JPS6313109A - 複合磁気ヘツド及びその製法 - Google Patents
複合磁気ヘツド及びその製法Info
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- JPS6313109A JPS6313109A JP15710586A JP15710586A JPS6313109A JP S6313109 A JPS6313109 A JP S6313109A JP 15710586 A JP15710586 A JP 15710586A JP 15710586 A JP15710586 A JP 15710586A JP S6313109 A JPS6313109 A JP S6313109A
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- reproducing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は例えばフロッピーディスクドライブ装置の記
録、再生に用いられる複合磁気ヘッド及びその製法に関
するものである。
録、再生に用いられる複合磁気ヘッド及びその製法に関
するものである。
[従来の技術]
第12図は1例えば特開昭60−150215号に記載
されている従来の複合磁気ヘッドを示す斜視図である。
されている従来の複合磁気ヘッドを示す斜視図である。
図において(la) (lb)は記録再生用り形コア、
記録再生用■形コア(以下R/W用Lコア、R/W用■
コアと呼ぶ)、 (2a)(2b)は消去用り形コア、
消去用工形コア(以下E用Lコア、E用エコアと呼ぶ)
、 (4)(5)は上記各記録再生用コア、消去用コア
の巻線窓、 (6) (7) (8)はガラス等からな
る非磁性補強材、(9010)はEギャップ、(11)
はR/Wギャップである。
記録再生用■形コア(以下R/W用Lコア、R/W用■
コアと呼ぶ)、 (2a)(2b)は消去用り形コア、
消去用工形コア(以下E用Lコア、E用エコアと呼ぶ)
、 (4)(5)は上記各記録再生用コア、消去用コア
の巻線窓、 (6) (7) (8)はガラス等からな
る非磁性補強材、(9010)はEギャップ、(11)
はR/Wギャップである。
以上の構成からなる従来の複合磁気ヘッドは以下のよう
な製法によって形成される。第13図は。
な製法によって形成される。第13図は。
その工程を示す図であり、先ず第12図のR/W用Lコ
ア(1a)とR/V用エコア(1b)及びE用Lコア(
2a)とE用エコア(2b)のブロックを各々、第13
図の(a)に示すようにガラス溶着を行なう。次に溶着
されて一体になったR/Wコアブロック(100)、E
コアブロック(200)の各々に回転砥石を使った加工
機械でトラック幅規制用溝Cを第13図(b)に示すよ
うに設ける6次にR/vコアブロック(100)とEコ
アブロック(200)を接着するためのガラスをどちら
かのコア側に蒸着し、ガラスモールド用の溶着治具にR
/Vコアブロック(100)とEコアブロック(200
)のトラックを合わせながら第13図(C)に示すよう
にセットする。このようにして一体化された複合磁気ヘ
ッドブロック(300)を炉の温度を上げて複合磁気ヘ
ッドブロック(300)上のガラスを溶かし、第13図
(d)に示すように溶着する。そうしたのち、表面の余
剰ガラスを研磨により取り除き、第13図(e)に示す
ように、その表面をフラットとする。こうしてでき上が
った複合磁気ヘッドブロック(300)を、次に薄切り
機械により切断し、チップを所要の厚み寸法に、第13
図(f)に示すように研磨仕上げを行なう。次に脚部の
先端を所要のチップ(300a)長さに切断することに
より第12図に示すヘッドチップすなわち複合磁気ヘッ
ドが得られる。
ア(1a)とR/V用エコア(1b)及びE用Lコア(
2a)とE用エコア(2b)のブロックを各々、第13
図の(a)に示すようにガラス溶着を行なう。次に溶着
