JPS63128120A - シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 - Google Patents
シヤドウマスク用金属薄板の製造方法Info
- Publication number
- JPS63128120A JPS63128120A JP61272050A JP27205086A JPS63128120A JP S63128120 A JPS63128120 A JP S63128120A JP 61272050 A JP61272050 A JP 61272050A JP 27205086 A JP27205086 A JP 27205086A JP S63128120 A JPS63128120 A JP S63128120A
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- Japan
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- shadow mask
- alloy
- cold rolling
- relief annealing
- etching
- Prior art date
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- Pending
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/02—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
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- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、力２−受像管に用いるシャドウマスク用薄板
の製造方法に関するものであり、特にはシャドウマスク
電子ビーム通過用開孔をエツチング工程により形成する
為のブランク素材とじてのシャドウマスク用薄板の製造
方法に関する。本発明は、当該シャドウマスク用薄板の
製造工程において、最終冷間圧延後に特定条件の下で歪
取り焼鈍を行うことを特徴とし、それによりむらの発生
のない且つ平坦性の良い高精細度シャドウマスクの製造
を可能とし、最近開発が進められている高品位テレビジ
ョン等の製造に大きく寄与するものである。
の製造方法に関するものであり、特にはシャドウマスク
電子ビーム通過用開孔をエツチング工程により形成する
為のブランク素材とじてのシャドウマスク用薄板の製造
方法に関する。本発明は、当該シャドウマスク用薄板の
製造工程において、最終冷間圧延後に特定条件の下で歪
取り焼鈍を行うことを特徴とし、それによりむらの発生
のない且つ平坦性の良い高精細度シャドウマスクの製造
を可能とし、最近開発が進められている高品位テレビジ
ョン等の製造に大きく寄与するものである。
発明の背景
従来、カラー受像管用シャドウマスクには、低炭素リム
ド冷延鋼板や低炭素Ａｔキルド冷延鋼板といった軟鋼板
が用いられてきたが、これらの材料より低熱膨張特性を
有するＦ ｅ −Ｎ ｉ系合金、例えば１６Ｎｌ−Ｆｅ
アンバーなどの使用が検討されている。
ド冷延鋼板や低炭素Ａｔキルド冷延鋼板といった軟鋼板
が用いられてきたが、これらの材料より低熱膨張特性を
有するＦ ｅ −Ｎ ｉ系合金、例えば１６Ｎｌ−Ｆｅ
アンバーなどの使用が検討されている。
一般にカラー受像管を作動させた場合、シャドウマスク
の開孔を通過する電子ビームは全体の１／３以下であり
、残りの電子ビームはシャドウマスクに射突するので、
シャドウマスクは時として８０℃にも達する程加熱され
る。この際、シャドウマスフが熱により膨張し該シャド
ウマスクと螢光面の距離が変化して色純度の低下が生じ
るわけであるが、Ｆｅ−Ｎｉ系アンバー合金の使用によ
りこの”％ＰＰ張が軽減されるというものである。
の開孔を通過する電子ビームは全体の１／３以下であり
、残りの電子ビームはシャドウマスクに射突するので、
シャドウマスクは時として８０℃にも達する程加熱され
る。この際、シャドウマスフが熱により膨張し該シャド
