JPS63129681A - エキシマレ−ザ装置 - Google Patents
エキシマレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS63129681A JPS63129681A JP61277194A JP27719486A JPS63129681A JP S63129681 A JPS63129681 A JP S63129681A JP 61277194 A JP61277194 A JP 61277194A JP 27719486 A JP27719486 A JP 27719486A JP S63129681 A JPS63129681 A JP S63129681A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- excimer laser
- electrodes
- preliminary
- ionization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は希ガスハライド放電励起を利用したエキシマレ
ーザ装置に関する。
ーザ装置に関する。
従来の技術
エキシマレーザは紫外線を放射するレーザ装置で、半導
体プロセス、化学工業、医療、エネルギー分野などへの
応用展開が期待されている。
体プロセス、化学工業、医療、エネルギー分野などへの
応用展開が期待されている。
放電励起エキシマレーザでは、高気圧(2〜6気圧)の
レーザガスを空間的に均一に、かつ高速パルス放電させ
ることによってエキシマを励起する。一様なグロー放電
を実現するためには、主放電に先行してレーザガスをあ
らかじめわずかに電離(予備電離)させることが重要不
可欠な技術となっている。レーザ出力、出力の安定性、
レーザビームの断面の寸法等は、予備電離で生成される
電子の数・空聞的均−性に強く依存する。予備電離法に
は、紫外光(以下UV光と記す)、コロナ。
レーザガスを空間的に均一に、かつ高速パルス放電させ
ることによってエキシマを励起する。一様なグロー放電
を実現するためには、主放電に先行してレーザガスをあ
らかじめわずかに電離(予備電離)させることが重要不
可欠な技術となっている。レーザ出力、出力の安定性、
レーザビームの断面の寸法等は、予備電離で生成される
電子の数・空聞的均−性に強く依存する。予備電離法に
は、紫外光(以下UV光と記す)、コロナ。
X線などを用いた方法がある。このうち比較的Hi単で
コストが低いυV光子備電離法が盛んに用いられている
。
コストが低いυV光子備電離法が盛んに用いられている
。
従来のUV光子備電離法は、主放電電極の片側または両
側にUV光光子電電乱用電極アーク放電部が主放電部に
対して略平行な一本の直線状になるよう配置し、主放電
より一定間間前に予備電離放電列 行わせるので二重放電法とも呼ばれる。
側にUV光光子電電乱用電極アーク放電部が主放電部に
対して略平行な一本の直線状になるよう配置し、主放電
より一定間間前に予備電離放電列 行わせるので二重放電法とも呼ばれる。
発明が解決しようとする問題点
υν光光子型電離方法おいては、予備電離が不均一であ
ったり、予備電&短が少ないと主放電は不均一なアーク
になりやすいが、ある閾値を越えていれば安定なグロー
放電が得られ、その閾値は約105電子/ccとされて
いる。
ったり、予備電&短が少ないと主放電は不均一なアーク
になりやすいが、ある閾値を越えていれば安定なグロー
放電が得られ、その閾値は約105電子/ccとされて
いる。
しかし従来の方法では、均一で十分な予備電離量が得れ
ない。また、主放電は数10n3とboう極めて短時間
の内に行なわれるので放電中に電子のドリフトが生ずる
事は考えられない。したがって、予備電電による電離電
子の発生が最も望ましい所に行なわれる事が必要である
。
ない。また、主放電は数10n3とboう極めて短時間
の内に行なわれるので放電中に電子のドリフトが生ずる
事は考えられない。したがって、予備電電による電離電
子の発生が最も望ましい所に行なわれる事が必要である
。
ところが従来の予備電離用電極の配置方法では、この位
置の適正化や均一化を行うことはできない。
置の適正化や均一化を行うことはできない。
本発明はUV光子備電離法の効果を促進させて均一で多
量の電−電子を発生させレーザ出力の安定化と増大、レ
ーザビームの空間的均一化の向上を図ることを目的とす
るものである。
量の電−電子を発生させレーザ出力の安定化と増大、レ
ーザビームの空間的均一化の向上を図ることを目的とす
るものである。
問題点を解決するための手段
本発明は対向した主放電電極の長手方向の少なくとも一
方に複数個の予備電離電極対を設け、主放電電極の一方
の側において主放電電極の長手方向に対して2本以上の
アーク放電列を形成するようにしたエキシマレーザ装置
