JPS6164853A - 管内部品用素材とその製造方法 - Google Patents
管内部品用素材とその製造方法Info
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- JPS6164853A JPS6164853A JP59186874A JP18687484A JPS6164853A JP S6164853 A JPS6164853 A JP S6164853A JP 59186874 A JP59186874 A JP 59186874A JP 18687484 A JP18687484 A JP 18687484A JP S6164853 A JPS6164853 A JP S6164853A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/18—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium
- C22C38/40—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/18—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium
- C22C38/40—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel
- C22C38/52—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel with cobalt
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
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- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0733—Aperture plate characterised by the material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Steel (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、例えばカラー受像管に用いられるシャドウマ
スク、フレーム、インナーシールド、バイメタル等の管
内部品を成形性良く製造可能な管内部品用素材とその製
造方法に関する。
スク、フレーム、インナーシールド、バイメタル等の管
内部品を成形性良く製造可能な管内部品用素材とその製
造方法に関する。
カラー受’SAWのシャドウマスク、フレーム、インナ
ーシールド、バイメタル等の所謂管内部品は、従来より
エツチング性、および成形性が良く、また電子ビームの
反射軽減に寄与する酸化膜をその表面に形成し易い、リ
ムド鋼やA2キルド鋼等を素材として形成されている。
ーシールド、バイメタル等の所謂管内部品は、従来より
エツチング性、および成形性が良く、また電子ビームの
反射軽減に寄与する酸化膜をその表面に形成し易い、リ
ムド鋼やA2キルド鋼等を素材として形成されている。
然し乍ら、近時各種のニューメディアに対応するべく、
カラー受像管の高品質化、つまり表示画像の所謂見易さ
や極細かさが要求され、上述したリムド鋼やA2ギルド
鋼にて構成されるシャドウマスク、フレーム、インナー
シールド、バイメタル等を用いるには不具合が生じてき
た。
カラー受像管の高品質化、つまり表示画像の所謂見易さ
や極細かさが要求され、上述したリムド鋼やA2ギルド
鋼にて構成されるシャドウマスク、フレーム、インナー
シールド、バイメタル等を用いるには不具合が生じてき
た。
すなわち、カラー受像管の動作時には、上記各部材の温
度が30〜100℃に上昇し、例えばその熱膨張による
シャドウマスクの成形形状に歪みに起因した、所謂ドー
ミングが生じる。この結果、シャドウマスクと蛍光面と
の間の相対的位置関係にずれが生じ、ピユリティードリ
フト(PD)と称される色ずれが発生する。特に高品位
カラー受像管では、前記シャドウマスクの開孔径および
その開孔ピッチが非常に小さいので、その相対的ずれ量
の割合いが大きくなり、上述したリムド鋼やA2キルド
鋼を素材とする管内部品では実用に耐えなくなる。
度が30〜100℃に上昇し、例えばその熱膨張による
シャドウマスクの成形形状に歪みに起因した、所謂ドー
ミングが生じる。この結果、シャドウマスクと蛍光面と
の間の相対的位置関係にずれが生じ、ピユリティードリ
フト(PD)と称される色ずれが発生する。特に高品位
カラー受像管では、前記シャドウマスクの開孔径および
その開孔ピッチが非常に小さいので、その相対的ずれ量
の割合いが大きくなり、上述したリムド鋼やA2キルド
鋼を素材とする管内部品では実用に耐えなくなる。
そこで従来、この種の管内部品を形成する素材として、
熱膨張係数の小さいNt−Fe合金、例えばアンバー(
36N 1−Fe )を用いることが、例えば特公昭4