されて一体になったR/Wコアブロック(100)、E
コアブロック(200)の各々に回転砥石を使った加工
機械でトラック幅規制用溝Cを第13図(b)に示すよ
うに設ける6次にR/vコアブロック(100)とEコ
アブロック(200)を接着するためのガラスをどちら
かのコア側に蒸着し、ガラスモールド用の溶着治具にR
/Vコアブロック(100)とEコアブロック(200
)のトラックを合わせながら第13図(C)に示すよう
にセットする。このようにして一体化された複合磁気ヘ
ッドブロック(300)を炉の温度を上げて複合磁気ヘ
ッドブロック(300)上のガラスを溶かし、第13図
(d)に示すように溶着する。そうしたのち、表面の余
剰ガラスを研磨により取り除き、第13図(e)に示す
ように、その表面をフラットとする。こうしてでき上が
った複合磁気ヘッドブロック(300)を、次に薄切り
機械により切断し、チップを所要の厚み寸法に、第13
図(f)に示すように研磨仕上げを行なう。次に脚部の
先端を所要のチップ(300a)長さに切断することに
より第12図に示すヘッドチップすなわち複合磁気ヘッ
ドが得られる。
[発明が解決しようとする問題点]
従来の複合磁気ヘッドは以上のように構成されているの
で、金属酸化物であるフェライトのコアが高保磁力媒体
に対して十分な記録を行なうことができないという問題
点があった。
で、金属酸化物であるフェライトのコアが高保磁力媒体
に対して十分な記録を行なうことができないという問題
点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、高保磁力媒体に対しても十分な記録ができる
高性能な複合磁気ヘッドを得ることを目的としている。
たもので、高保磁力媒体に対しても十分な記録ができる
高性能な複合磁気ヘッドを得ることを目的としている。
[問題点を解決するための手段]
この発明の第1の発明に係る複合磁気ヘッドは記録再生
用コアとセンターコアそれぞれにそれらコア間のギャッ
プ対向面に、この面に対して非平行な溝を設け、その溝
にセンダスト、アモルファス等からなる高飽和磁束密度
材を充填して形成したものである。
用コアとセンターコアそれぞれにそれらコア間のギャッ
プ対向面に、この面に対して非平行な溝を設け、その溝
にセンダスト、アモルファス等からなる高飽和磁束密度
材を充填して形成したものである。
またこの発明の第2.第3の発明に係る複合磁気ヘッド
の製造方法は、記録再生用コアブロックとセンターコア
ブロックに溝を加工する工程と。
の製造方法は、記録再生用コアブロックとセンターコア
ブロックに溝を加工する工程と。
この溝に高飽和磁束密度材を充填したのち鏡面研磨し、
さらにそれらコアブロックに対して凹溝を加工する工程
と、そののち非磁性材を成膜するとともにそれら各コア
ブロックをガラスにより一体溶着する工程と、このよう
にして形成された複合磁気ヘッドブロックを薄切り及び
ラップ加工する工程とにより複合磁気ヘッドを製造する
ものである。
さらにそれらコアブロックに対して凹溝を加工する工程
と、そののち非磁性材を成膜するとともにそれら各コア
ブロックをガラスにより一体溶着する工程と、このよう
にして形成された複合磁気ヘッドブロックを薄切り及び
ラップ加工する工程とにより複合磁気ヘッドを製造する
ものである。
[作 用]
この発明における複合磁気ヘッドは、R/wギャップの
近傍部に、高飽和磁束密度材を埋設しているので、高保
磁力媒体に十分な記録ができ、フェライトと、高飽和磁
束密度材との界面とギャップ面が非平行であるので、コ
ンタ−効果による特性の低下がない。
近傍部に、高飽和磁束密度材を埋設しているので、高保
磁力媒体に十分な記録ができ、フェライトと、高飽和磁
束密度材との界面とギャップ面が非平行であるので、コ
ンタ−効果による特性の低下がない。
[実施例]
以下この発明の一実施例を図について説明する。
第1図において、(1)(2)(3)は1Mn−Zn、
Ni−Zn等の単結晶及び多結晶からなるそれぞれ記
録再生用コア(以下R/11コアという)、消去用コア