ウマスクと螢光面の距離が変化して色純度の低下が生じ
るわけであるが、Ｆｅ−Ｎｉ系アンバー合金の使用によ
りこの”％ＰＰ張が軽減されるというものである。
しかし、Ｆ ｅ −Ｎ ｉ系合金もシャドウマスク材と
して全ての条件を具備しているとは言い難い。
して全ての条件を具備しているとは言い難い。
プレス成型性の悪さ、成型マスクの座屈現象その他機々
の問題点があり、本件出願人等の努力によりその多くが
解決されまた解決されつつある。
の問題点があり、本件出願人等の努力によりその多くが
解決されまた解決されつつある。
こうして実用化が急速に進興しているＦｅ−Ｎｉ系シャ
ドウマスクにおいて、残された幾つかの問題の一つは、
従来の軟鋼に比べ電子線ビーム通過用の多数の細孔を開
ける為のエツチング性である。
ドウマスクにおいて、残された幾つかの問題の一つは、
従来の軟鋼に比べ電子線ビーム通過用の多数の細孔を開
ける為のエツチング性である。
Ｆ ｅ −Ｎ ｉ系合金の場合、レジストの密着性やエ
ツチング液に対する腐食性が軟鋼と異るため、従来のエ
ツチング穿孔法では孔径や孔形状のばらつきが大きくな
り、その結果、該エツチングにより穿孔した細孔部に光
を透過させるとマスクにもやかかったようなむらが生じ
る。特に、近年急速に増加しているピッチ及び孔径の小
さい高精細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずか
な乱れによってもむらが生じてしまい、カラー受像管の
品位を著しく低下させてしまう。
ツチング液に対する腐食性が軟鋼と異るため、従来のエ
ツチング穿孔法では孔径や孔形状のばらつきが大きくな
り、その結果、該エツチングにより穿孔した細孔部に光
を透過させるとマスクにもやかかったようなむらが生じ
る。特に、近年急速に増加しているピッチ及び孔径の小
さい高精細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずか
な乱れによってもむらが生じてしまい、カラー受像管の
品位を著しく低下させてしまう。
Ｆ ｅ −Ｎ ｉ系シャドウマスク薄板のエツチング性
に関しては、従来、材質面の検討、特にＣ，Ｎ等の不純
物含有量の規制等と云った対策が採られてきたが、高精
細クヤドウマスクに対してはこれだけでは十分でない。
に関しては、従来、材質面の検討、特にＣ，Ｎ等の不純
物含有量の規制等と云った対策が採られてきたが、高精
細クヤドウマスクに対してはこれだけでは十分でない。
これらと併せて、より高品位の高精細度シャドウマスク
の作製を可能ならしめるＦ ｅ −Ｎ ｉ系合金シャド
ウマスク用薄板の開発が要望されている。
の作製を可能ならしめるＦ ｅ −Ｎ ｉ系合金シャド
ウマスク用薄板の開発が要望されている。
エツチング後の形状平坦性を良くするためＫは、最終冷
間圧延後に歪取り焼鈍により残留応力を低下させれば良
いことが知られており、実用化が行われている。本発明
者等は、この歪取り焼鈍が実はエツチング性を悪化せし
めていることを究明するに至った。即ち、従来歪取り焼
鈍はアンモニア分解ガス（７５％Ｈ２，残Ｎ、）雰囲気
にて実施されているが、この除虫じる窒化層がエツチン
グ性を損ねる一因となっていることが判明したものであ
る。この窒化層は、エツチングされにくく、エツチング
の前処理工程における脱脂洗浄工程において取り除くこ
とができないためエツチング性に悪影響を及はしてしま
う。また、この窒化層は全く均一の厚さで生成している
わけではないので、エツチングの進み具合が局所的に異
々りむらの原因になる。
間圧延後に歪取り焼鈍により残留応力を低下させれば良
いことが知られており、実用化が行われている。本発明
者等は、この歪取り焼鈍が実はエツチング性を悪化せし
めていることを究明するに至った。即ち、従来歪取り焼
鈍はアンモニア分解ガス（７５％Ｈ２，残Ｎ、）雰囲気
にて実施されているが、この除虫じる窒化層がエツチン
グ性を損ねる一因となっていることが判明したものであ
る。この窒化層は、エツチングされにくく、エツチング
の前処理工程における脱脂洗浄工程において取り除くこ
とができないためエツチング性に悪影響を及はしてしま
う。また、この窒化層は全く均一の厚さで生成している
わけではないので、エツチングの進み具合が局所的に異