2−25446号、特開昭50−58977号、特開昭
50−68650号等により提唱されている。ところが
、この種のNi−Fe合金は熱伝導性が悪く、蓄熱し易
いことのみならず、通常のシャドウマスク球面から電子
銃側への凹み、所謂スプリングバックを生じ易い。また
シャドウマスクの開孔をエツチング形成した際、開孔径
のむらを生じ易い。
熱膨張係数の小さいNt−Fe合金、例えばアンバー(
36N 1−Fe )を用いることが、例えば特公昭4
2−25446号、特開昭50−58977号、特開昭
50−68650号等により提唱されている。ところが
、この種のNi−Fe合金は熱伝導性が悪く、蓄熱し易
いことのみならず、通常のシャドウマスク球面から電子
銃側への凹み、所謂スプリングバックを生じ易い。また
シャドウマスクの開孔をエツチング形成した際、開孔径
のむらを生じ易い。
すなわち、上記スプリングバックは、その素材の0.2
%耐力値との間で、例えば第1図に示すような相関関係
を有している。そしてこの0.2%耐力値が低い程、ス
プリングバックが小さくなり、その成形性が良くなる。
%耐力値との間で、例えば第1図に示すような相関関係
を有している。そしてこの0.2%耐力値が低い程、ス
プリングバックが小さくなり、その成形性が良くなる。
逆に上記0.2%耐力が20Kg/ m ”以上になる
と、その成形が非常に困難となる。
と、その成形が非常に困難となる。
そこで従来、上記素材の0.2%耐力を下げるべく、1
000℃以上で真空焼鈍したり、或いは100〜200
℃の範囲で管内部品を成形加工することが試みられてい
る。更にはそのエツチング性を高める為に、種々の方法
が試みられている。しかし、いずれの場合も前記リムド
鋼やA2キルド鋼等のエツチング性や成形性には及んで
いないのが実状である。この為、カラー受像管の高品位
化を図るには限界があった。
000℃以上で真空焼鈍したり、或いは100〜200
℃の範囲で管内部品を成形加工することが試みられてい
る。更にはそのエツチング性を高める為に、種々の方法
が試みられている。しかし、いずれの場合も前記リムド
鋼やA2キルド鋼等のエツチング性や成形性には及んで
いないのが実状である。この為、カラー受像管の高品位
化を図るには限界があった。
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的とするところは、リムド鋼やA2キルド鋼よりも
熱膨張率が低く、またこれらの8鋼に近い良好なエツチ
ング性と成形性を有する管内部品用素材とその製造方法
を提供するものである。
の目的とするところは、リムド鋼やA2キルド鋼よりも
熱膨張率が低く、またこれらの8鋼に近い良好なエツチ
ング性と成形性を有する管内部品用素材とその製造方法
を提供するものである。
(発明の概要)
本発明は、Feを主成分とし、25〜45W【%のNi
、0.3〜IQwt%のC「、および不可避不純物を含
有し、JIS−GO551で規定されるところの結晶粒
度を8〜12に設定して、80%以上のオーステナイト
組織を形成した合金を、カラー受像管におけるシャドウ
マスク、インナーシールド、フレーム、バイメタル等の
管内部品を形成する為の管内部品用素材としたことを特
徴とするものである。
、0.3〜IQwt%のC「、および不可避不純物を含
有し、JIS−GO551で規定されるところの結晶粒
度を8〜12に設定して、80%以上のオーステナイト
組織を形成した合金を、カラー受像管におけるシャドウ
マスク、インナーシールド、フレーム、バイメタル等の
管内部品を形成する為の管内部品用素材としたことを特
徴とするものである。
またこのような管内部品用素材を、25〜45wt%の
N1.0.3〜10wt%のCr、残部Feおよび不可
避不純物を合金を溶解し、これに圧延・焼鈍を施した後
、最終冷延を圧延率40%以上、好ましくは80%以上
で行い、500〜1200℃、好ましくは900〜11
00℃で焼鈍処理し、その後、圧延率30%以下、好ま
しくは20%以下で調整圧延し、必要に応じて歪取り焼
鈍を加えて結晶粒度が8〜12となる管内部品用素材を
製造するようにしたものである。
N1.0.3〜10wt%のCr、残部Feおよび不可
避不純物を合金を溶解し、これに圧延・焼鈍を施した後
、最終冷延を圧延率40%以上、好ましくは80%以上
で行い、500〜1200℃、好ましくは900〜11
00℃で焼鈍処理し、その後、圧延率30%以下、好ま
しくは20%以下で調整圧延し、必要に応じて歪取り焼
鈍を加えて結晶粒度が8〜12となる管内部品用素材を
製造するようにしたものである。
ここで、上記Niの組成量を25〜45wt%とじたの
は、その熱膨張係数を90X10 /’C以下にする
為であり、Niの添加量が上記範囲を外れると、本発明
が目的とする熱膨張率の低い管内部品用素材が得られな
くなる。更にNiの添加mが45wt%を越えると、そ
の0゜2%耐力の増加が生じ、その成形性が大幅に劣化
する。同時にその耐酸化性の向上によって、通常その表
面に施される黒化処理が著しく困難となる。