を提供するものである。
方に複数個の予備電離電極対を設け、主放電電極の一方
の側において主放電電極の長手方向に対して2本以上の
アーク放電列を形成するようにしたエキシマレーザ装置
を提供するものである。
作 用
上記構成によれば、複数本の予備電離放電列によって発
生したUV光が対向した主放電電極の有効放電領域内に
均一に照射され、主放電領域内に安定で均一な亀Nbを
発生し安定なグロー放電を得ることができ、レーザビー
ムの空間的均一化の向上とレーザ出力が安定する。
生したUV光が対向した主放電電極の有効放電領域内に
均一に照射され、主放電領域内に安定で均一な亀Nbを
発生し安定なグロー放電を得ることができ、レーザビー
ムの空間的均一化の向上とレーザ出力が安定する。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の第1の実施例につい
て説明する。
て説明する。
第1図は本発明の第1の実施例におけるエキシマレーザ
装置を示す斜視図、第2囚はそのA −A’線断面図で
ある。図において主放電電極1及び2間にグロー放電領
域aを生じ、このグロー放電がエキシマレーザ光の発生
に寄与する。一方予備電離は予備放電電極4及び6間と
5及び6間でほとんど同時に発生し、UV光7及び8を
発生する。
装置を示す斜視図、第2囚はそのA −A’線断面図で
ある。図において主放電電極1及び2間にグロー放電領
域aを生じ、このグロー放電がエキシマレーザ光の発生
に寄与する。一方予備電離は予備放電電極4及び6間と
5及び6間でほとんど同時に発生し、UV光7及び8を
発生する。
予備放電電極4,5.6はレーザ管の長さ方向に数10
対設けられ長さ方向の各所においてUV光7及び8を発
生させる。したがって予備放電によるアーク放電列は主
放電電極1,2の長手方向に2列形成される。9及び1
0は電極4及び5へのリードを兼ねた支持体である。1
1及び12は電極6の支持体で絶縁物で形成される。1
3は全反射鏡、14は出力結合鏡、15は出力ビームで
ある。なお実際のレーザでは真空容器、送風装置、冷却
装置等のその他の部品や装置が必要であるが、それらは
エキシマレーザの分野では既知の技術であるし、本発明
での本質な部分でないので図示を省略した。
対設けられ長さ方向の各所においてUV光7及び8を発
生させる。したがって予備放電によるアーク放電列は主
放電電極1,2の長手方向に2列形成される。9及び1
0は電極4及び5へのリードを兼ねた支持体である。1
1及び12は電極6の支持体で絶縁物で形成される。1
3は全反射鏡、14は出力結合鏡、15は出力ビームで
ある。なお実際のレーザでは真空容器、送風装置、冷却
装置等のその他の部品や装置が必要であるが、それらは
エキシマレーザの分野では既知の技術であるし、本発明
での本質な部分でないので図示を省略した。
本実施例によれば、各予備放電電極4,6間及び5,6
間にほとんど同時に発生したUV光7゜8は、主放電電
極1,2間に均一に照射するので主放電領域3円に安定
で均一な電離を発生し安定なグロー放電を得ることがで
きる。
間にほとんど同時に発生したUV光7゜8は、主放電電
極1,2間に均一に照射するので主放電領域3円に安定
で均一な電離を発生し安定なグロー放電を得ることがで
きる。
次に本発明の第2の冥施偶について説明する。
第3図は本実施例におけるエキシマレーザ装置を示す斜
視図、第4図はその日−B′線Vit面である。
視図、第4図はその日−B′線Vit面である。
第3−及び4図において、第1図及び2図の構成と異な
る点は、予備放電電極構造を簡単にするために得られる
UV光7は予備放電電極4及び5間のみとし、さらに1
対毎の予備放電電極4及び5のギャップ位置点を1本お
きに上下交互に設けるようにした点である。
る点は、予備放電電極構造を簡単にするために得られる
UV光7は予備放電電極4及び5間のみとし、さらに1
対毎の予備放電電極4及び5のギャップ位置点を1本お
きに上下交互に設けるようにした点である。
上記実施例によれば、となりあった予備放電電極4と5
のギャップの位置が異なり上下2本のアーク放電列が形
成されるため主放電電極1,2の有効放電領域3に均一
に照射することができ、安定で均一な電離を発生するこ
とにより安定なグロー放電を得ることができる。
のギャップの位置が異なり上下2本のアーク放電列が形
成されるため主放電電極1,2の有効放電領域3に均一
に照射することができ、安定で均一な電離を発生するこ
とにより安定なグロー放電を得ることができる。
なお、主放電領=Sの片側におけるアーク放電列は2本
に限らず複数本設けることにより主放電領域3に均一な
UV光を照射することができる。
に限らず複数本設けることにより主放電領域3に均一な
UV光を照射することができる。
発明の効果
以上のように、本発明は予備放電によるアーク放電列を