々りむらの原因になる。
したがって窒化層が全く生成しないか、あるいは生成し
てもエツチング性に悪影響を及ぼさない程度の厚さです
むような条件で歪取り焼鈍をする必要がある。実験の結
果、９５容積チ以上の水素雰囲気で歪取り焼鈍を行えば
エツチング性を劣化させずに残留応力を低下できること
を見出した。
てもエツチング性に悪影響を及ぼさない程度の厚さです
むような条件で歪取り焼鈍をする必要がある。実験の結
果、９５容積チ以上の水素雰囲気で歪取り焼鈍を行えば
エツチング性を劣化させずに残留応力を低下できること
を見出した。
斯くして、本発明は讐最終冷間圧延後歪取り焼鈍を行う
ことにより電子ビーム通過用開孔を形成する為のエツチ
ング工程に供せられるＦ ｅ −Ｎ ｌ系合金シャドウ
マスク用金属薄板の製造方法において、前記歪取り焼鈍
を水素９５容積チ以上で残部窒素から成る雰囲気中で実
施することを特徴とする前記シャドウマスク用金ＭＷ板
の製造方法を提供する。
ことにより電子ビーム通過用開孔を形成する為のエツチ
ング工程に供せられるＦ ｅ −Ｎ ｌ系合金シャドウ
マスク用金属薄板の製造方法において、前記歪取り焼鈍
を水素９５容積チ以上で残部窒素から成る雰囲気中で実
施することを特徴とする前記シャドウマスク用金ＭＷ板
の製造方法を提供する。
シャドウマスク用Ｆ ｅ −Ｎ ｉ系合金については多
くのものがこれまで提唱されている。参考までに数例を
示しておくが、本発明は決してこれらに制限されるもの
で１（、Ｆｅ−Ｎｉを基とするオーステナイト型合金の
すべてを対象とするものであることは云うまでもない。
くのものがこれまで提唱されている。参考までに数例を
示しておくが、本発明は決してこれらに制限されるもの
で１（、Ｆｅ−Ｎｉを基とするオーステナイト型合金の
すべてを対象とするものであることは云うまでもない。
例１ （残部Ｆｅ及び不可避的不純物）Ｃα１０％以下
Ｓ １３０チ以下
Ａｌ （ＬＡＤ％以下
Ｍｎ ＣＬｌ 〜１０％
Ｎｉ ３４．０〜３８．０ ％例
２ 例１＋（’ｒｉ、Ｚｒ、ＢＩＭｏ、Ｎｂｔ Ｐ。
２ 例１＋（’ｒｉ、Ｚｒ、ＢＩＭｏ、Ｎｂｔ Ｐ。
Ｃｕ、 ｖｌ Ｍｇｓ Ｃｏｗ Ｗ）の１種以上（ｌＯ
１〜ｔ ｏ チ 例３ （残部Ｆｅ及び不可避的不純物）Ｃα１ｏ％以下 Ｓｔ α３ｏチ以下 ＡＩ Ｑ、３０チ以下 Ｍｎ α１〜ｔｏチ Ｎｉ３０〜４５％ Ｃｒ ２．０〜１（１０％例４ 例２＋（Ｔｉｅ Ｚｒ、ＭＯｌ Ｎｂｔ ＢＩ ＶｅＢ
ｅ）の１種以上Ｏ，０１〜ｔｏ％ 例５ （残部Ｆｅ及び不可避的不純物）Ｍｎ
α１〜ｔｏ％ Ｎ ｉ ５ ＣＬ Ｏ〜３４．０％Ｃｒ
ｔ Ｏ〜４．０ ％Ｃｏ ２
．０〜５．０％ こうした合金組成においてエツチング穿孔性を害する非
金属介在物を形成しゃすいＣ，Ｓ、Ｏ，Ｎ等のｉｆ不純
物を低水準に規制することも行われそいる。
１〜ｔ ｏ チ 例３ （残部Ｆｅ及び不可避的不純物）Ｃα１ｏ％以下 Ｓｔ α３ｏチ以下 ＡＩ Ｑ、３０チ以下 Ｍｎ α１〜ｔｏチ Ｎｉ３０〜４５％ Ｃｒ ２．０〜１（１０％例４ 例２＋（Ｔｉｅ Ｚｒ、ＭＯｌ Ｎｂｔ ＢＩ ＶｅＢ
ｅ）の１種以上Ｏ，０１〜ｔｏ％ 例５ （残部Ｆｅ及び不可避的不純物）Ｍｎ
α１〜ｔｏ％ Ｎ ｉ ５ ＣＬ Ｏ〜３４．０％Ｃｒ
ｔ Ｏ〜４．０ ％Ｃｏ ２
．０〜５．０％ こうした合金組成においてエツチング穿孔性を害する非
金属介在物を形成しゃすいＣ，Ｓ、Ｏ，Ｎ等のｉｆ不純
物を低水準に規制することも行われそいる。
シャドウマスクは、上述したよりな組成の合金を、溶解
（真空、ＶＯＤ、ＡＯＤ＃＝）、鋳造、鍛造、熱間圧延
及び酸洗の熱間加工工程を経由した後、大きく分けて次
の２つの方法により作製される： （１）一般法（プレス成型性を付与する為の焼鈍をプレ
ス成型直前に行う方法） これは、冷間圧延及び焼鈍を適宜繰返し、最終冷間圧延
によりシャドウマスク用金属薄板を製造し、脱脂・レジ
スト塗布・現像を行った後、電子ビーム通過用開孔を形
成する穿孔工程、フラットマスクを形成する切断工程、
プレス成型性を付与する為の焼鈍工程、マスクを成形す
るプレス成型工程及び表面に黒色皮膜を生成する黒化処
理を経由してシャドウマスクを製造するものである。
（真空、ＶＯＤ、ＡＯＤ＃＝）、鋳造、鍛造、熱間圧延