は、その熱膨張係数を90X10 /’C以下にする
為であり、Niの添加量が上記範囲を外れると、本発明
が目的とする熱膨張率の低い管内部品用素材が得られな
くなる。更にNiの添加mが45wt%を越えると、そ
の0゜2%耐力の増加が生じ、その成形性が大幅に劣化
する。同時にその耐酸化性の向上によって、通常その表
面に施される黒化処理が著しく困難となる。
またエツチング性に関しても、Ni量が多くなると微細
エツチングが困難となり、そのエツチング孔の内壁が所
謂ガサ穴となったり、エツチング液中へのNiの多量の
溶は込みによって、そのエツチング速度の低下を招く等
の問題が生じる。
エツチングが困難となり、そのエツチング孔の内壁が所
謂ガサ穴となったり、エツチング液中へのNiの多量の
溶は込みによって、そのエツチング速度の低下を招く等
の問題が生じる。
またOrは、前述した結晶粒度8〜12の管内部品用素
材にエツチングをし、多数の穴の開いたフラットマスク
を得た後の焼鈍工程において重要な役割を果たす。即ち
一般に、36N i−F e合金にCrを添加し、再結
晶温度以上で焼鈍しない場合、その室温での0.2%耐
力の増大を招き、例えばシャドウマスクとしての曲率を
保ごとが困難となり、Crの添加によって、その素材の
高強度化が図られるだけである。しかし本発明の如<C
rを添加した36N i−F e合金に特定の焼鈍処理
を施した場合、その0.2%耐力の減少量は、Crが無
添加の36N i−F e合金に比較して著しく多くな
る。つまり素材に含まれるCrは、その焼鈍工程におい
て素材の0.2%耐力を大きく減少させる上で重要な作
用を呈する。
材にエツチングをし、多数の穴の開いたフラットマスク
を得た後の焼鈍工程において重要な役割を果たす。即ち
一般に、36N i−F e合金にCrを添加し、再結
晶温度以上で焼鈍しない場合、その室温での0.2%耐
力の増大を招き、例えばシャドウマスクとしての曲率を
保ごとが困難となり、Crの添加によって、その素材の
高強度化が図られるだけである。しかし本発明の如<C
rを添加した36N i−F e合金に特定の焼鈍処理
を施した場合、その0.2%耐力の減少量は、Crが無
添加の36N i−F e合金に比較して著しく多くな
る。つまり素材に含まれるCrは、その焼鈍工程におい
て素材の0.2%耐力を大きく減少させる上で重要な作
用を呈する。
ところで、Crの添加量が0,3wt%未満であると、
Cr無添加の36N i−F e合金と同様に焼鈍温度
を1200℃と高くしても、その0.2%耐力が20K
l / tm 2以下になることはない。またその添加
量が10wt%を越えた場合、熱膨張係数が90X10
/℃以上となり、色ずれの原因となるので高精細度
カラー受像管への採用には不適当である。またOrの添
加量が10wt%を越えた場合、その表面にCrOの保
rI&膜が形成され易く、表面黒化速度の低下を招く等
、黒化処理に不都合を生じる。尚、Cr量は低膨張性、
エツチング性、および廃液中の低クロム化を考慮した場
合、1〜4wt%とすることが好ましい。
Cr無添加の36N i−F e合金と同様に焼鈍温度
を1200℃と高くしても、その0.2%耐力が20K
l / tm 2以下になることはない。またその添加
量が10wt%を越えた場合、熱膨張係数が90X10
/℃以上となり、色ずれの原因となるので高精細度
カラー受像管への採用には不適当である。またOrの添
加量が10wt%を越えた場合、その表面にCrOの保
rI&膜が形成され易く、表面黒化速度の低下を招く等
、黒化処理に不都合を生じる。尚、Cr量は低膨張性、
エツチング性、および廃液中の低クロム化を考慮した場
合、1〜4wt%とすることが好ましい。
第2図は本発明に係る素材である、Orをewt%添加
した36Ni−Fe合金の焼鈍温度に対する0、2%耐
力の変化を特性A1、およびOrを3wt%添加した3
6Ni−Fe合金の焼鈍温度に対する0、2%耐力の変
化を特性A2として示すもので、特性Bは比較の為に示
したCr無添加の36N i−F e合金における焼鈍
温度に対する0、2%耐力の変化である。この図に示さ
れるように、その0.2%耐力は、室温においては本発
明に係る管内部品用素材の方が高いが、500℃以上で
焼鈍すると従来のものに比較してその0.2%耐力が十
分低くなる。例えば1oooo〜1200℃で真空焼鈍
した場合、本発明に係る管内部品用素材の0.2%耐力
は、12Kg/1tua”となるが、従来のCr無添加
のものにあっては、その0.2%耐力が22Kg/ m
2程度と大きい。従ってこのことからも、前記Crの
添加が焼鈍時における0、2%耐力の低減に大きく寄与
していることがわかる。尚、このCrと同様な作用を呈
するものとしてMnがある。従ってCrの一部をMnに
て置換することも可能である。
した36Ni−Fe合金の焼鈍温度に対する0、2%耐
力の変化を特性A1、およびOrを3wt%添加した3
6Ni−Fe合金の焼鈍温度に対する0、2%耐力の変
化を特性A2として示すもので、特性Bは比較の為に示
したCr無添加の36N i−F e合金における焼鈍