(以下Eコアという)、及びセンターコア、(4)(5
)はこれらR/Vコア(1)及びEコア(2)の巻線窓
、(6)〜(10)はガラス等からなる非磁性補強材、
(11)はR/Itギャップ、 (12)(13)は
Eギャップ、(14) (15)はこの発明の特徴を示
し、センダスト、あるいはアモルファス合金等からなる
高飽和磁束密度材であり、フェライトの境界面とギャッ
プ面とが非平行となるようV形に成形されたものである
。
Ni−Zn等の単結晶及び多結晶からなるそれぞれ記
録再生用コア(以下R/11コアという)、消去用コア
(以下Eコアという)、及びセンターコア、(4)(5
)はこれらR/Vコア(1)及びEコア(2)の巻線窓
、(6)〜(10)はガラス等からなる非磁性補強材、
(11)はR/Itギャップ、 (12)(13)は
Eギャップ、(14) (15)はこの発明の特徴を示
し、センダスト、あるいはアモルファス合金等からなる
高飽和磁束密度材であり、フェライトの境界面とギャッ
プ面とが非平行となるようV形に成形されたものである
。
第2図はこの発明の他の実施例を示し、第1図と同一符
号は同−或は相当部分を示す。第2図において第1図と
異なっている点は非磁性補強材(6)〜(10)の形成
状態とR/11ギャップ部の高飽和磁束密度材(14)
(15)の形状である。
号は同−或は相当部分を示す。第2図において第1図と
異なっている点は非磁性補強材(6)〜(10)の形成
状態とR/11ギャップ部の高飽和磁束密度材(14)
(15)の形状である。
即ち非磁性補強材(6) (7)が充填されているR/
W用トシトラック幅規制用凹溝第1図のものはR/Wコ
ア(1)とセンターコア(3)とにわたって形成されて
いるのに対し、第2図のものはR/wコア(1)にのみ
形成されており、一方弁磁性補強材(8)〜(10)が
充填されているE用トラック幅規制用凹溝が。
W用トシトラック幅規制用凹溝第1図のものはR/Wコ
ア(1)とセンターコア(3)とにわたって形成されて
いるのに対し、第2図のものはR/wコア(1)にのみ
形成されており、一方弁磁性補強材(8)〜(10)が
充填されているE用トラック幅規制用凹溝が。
第1図のものはEコア(2)にのみ形成されているのに
対し、第2図のものはEコア(2)とセンターコア(3
)にわたって形成されている。又、高飽和磁束密度材(
14) (15)が充填されている溝の形状が第1図の
ものがV形であるのに対し、第2図のものはU形である
。
対し、第2図のものはEコア(2)とセンターコア(3
)にわたって形成されている。又、高飽和磁束密度材(
14) (15)が充填されている溝の形状が第1図の
ものがV形であるのに対し、第2図のものはU形である
。
以上のような構成からなる第1図に示す複合磁気ヘッド
は以下に記述する製法の一例によってその構成が得られ
る。す・なわち、先ず、Mn−Zn、Ni−Zn等から
なる単結晶又は多結晶のフェライトのR/Wコア(1)
及びセンターコア(3)[第3図に示すR/Wコア(1
)と第6図に示すセンターコア(3)コにセンダスト又
はアモルファス合金等を埋設するためのV形の溝A、B
を研削加工で設ける。次にこれら各々のコア(1)(3
)にセンダスト又はアモルファス合金をスパッタリング
、又はイオンブレーティング等の手法により、第3図、
第6図に示す斜線部(F)のように形成する。そしてセ
ンダスト、又はアモルファス合金の余剰材を研磨により
除去し、第4図及び第7図のようにR/Wコア(1)及
びセンターコア(3)の表面を鏡面状に仕上げる0次に
R/Wコア(1)及びセンターコア(3)を回転砥石を
用いた機械で、R/W用のトラック溝を規制する凹溝C
を第5図、第8図に示すように加工する。さらに鏡面に
研磨されたR/Vコア(1)(第5図参照)及びセンタ
ーコア(3)(第8図参照)の表面に、ギャップ形成用
のSio、又はAt、O,等の非磁性材をスパッタリン
グ及び蒸着等で成膜する1次にEコア(2)にE用のト
ラック幅規制用の溝を設け、ギャップ形成材のSiO□