及び酸洗の熱間加工工程を経由した後、大きく分けて次
の２つの方法により作製される： （１）一般法（プレス成型性を付与する為の焼鈍をプレ
ス成型直前に行う方法） これは、冷間圧延及び焼鈍を適宜繰返し、最終冷間圧延
によりシャドウマスク用金属薄板を製造し、脱脂・レジ
スト塗布・現像を行った後、電子ビーム通過用開孔を形
成する穿孔工程、フラットマスクを形成する切断工程、
プレス成型性を付与する為の焼鈍工程、マスクを成形す
るプレス成型工程及び表面に黒色皮膜を生成する黒化処
理を経由してシャドウマスクを製造するものである。
（ｎ）プレアニール法（プレス成型性を付与する為の焼
鈍を最終冷間圧延直後に行う方法）これは、上記と同様
にして最終圧延工程によりシャドウマスク薄板を製造し
た後、爾後のプレス成型性を付与する為の焼鈍（最終焼
鈍と呼ばれる）を施し、必要ならスキンバス冷間加圧延
を行った上で、脱脂・レジスト塗布・現像を行った後、
電子ビーム通過用開孔を形成する穿孔工程、フラットマ
スクを形成す製造するものである。
鈍を最終冷間圧延直後に行う方法）これは、上記と同様
にして最終圧延工程によりシャドウマスク薄板を製造し
た後、爾後のプレス成型性を付与する為の焼鈍（最終焼
鈍と呼ばれる）を施し、必要ならスキンバス冷間加圧延
を行った上で、脱脂・レジスト塗布・現像を行った後、
電子ビーム通過用開孔を形成する穿孔工程、フラットマ
スクを形成す製造するものである。
本発明は基本的には、（Ｉ）及び（Ｉｔ）いずれの方法
にも適用しうるが、特には（Ｉ）の方法に適合する。
にも適用しうるが、特には（Ｉ）の方法に適合する。
本発明に従えば、最終冷間圧延後歪取り焼鈍が、窒化層
が全く生成しないか或いは生成してもエツチング性に悪
影響を及ぼさない程度の厚さですむような条件の下で実
施される。実験の結果、９５容ａ％以上の水素雰囲気で
歪取り焼鈍を行えば、エツチング性を劣化させずに残留
応力を低下しうろことが判明したものである。
が全く生成しないか或いは生成してもエツチング性に悪
影響を及ぼさない程度の厚さですむような条件の下で実
施される。実験の結果、９５容ａ％以上の水素雰囲気で
歪取り焼鈍を行えば、エツチング性を劣化させずに残留
応力を低下しうろことが判明したものである。
こうして歪取り焼鈍されたシャドウマスク用金属薄板は
エツチング工程に供せられる。
エツチング工程に供せられる。
ト膜を形成し、所定の開孔パターンを現像し、乾燥及び
バーニングを経てエツチングが行われる。
バーニングを経てエツチングが行われる。
エツチングは一般に塩化第２鉄溶液を用いて行ワれる。
本発明に従って製造されたシャドウマスク用金属薄板は
、エツチング性に悪影響を有する窒化層を有しないので
、エツチングは良好に進行し、孔形状や寸法にバラツキ
のない開孔を生成すると同時に十分に歪取りされている
ので表面平坦性も良好であり、むらの発生のない平坦性
のよい高品位のシャドウマスクの作製を可能ならしめる
。
、エツチング性に悪影響を有する窒化層を有しないので
、エツチングは良好に進行し、孔形状や寸法にバラツキ
のない開孔を生成すると同時に十分に歪取りされている
ので表面平坦性も良好であり、むらの発生のない平坦性
のよい高品位のシャドウマスクの作製を可能ならしめる
。
歪取り焼鈍は４００〜１０００℃の温度において１０５
ｅｃ−〜１ ｈｒ、実施される。
ｅｃ−〜１ ｈｒ、実施される。
シャドウマスク材として５６％Ｎｉ −Ｆｅアンバー合
金を最終的に冷間圧延で板厚０．２ｊＩｚにしたものを
用いた。これを第１表に示す雰囲気で８５０６ｃｘ ３
０ ｓｅｃ、歪取り焼鈍しエツチング試験を行った。エ
ツチング試験はまず、脱脂洗浄を行い、その後両面に牛
乳カゼイン酸アルカリと重り党ム酸アンモニウムとから
なる感光液を塗布して所定のレジスト膜を形成する。次
に、両面の感光膜に大小マスク孔のネガ像を有するパタ
ーンを密着配置し、超高圧水銀ランプで露光することに
よりマスク孔の像を得る。その後、現像、乾燥、バーニ
ングを経てエツチング工程に進む。エツチング工程では
エツチング液として塩化第２鉄液を用いた。
金を最終的に冷間圧延で板厚０．２ｊＩｚにしたものを
用いた。これを第１表に示す雰囲気で８５０６ｃｘ ３
０ ｓｅｃ、歪取り焼鈍しエツチング試験を行った。エ