温度に対する0、2%耐力の変化である。この図に示さ
れるように、その0.2%耐力は、室温においては本発
明に係る管内部品用素材の方が高いが、500℃以上で
焼鈍すると従来のものに比較してその0.2%耐力が十
分低くなる。例えば1oooo〜1200℃で真空焼鈍
した場合、本発明に係る管内部品用素材の0.2%耐力
は、12Kg/1tua”となるが、従来のCr無添加
のものにあっては、その0.2%耐力が22Kg/ m
2程度と大きい。従ってこのことからも、前記Crの
添加が焼鈍時における0、2%耐力の低減に大きく寄与
していることがわかる。尚、このCrと同様な作用を呈
するものとしてMnがある。従ってCrの一部をMnに
て置換することも可能である。
また第3図は本発明に係る管内部品用素材を用いて形成
されたフラットマスクを水素中で900℃で焼鈍した時
の0.2%耐力の変化特性Cと、その熱膨張係数の変化
特性りとを、Crの添加量をパラメータとして示したも
のである。この図がらも、Crの添加量を0.3〜10
wt%とすれば、その焼鈍によって0.2%耐力を20
Kg / m 2以下に抑え得ることがわかる。
されたフラットマスクを水素中で900℃で焼鈍した時
の0.2%耐力の変化特性Cと、その熱膨張係数の変化
特性りとを、Crの添加量をパラメータとして示したも
のである。この図がらも、Crの添加量を0.3〜10
wt%とすれば、その焼鈍によって0.2%耐力を20
Kg / m 2以下に抑え得ることがわかる。
尚、従来、管内部品用素材の高強度化を目的として36
Ni−Fe合金にCrを添加する例として特開昭59−
59861号等がある。しかし、低耐力化を図るべく工
夫は全くなされてなく、その素材は単に高強度なだけで
あり、0.2%耐力の低減は図られていない。更に後述
するように、結晶粒度や組織も定めておらず、結局エツ
チング性の向上を図るべき工夫はなされていない。この
ような点を考慮すると、本発明に係る管内部品用素材と
は全く異なっていると云える。
Ni−Fe合金にCrを添加する例として特開昭59−
59861号等がある。しかし、低耐力化を図るべく工
夫は全くなされてなく、その素材は単に高強度なだけで
あり、0.2%耐力の低減は図られていない。更に後述
するように、結晶粒度や組織も定めておらず、結局エツ
チング性の向上を図るべき工夫はなされていない。この
ような点を考慮すると、本発明に係る管内部品用素材と
は全く異なっていると云える。
一方、この種の管内部品用素材としては、そのエツチン
グ性が優れていることが重要であり、素材自体の介在物
が少ないこと、つまり清浄性に浸れ、結晶粒度が均一で
、その板厚や成分分布が素材全体に亙っで均一であるこ
とが要求される。このうち上記板厚や成分分布の均一性
は圧延技術の進歩によって解決され、また介在物の存在
はその不可避成分を極力少なくすることによって解消す
ることができる。
グ性が優れていることが重要であり、素材自体の介在物
が少ないこと、つまり清浄性に浸れ、結晶粒度が均一で
、その板厚や成分分布が素材全体に亙っで均一であるこ
とが要求される。このうち上記板厚や成分分布の均一性
は圧延技術の進歩によって解決され、また介在物の存在
はその不可避成分を極力少なくすることによって解消す
ることができる。
従って、管内部品用素材のエツチング性で問題となるの
は、その結晶粒度と金属組織の均一性であると云える。
は、その結晶粒度と金属組織の均一性であると云える。
しかして、本発明では25〜45wt%のN1.0.3
〜10wt%のCr、残部Feおよび不可避不純物を含
む合金を溶解し、これに圧延・焼鈍を施した後、最終冷
延を圧延率40%以上、好ましくは80%以上で行った
後、500〜1200℃、好ましくは900〜1100
℃で焼鈍処理し、その後圧延率30%以下、好ましくは
20%以下で調整圧延し、必要に応じて歪取り焼鈍を加
えて結晶粒度が8〜12となるようにしている。尚、結
晶粒度が8に満たない場合には、その粒径が粗大化して
、例えば第4図(b)に示すようにエツチングによって
穴の間かない部分が生じる。また結晶粒度が12を越え
た場合、その微細化した結晶粒に起因して第5図のエツ
チング孔の断面図に示すようにエツチングによって開口
形成された孔の内壁に欠は部分が生じ、所謂ガサ穴とな
る。これ故、実用的にはその結晶粒度を8〜12にして
第4図(a)に示すように均一な孔を形成可能なように
することが必要である。好ましくは上記結晶粒度が9〜
11となるように調整する方が良い。ちなみに前記冷延
を圧延率40%以下で行うと、金属組織が揃い難くなり
、また8〜12の結晶粒度となることもない。また前記
焼鈍を500℃以下で行うと、再結晶しないのでその結
晶粒度を調整することができなくなり、1200℃以上
で焼鈍した場合にはその粒径が大きくなり過ぎる不具合
がある。つまりエツチング性を確保する上で、上記焼鈍
の温度範囲を上述したように規定することが必要である
。従って、上述したようにして素材を製造することが望
ましい。
〜10wt%のCr、残部Feおよび不可避不純物を含