複数本設はエキシマレーザ装置の主放電電極間に安定で
均一な予備放電によるUV光を照射させるようにしたも
ので、予備電殖効果を促進させて均一で多量の電離電子
を発生させレーザ出力の安定化と増大、レーザビームの
空間的均一化の向上を図ることができ、その効果は大き
い。
複数本設はエキシマレーザ装置の主放電電極間に安定で
均一な予備放電によるUV光を照射させるようにしたも
ので、予備電殖効果を促進させて均一で多量の電離電子
を発生させレーザ出力の安定化と増大、レーザビームの
空間的均一化の向上を図ることができ、その効果は大き
い。
第1図は本発明の第1の実施例におけるエキシマレーザ
装置の要部斜視図、第2図は第1図のAAZ線断面図、
第8図は本発明の第2の実施例におけるエキシマレーザ
装置の要部斜視図、第4図は第3図のB−8’線断面因
である。 1.2・・・・・・主放電電極、a・・・・・・主放電
グロー領域、4,5.6・・・・・・予備電離用放電電
極、7,8・・・・・・UV光、9,10・・・・・・
支持体、11.12・・・・・・支持台、13・・・・
・・全反射鏡、14・・・・・・出力結合鏡、15・・
・・・・出力ビーム。 第2図
装置の要部斜視図、第2図は第1図のAAZ線断面図、
第8図は本発明の第2の実施例におけるエキシマレーザ
装置の要部斜視図、第4図は第3図のB−8’線断面因
である。 1.2・・・・・・主放電電極、a・・・・・・主放電
グロー領域、4,5.6・・・・・・予備電離用放電電
極、7,8・・・・・・UV光、9,10・・・・・・
支持体、11.12・・・・・・支持台、13・・・・
・・全反射鏡、14・・・・・・出力結合鏡、15・・
・・・・出力ビーム。 第2図
Claims (3)
- (1)対向した主放電電極対の長手方向の少なくとも片
側に陰極と陽極を具備した複数個の予備放電電極対を設
け、各予備電極対で構成される放電部が前記長手方向に
沿って複数列形成されることを特徴とするエキシマレー
ザ装置。 - (2)一対の予備放電電極に複数の放電部が設けられた
特許請求の範囲第1項記載のエキシマレーザ装置。 - (3)一対の予備放電電極に一つの放電部が設けられ、
各放電部の高さ位置が隣接する予備放電電極で異なって
いる特許請求の範囲第1項記載のエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61277194A JPS63129681A (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | エキシマレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61277194A JPS63129681A (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | エキシマレ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63129681A true JPS63129681A (ja) | 1988-06-02 |
Family
ID=17580118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61277194A Pending JPS63129681A (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | エキシマレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63129681A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63228774A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ装置 |
| JPH04146678A (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-20 | Nec Corp | レーザ装置 |
-
1986
- 1986-11-20 JP JP61277194A patent/JPS63129681A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63228774A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ装置 |
| JPH04146678A (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-20 | Nec Corp | レーザ装置 |
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