ツチング試験はまず、脱脂洗浄を行い、その後両面に牛
乳カゼイン酸アルカリと重り党ム酸アンモニウムとから
なる感光液を塗布して所定のレジスト膜を形成する。次
に、両面の感光膜に大小マスク孔のネガ像を有するパタ
ーンを密着配置し、超高圧水銀ランプで露光することに
よりマスク孔の像を得る。その後、現像、乾燥、バーニ
ングを経てエツチング工程に進む。エツチング工程では
エツチング液として塩化第２鉄液を用いた。
エツチングを終えたマスクを暗室内で透過光により観察
しむら品位を評価した。またエツチング後の平坦度も評
価した。これらの結果も第１表に示す。
しむら品位を評価した。またエツチング後の平坦度も評
価した。これらの結果も第１表に示す。
第１表
測定した
第１表かられかるように、最終圧延後９５チ以上の水素
雰囲気で歪取り焼鈍を行った本発明例はエツチング後の
むら品位と平坦度の両方が優れている。
雰囲気で歪取り焼鈍を行った本発明例はエツチング後の
むら品位と平坦度の両方が優れている。
発明の効果
以上のように、本発明によればむらの発生しないしかも
形状の良い高品質のシャドウマスクを製造できるシャド
ウマスク用金属薄板を製造することができる。
形状の良い高品質のシャドウマスクを製造できるシャド
ウマスク用金属薄板を製造することができる。
Claims (1)
- １）最終冷間圧延後歪取り焼鈍を行うことにより電子ビ
ーム通過用開孔を形成する為のエッチング工程に供せら
れるＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用金属薄板の製造
方法において、前記歪取り焼鈍を水素９５容積％以上で
残部窒素から成る雰囲気中で実施することを特徴とする
前記シャドウマスク用金属薄板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61272050A JPS63128120A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61272050A JPS63128120A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63128120A true JPS63128120A (ja) | 1988-05-31 |
Family
ID=17508411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61272050A Pending JPS63128120A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63128120A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4434689A1 (de) * | 1993-09-28 | 1995-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | Schlitzmaske und Verfahren zur Herstellung derselben |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP61272050A patent/JPS63128120A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4434689A1 (de) * | 1993-09-28 | 1995-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | Schlitzmaske und Verfahren zur Herstellung derselben |
| DE4434689C2 (de) * | 1993-09-28 | 2003-06-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Verfahren zur Herstellung einer Schlitzmaske |
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