む合金を溶解し、これに圧延・焼鈍を施した後、最終冷
延を圧延率40%以上、好ましくは80%以上で行った
後、500〜1200℃、好ましくは900〜1100
℃で焼鈍処理し、その後圧延率30%以下、好ましくは
20%以下で調整圧延し、必要に応じて歪取り焼鈍を加
えて結晶粒度が8〜12となるようにしている。尚、結
晶粒度が8に満たない場合には、その粒径が粗大化して
、例えば第4図(b)に示すようにエツチングによって
穴の間かない部分が生じる。また結晶粒度が12を越え
た場合、その微細化した結晶粒に起因して第5図のエツ
チング孔の断面図に示すようにエツチングによって開口
形成された孔の内壁に欠は部分が生じ、所謂ガサ穴とな
る。これ故、実用的にはその結晶粒度を8〜12にして
第4図(a)に示すように均一な孔を形成可能なように
することが必要である。好ましくは上記結晶粒度が9〜
11となるように調整する方が良い。ちなみに前記冷延
を圧延率40%以下で行うと、金属組織が揃い難くなり
、また8〜12の結晶粒度となることもない。また前記
焼鈍を500℃以下で行うと、再結晶しないのでその結
晶粒度を調整することができなくなり、1200℃以上
で焼鈍した場合にはその粒径が大きくなり過ぎる不具合
がある。つまりエツチング性を確保する上で、上記焼鈍
の温度範囲を上述したように規定することが必要である
。従って、上述したようにして素材を製造することが望
ましい。
また管内部品用素材をなす金属に、フェライト、マルテ
ンサイト、オーステナイト等の組織がそれぞれ存在する
と、これらの各組織のエツチング速度が異なることから
、孔づまり等が生じる虞れがある。これ故、一般的には
単一組織化することが望ましいが、その単一組織化処理
が困難であることがあるので上記オーステナイト組織が
80%以上を占めるようにすれば実用上十分である。具
体的には前述した製造方法によって管内部品用素材の結
晶粒度を8〜12とし、且つオーステナイト組織が80
%以上となるように調整圧延することによって、第4図
(a)に示す如き形状性に優れた所謂きれいな孔をエツ
チング処理によって効果的に得ることが可能となる。尚
、この調整圧延に関して、その圧延率を30%より大き
くすると、金属の集合組織が崩れることから好ましくな
い。
ンサイト、オーステナイト等の組織がそれぞれ存在する
と、これらの各組織のエツチング速度が異なることから
、孔づまり等が生じる虞れがある。これ故、一般的には
単一組織化することが望ましいが、その単一組織化処理
が困難であることがあるので上記オーステナイト組織が
80%以上を占めるようにすれば実用上十分である。具
体的には前述した製造方法によって管内部品用素材の結
晶粒度を8〜12とし、且つオーステナイト組織が80
%以上となるように調整圧延することによって、第4図
(a)に示す如き形状性に優れた所謂きれいな孔をエツ
チング処理によって効果的に得ることが可能となる。尚
、この調整圧延に関して、その圧延率を30%より大き
くすると、金属の集合組織が崩れることから好ましくな
い。
かくして本発明によれば、所定のNi−Fe系合金にC
「を添加して、その0.2%耐力を低減し、且つその成
形性を改善すると共に、その結晶粒度と金属組織を調整
してエツチング性を改善しているので、シャドウマスク
等を製作する素材として多大な効果を奏することができ
る。しかも従来の36Ni−Fe合金のように、高温で
真空焼鈍を行う必要がなくなり、温間プレスする等の手
間がなくなる。そして1200℃以下の焼鈍によって、
十分にその成形加工が可能となり、またエツチング処理
時間の短縮化を図って均一なエツチング孔を得ることが
可能となる。
「を添加して、その0.2%耐力を低減し、且つその成
形性を改善すると共に、その結晶粒度と金属組織を調整
してエツチング性を改善しているので、シャドウマスク
等を製作する素材として多大な効果を奏することができ
る。しかも従来の36Ni−Fe合金のように、高温で
真空焼鈍を行う必要がなくなり、温間プレスする等の手
間がなくなる。そして1200℃以下の焼鈍によって、
十分にその成形加工が可能となり、またエツチング処理
時間の短縮化を図って均一なエツチング孔を得ることが
可能となる。
また熱膨張係数も90X 10 / ℃以下であり、
従来のA2キルド鋼やリムド鋼に比較して小さくするこ
とが可能となる。これ故、色ずれの少ないカラー受像管
を容易に実現することが可能となる等の効果が奏せられ
る。
従来のA2キルド鋼やリムド鋼に比較して小さくするこ
とが可能となる。これ故、色ずれの少ないカラー受像管
を容易に実現することが可能となる等の効果が奏せられ
る。
更には、その表面の黒化処理においても、例えばNi
Cr Fe、x−、Ot等のち密で黒化度の高いy 黒色酸化膜を容易に形成することが可能となる等の効果
が奏せられる。
Cr Fe、x−、Ot等のち密で黒化度の高いy 黒色酸化膜を容易に形成することが可能となる等の効果
が奏せられる。
次に本発明の実施例につき説明する。
[実施例−1]
先ず、36%NiとFeを主成分とし、Crを6yvt