やA1□01等をスパッタリング及び蒸着等で成膜する
。そして第9図に示すごとき配置となるように、R/v
とEのトラック合せしながら瞬間接着剤で仮セットし、
溶着治具に挿入する。そしてR/IIIとEの巻線窓(
4)(5)のトラック面側と脚部のガラス溝へ各々ガラ
ス捧を挿入し、治具ごと溶着炉へ投入し、温度を上げて
一体溶着する。溶着したのちは、余剰ガラスを研磨によ
り落し、所定寸法及び精度に仕上げる。このようにして
仕上げたものが第9図に示す所望の複合磁気ヘッドコア
であり、これを次に薄切り機械により薄切りし、所要厚
さにラップ加工することにより、第1図に示すごとき複
合磁気ヘッドが得られる。
は以下に記述する製法の一例によってその構成が得られ
る。す・なわち、先ず、Mn−Zn、Ni−Zn等から
なる単結晶又は多結晶のフェライトのR/Wコア(1)
及びセンターコア(3)[第3図に示すR/Wコア(1
)と第6図に示すセンターコア(3)コにセンダスト又
はアモルファス合金等を埋設するためのV形の溝A、B
を研削加工で設ける。次にこれら各々のコア(1)(3
)にセンダスト又はアモルファス合金をスパッタリング
、又はイオンブレーティング等の手法により、第3図、
第6図に示す斜線部(F)のように形成する。そしてセ
ンダスト、又はアモルファス合金の余剰材を研磨により
除去し、第4図及び第7図のようにR/Wコア(1)及
びセンターコア(3)の表面を鏡面状に仕上げる0次に
R/Wコア(1)及びセンターコア(3)を回転砥石を
用いた機械で、R/W用のトラック溝を規制する凹溝C
を第5図、第8図に示すように加工する。さらに鏡面に
研磨されたR/Vコア(1)(第5図参照)及びセンタ
ーコア(3)(第8図参照)の表面に、ギャップ形成用
のSio、又はAt、O,等の非磁性材をスパッタリン
グ及び蒸着等で成膜する1次にEコア(2)にE用のト
ラック幅規制用の溝を設け、ギャップ形成材のSiO□
やA1□01等をスパッタリング及び蒸着等で成膜する
。そして第9図に示すごとき配置となるように、R/v
とEのトラック合せしながら瞬間接着剤で仮セットし、
溶着治具に挿入する。そしてR/IIIとEの巻線窓(
4)(5)のトラック面側と脚部のガラス溝へ各々ガラ
ス捧を挿入し、治具ごと溶着炉へ投入し、温度を上げて
一体溶着する。溶着したのちは、余剰ガラスを研磨によ
り落し、所定寸法及び精度に仕上げる。このようにして
仕上げたものが第9図に示す所望の複合磁気ヘッドコア
であり、これを次に薄切り機械により薄切りし、所要厚
さにラップ加工することにより、第1図に示すごとき複
合磁気ヘッドが得られる。
第2図に示す複合磁気ヘッドの製法は、上述の第1図に
示す複合磁気ヘッドと略同様であるが、センダスト又は
アモルファス合金等を埋設するためにR/Vコア(1)
及びセンターコア(3)にU形の溝を設ける点と、R/
W用のトラック幅を規制する凹溝をR/wコア(1)の
みに設け、E用のトラック幅を規制する凹溝をEコア(
2)とセンターコア(3)に設ける点が異なっているの
みである。第10図はこのようにして仕上げられた複合
磁気ヘッドコアであり、これを薄切りにし、所要厚さに
ラップ加工することにより第2図に示すような複合磁気
ヘッドが得られる。
示す複合磁気ヘッドと略同様であるが、センダスト又は
アモルファス合金等を埋設するためにR/Vコア(1)
及びセンターコア(3)にU形の溝を設ける点と、R/
W用のトラック幅を規制する凹溝をR/wコア(1)の
みに設け、E用のトラック幅を規制する凹溝をEコア(
2)とセンターコア(3)に設ける点が異なっているの
みである。第10図はこのようにして仕上げられた複合
磁気ヘッドコアであり、これを薄切りにし、所要厚さに
ラップ加工することにより第2図に示すような複合磁気
ヘッドが得られる。
なお、上記実施例では、R/litギャップ部の形状が
V形及びU形のものについて示したが、第11図(a)
(b) (c)に示すような形状のものであってもよ
い、すなわち、ギャップ形成面と、高飽和磁束密度材の
