm2で5分間
加圧圧着させた。このものの室温での引張せん断接着強
さは250Kg/cm2であった。
参考例2 攪拌機、還流冷却機および窒素導入管を備えた容器に、
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−
テトラメチルビフェニル6.2g(0.0146モル)とN,N−ジ
メチルアセトアミド43.6gを装入し、室温で窒素雰囲気
下に、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物4.7g
(0.0146モル)を温度の上昇に注意しながら分割して加
え、室温で約20時間攪拌した。
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3′,5,5′−
テトラメチルビフェニル6.2g(0.0146モル)とN,N−ジ
メチルアセトアミド43.6gを装入し、室温で窒素雰囲気
下に、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物4.7g
(0.0146モル)を温度の上昇に注意しながら分割して加
え、室温で約20時間攪拌した。
このようにして得られたポリアミド酸の対数粘度は0.93
dl/gであった。このポリアミド酸溶液の一部をとり、ガ
ラス板上にキャストした後、100℃、200℃、300℃で各
々1時間加熱して淡黄色透明、フィルム厚35μのポリイ
ミドフィルムを得た。
dl/gであった。このポリアミド酸溶液の一部をとり、ガ
ラス板上にキャストした後、100℃、200℃、300℃で各
々1時間加熱して淡黄色透明、フィルム厚35μのポリイ
ミドフィルムを得た。
このポリイミドフィルムの引張強さは、10.96Kg/mm2、
引張伸び率は6.3%であった。また、このポリイミドフ
ィルムのガラス転移温度は276℃、空気中での5%重量
減少温度は473℃であった。さらに、このポリイミドフ
ィルムを130℃に予備加熱した冷間圧延鋼板間に挿入
し、350℃、20Kg/cm2で5分間加圧圧着させた。
引張伸び率は6.3%であった。また、このポリイミドフ
ィルムのガラス転移温度は276℃、空気中での5%重量
減少温度は473℃であった。さらに、このポリイミドフ
ィルムを130℃に予備加熱した冷間圧延鋼板間に挿入
し、350℃、20Kg/cm2で5分間加圧圧着させた。
このものの室温での引張・せん断接着強さは275Kg/cm2
であった。
であった。
Claims (2)
- 【請求項1】式(1) で表わされる4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−
3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル。 - 【請求項2】4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テト
ラメチルビフェニルとm−ジニトロベンゼンとを塩基の
存在下、非プロトン性極性溶媒中で縮合して、式(2) で表わされる4,4′−ビス(3−ニトロフェノキシ)−
3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルとし、更にこれ
を還元することを特徴とする式(1) で表わされる4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)−
3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニルの製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27280386A JPH0745445B2 (ja) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | 4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27280386A JPH0745445B2 (ja) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | 4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63126848A JPS63126848A (ja) | 1988-05-30 |
| JPH0745445B2 true JPH0745445B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=17518969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27280386A Expired - Fee Related JPH0745445B2 (ja) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | 4,4▲’▼−ビス(3−アミノフエノキシ)−3,3▲’▼,5,5▲’▼−テトラメチルビフエニルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745445B2 (ja) |
-
1986
- 1986-11-18 JP JP27280386A patent/JPH0745445B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63126848A (ja) | 1988-05-30 |
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