%含み、対陣的成分としてCを0.005wt%、$1
を0.01wt%、およびPとSとをそれぞれ0.00
1wt%づつ含む合金のインゴットを真空溶解で作製し
た。次にこのインゴットを繰返し熱延した後、酸洗して
1次および2次冷延を施した。この処理における圧延率
は80%とした。
%含み、対陣的成分としてCを0.005wt%、$1
を0.01wt%、およびPとSとをそれぞれ0.00
1wt%づつ含む合金のインゴットを真空溶解で作製し
た。次にこのインゴットを繰返し熱延した後、酸洗して
1次および2次冷延を施した。この処理における圧延率
は80%とした。
しかる後、箱型の焼鈍炉において、10’ torr。
800℃で上記圧延処理された素材を焼鈍した後、圧延
率10%で調整圧延を行った。この調整圧延によって、
JIS−GO551に規定される結晶粒度が10のオー
ステナイト組織を有する管内部品用素材を得た。
率10%で調整圧延を行った。この調整圧延によって、
JIS−GO551に規定される結晶粒度が10のオー
ステナイト組織を有する管内部品用素材を得た。
このようにして製作された管内部品用素材を用いて、次
のようにしてシャドウマスクを製作した。
のようにしてシャドウマスクを製作した。
先ず、素材の両表面にフォトレジストを塗布し、これを
乾燥した後、その両面にスロット或いはドツト形状の基
準パターンを形成したフィルムを密着させて、前記フォ
トレジストを露光・現像した。
乾燥した後、その両面にスロット或いはドツト形状の基
準パターンを形成したフィルムを密着させて、前記フォ
トレジストを露光・現像した。
この現像によって未露光部分のフォトレジストが溶解除
去される。しかる後、残されたフォトレジストをバーニ
ングして硬化させた後、塩化第二鉄溶液でエツチング処
理し、その後その残存レジストを熱アルカリによって除
去してシャドウマスクの原板となるフラットマスクを作
製した。
去される。しかる後、残されたフォトレジストをバーニ
ングして硬化させた後、塩化第二鉄溶液でエツチング処
理し、その後その残存レジストを熱アルカリによって除
去してシャドウマスクの原板となるフラットマスクを作
製した。
このフラットマスクを箱型の真空加熱炉に入れ、10’
torr、 1000℃の雰囲気で焼鈍し、歪取りと
その加工性の改善を行った後、この焼鈍後のフラットマ
スクをレベラーに通して板歪を除去し、同時に成形工程
におけるストレッチャーストレインを減少させた。尚、
この真空焼鈍は、フラットマスク中の溶存C量の減少と
、その結晶粒径の粗大化による0、2%耐力の低減を目
的として行った。これによってその後のプレス成形の容
易化を図った。
torr、 1000℃の雰囲気で焼鈍し、歪取りと
その加工性の改善を行った後、この焼鈍後のフラットマ
スクをレベラーに通して板歪を除去し、同時に成形工程
におけるストレッチャーストレインを減少させた。尚、
この真空焼鈍は、フラットマスク中の溶存C量の減少と
、その結晶粒径の粗大化による0、2%耐力の低減を目
的として行った。これによってその後のプレス成形の容
易化を図った。
次に上記フラットマスクをプレス成形して、所定の曲面
を有するシャドウマスクを得た。この際、0.2%耐力
が小さく、その成形性が極めて良好で、スプリングバッ
クが生じないことが確認された。
を有するシャドウマスクを得た。この際、0.2%耐力
が小さく、その成形性が極めて良好で、スプリングバッ
クが生じないことが確認された。
同時にシャドウマスクの幅方向および長手方向の特性が
均一であり、特性の所謂ばらつきに起因する成形性不良
の発生がないことも確認された。
均一であり、特性の所謂ばらつきに起因する成形性不良
の発生がないことも確認された。
その後、上記シャドウマスクをトリクロロエチレンの蒸
気で洗浄し、700℃に保持された連続黒化炉で20分
間加熱して、密着性の良い黒化膜を厚み1.5uIn成
長させてシャドウマスクを完成させた。
気で洗浄し、700℃に保持された連続黒化炉で20分
間加熱して、密着性の良い黒化膜を厚み1.5uIn成
長させてシャドウマスクを完成させた。
[実施例−2,3コ
36%Ni とFeを主成分とし、crを3wt%また
は8wt%含み、対陣的成分としてCを0.05wt%
、Siを0,02wt%、およびPとSとをそれぞれ0
.001wt%づつ含む合金のインゴットを準備した。
は8wt%含み、対陣的成分としてCを0.05wt%
、Siを0,02wt%、およびPとSとをそれぞれ0
.001wt%づつ含む合金のインゴットを準備した。
しかる後、この合金インゴットを用いて上記[実施例−
1コと同様にしてシャドウマスクを形成した。
1コと同様にしてシャドウマスクを形成した。
この実施例においても、スプリングバックが発生するこ
とがなく、その成形性が極めて良好であることが確認さ
れた。
とがなく、その成形性が極めて良好であることが確認さ
れた。
次表は、36N i−4Cr−F eの結晶粒度を前述
した実施例に示されるようにして、JIS−GO551
における8〜12に調整した本発明に係る管内部品用素
材(試料)■、■につぃて、そのエツチング性と成形性
について示したものである。
した実施例に示されるようにして、JIS−GO551
における8〜12に調整した本発明に係る管内部品用素
材(試料)■、■につぃて、そのエツチング性と成形性
について示したものである。
尚、比較例として示した試料■は、
36N i−4Cr−F eの結晶粒度を調整していな
いものであり、また試料■は、圧延を施して結晶粒度を
細かくしたもので、いずれもエツチング性が悪い。更に
試料■では、多少ではあるがソリが生じることが確認さ
れた。
いものであり、また試料■は、圧延を施して結晶粒度を
細かくしたもので、いずれもエツチング性が悪い。更に
試料■では、多少ではあるがソリが生じることが確認さ
れた。
尚、上記表において、金属組織はX線回折法によって測
定されたオーステナイト組織の割合いを示しており、エ
ツチング性の良否はそのマスク面において99%以上の
開孔があり、その孔内壁がガサ穴になっていない場合を
良、99%以上の開孔があっても、その孔内壁がガサ穴
になっている場合にはやや不良としている。また成形性
については、エツチング加工したフラットマスクを真空
中で110o℃で焼鈍した後、これを成形したときのス
プリングバックが20譚以下のものを良としている。
定されたオーステナイト組織の割合いを示しており、エ
ツチング性の良否はそのマスク面において99%以上の
開孔があり、その孔内壁がガサ穴になっていない場合を
良、99%以上の開孔があっても、その孔内壁がガサ穴
になっている場合にはやや不良としている。また成形性
については、エツチング加工したフラットマスクを真空
中で110o℃で焼鈍した後、これを成形したときのス
プリングバックが20譚以下のものを良としている。
この表に示されるように本発明に係る管内部品用素材に
よれば、そのエツチング性と共に、その成形性をも良好
なものとすることができ、その効果は多大である。また
N1を25〜35wt%、coを1〜7wt%含み、残
部をl”eとした合金にOrを添加するようにしても同
様な効果が奏せられる。
よれば、そのエツチング性と共に、その成形性をも良好
なものとすることができ、その効果は多大である。また
N1を25〜35wt%、coを1〜7wt%含み、残
部をl”eとした合金にOrを添加するようにしても同
様な効果が奏せられる。
つまり、coを添加し、熱膨張係数を更に小さくした材
料は、Co無添加の場合よりも0.2%耐力が2〜5に
9 / m 2程度高く、成形性が悪くなる。
料は、Co無添加の場合よりも0.2%耐力が2〜5に
9 / m 2程度高く、成形性が悪くなる。
従って、Orの添加によって熱膨張率を大きくすること
なしに、上記0.2%耐力を似下させる本発明に係る素
材は非常に有用であると云える。
なしに、上記0.2%耐力を似下させる本発明に係る素
材は非常に有用であると云える。
尚、ここではシャドウマスクの形成を例に説明したが、
本発明に係る管内部品用素材を用いてカラー受像管のイ
ンナーシールドやフレーム、バイメタル等を製作するこ
とも可能である。その他、本発明はその要旨を逸脱しな
い範囲で種々変形して実施することができる。
本発明に係る管内部品用素材を用いてカラー受像管のイ
ンナーシールドやフレーム、バイメタル等を製作するこ
とも可能である。その他、本発明はその要旨を逸脱しな
い範囲で種々変形して実施することができる。
第1図は0.2%耐力とスプリングバックとの関係を示
す図、第2図は焼鈍温度に対する0、2%耐力の変化を
示す図、第3図はCrの添加量に対する熱膨張係数と0
.2%耐力の変化を示す図、第4図および第5図はエツ
チング性について説明する為の図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 0.2°1.耐力(にg/mm2) 第2図 焼鈍1度(0C) 第3図 36Ni−Fe中へncrの’A加量 (皇i・/、)
第4図 第5図
す図、第2図は焼鈍温度に対する0、2%耐力の変化を
示す図、第3図はCrの添加量に対する熱膨張係数と0
.2%耐力の変化を示す図、第4図および第5図はエツ
チング性について説明する為の図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 0.2°1.耐力(にg/mm2) 第2図 焼鈍1度(0C) 第3図 36Ni−Fe中へncrの’A加量 (皇i・/、)
第4図 第5図
Claims (7)
- (1)Feを主成分とし、25〜45wt%のNi、0
.3〜10wt%のCr、および不可避不純物を含有し
た合金からなり、この合金のJIS−GO551で規定
されるところの結晶粒度を8〜12に設定してなること
を特徴とする管内部品用素材。 - (2)合金は、オーステナイト組織を80%以上形成し
たものである特許請求の範囲第1項記載の管内部品用素
材。 - (3)25〜45wt%のNi、0.3〜10wt%の
Cr、残部Feおよび不可避不純物を溶解し、これに圧
延・焼鈍を施した後、最終冷延を圧延率40%以上で行
い、500〜1200℃の温度範囲で焼鈍処理し、その
後、圧延率30%以下で調整圧延してJIS−G055
1で規定されるところの結晶粒度を8〜12に設定した
合金からなる管内部品用素材を製造してなることを特徴
とする管内部品用素材の製造方法。 - (4)最終冷延の圧延率は、80%以上である特許請求
の範囲第3項記載の管内部品用素材の製造方法。 - (5)調整圧延は、圧延処理の後、800℃以下で歪取
り焼鈍を行って終了するものである特許請求の範囲第3
項記載の管内部品用素材の製造方法。 - (6)管内部品用素材をなす金属は、80%以上のオー
ステナイト組織を形成したものである特許請求の範囲第
3項記載の管内部品用素材の製造方法。 - (7)管内部品用素材は、カラー受像管におけるシャド
ウマスク、インナーシールド、フレーム、バイメタル等
の管内部品の形成素材となるものである特許請求の範囲
第3項記載の管内部品用素材の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186874A JPS6164853A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 管内部品用素材とその製造方法 |
| EP85306308A EP0174196B1 (en) | 1984-09-06 | 1985-09-05 | Material for in-tube components & method of manufacture thereof |
| DE8585306308T DE3569061D1 (en) | 1984-09-06 | 1985-09-05 | Material for in-tube components & method of manufacture thereof |
| US06/773,235 US4724012A (en) | 1984-09-06 | 1985-09-06 | Material for in-tube components and method of manufacturing it |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186874A JPS6164853A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 管内部品用素材とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6164853A true JPS6164853A (ja) | 1986-04-03 |
| JPH0536491B2 JPH0536491B2 (ja) | 1993-05-31 |
Family
ID=16196186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59186874A Granted JPS6164853A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 管内部品用素材とその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4724012A (ja) |
| JP (1) | JPS6164853A (ja) |
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| US6824625B2 (en) | 2000-07-24 | 2004-11-30 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Magnetostriction control alloy sheet, a part of a braun tube, and a manufacturing method for a magnetostriction control alloy sheet |
| JP2016027187A (ja) * | 2014-07-02 | 2016-02-18 | 新報国製鉄株式会社 | 高剛性低熱膨張鋳物及びその製造方法 |
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1984
- 1984-09-06 JP JP59186874A patent/JPS6164853A/ja active Granted
-
1985
- 1985-09-06 US US06/773,235 patent/US4724012A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
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|---|---|
| US4724012A (en) | 1988-02-09 |
| JPH0536491B2 (ja) | 1993-05-31 |
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