形成面を非平行とすることによって、アジマス損失を大
きくし、コンタ−効果を低減するごとき溝の形状であれ
ば、いかなる形状でもかまわない。また、高飽和磁束密
度材をR/litコアのみに形成したが、Eコアにも形
成すればさらに消去効果が改善される。
V形及びU形のものについて示したが、第11図(a)
(b) (c)に示すような形状のものであってもよ
い、すなわち、ギャップ形成面と、高飽和磁束密度材の
形成面を非平行とすることによって、アジマス損失を大
きくし、コンタ−効果を低減するごとき溝の形状であれ
ば、いかなる形状でもかまわない。また、高飽和磁束密
度材をR/litコアのみに形成したが、Eコアにも形
成すればさらに消去効果が改善される。
[発明の効果コ
以上のようにこの発明によれば複合磁気ヘッドを形成す
る各ヘッドのギャップ対向面に、高飽和磁束密度材をギ
ャップと非平行となるような形状の溝に埋設したので、
磁気記録媒体に対して十分な記録ができ、さらにコンタ
−効果による特性の低下がなく、電磁変換特性を著しく
改善できる高性能な複合磁気ヘッドが得られるという効
果がある。
る各ヘッドのギャップ対向面に、高飽和磁束密度材をギ
ャップと非平行となるような形状の溝に埋設したので、
磁気記録媒体に対して十分な記録ができ、さらにコンタ
−効果による特性の低下がなく、電磁変換特性を著しく
改善できる高性能な複合磁気ヘッドが得られるという効
果がある。
第1図はこの発明の一実施例による複合磁気ヘッドを示
す斜視図、第2図はこの発明の他の実施例を示す斜視図
、第3図〜第5図はこの発明の第2、第3の発明におけ
る記録再生用コアの製法を説明するための斜視図、第6
図〜第8図はこの発明の第2の発明にかかるセンタ、−
コアの製法を説明するための斜視図、第9図は、この発
明の第2の発明の一実施例による製法で得た複合磁気ヘ
ッドブロックを示す斜視図、第10図は、この発明の第
3の発明の一実施例による製法で得た複合磁気ヘッドブ
ロックを示す斜視図、第11図(a)〜(d)はこの発
明の他の実施例による溝形状を示す図、第12図は従来
の複合磁気ヘッドを示す斜視図、第13図は従来の複合
磁気ヘッドにおける製造方法を説明するための複合磁気
ヘッドを示す斜視図及び断面図である。 図において、(1)は記録再生用コア、(2)は消去用
コア、(3)はセンターコア、(6)〜(10)は非磁
性補強材、(11)はR/Vギャップ、(14) (1
5)は高飽和磁束密度材、A、Bは溝、Cは凹溝である
。 なお1図中同一筒号は同−又は相当部分を示す。
す斜視図、第2図はこの発明の他の実施例を示す斜視図
、第3図〜第5図はこの発明の第2、第3の発明におけ
る記録再生用コアの製法を説明するための斜視図、第6
図〜第8図はこの発明の第2の発明にかかるセンタ、−
コアの製法を説明するための斜視図、第9図は、この発
明の第2の発明の一実施例による製法で得た複合磁気ヘ
ッドブロックを示す斜視図、第10図は、この発明の第
3の発明の一実施例による製法で得た複合磁気ヘッドブ
ロックを示す斜視図、第11図(a)〜(d)はこの発
明の他の実施例による溝形状を示す図、第12図は従来
の複合磁気ヘッドを示す斜視図、第13図は従来の複合
磁気ヘッドにおける製造方法を説明するための複合磁気
ヘッドを示す斜視図及び断面図である。 図において、(1)は記録再生用コア、(2)は消去用
コア、(3)はセンターコア、(6)〜(10)は非磁
性補強材、(11)はR/Vギャップ、(14) (1
5)は高飽和磁束密度材、A、Bは溝、Cは凹溝である
。 なお1図中同一筒号は同−又は相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)記録再生用コア、センターコア及び消去用コアが
一体化されて形成される複合磁気ヘッドにおいて、上記
記録再生用コア、センターコア間のギャップ対向面に、
この面に対して非平行なる溝が上記記録再生用コア及び
センターコアにそれぞれ設けられ、上記溝にセンダスト
、アモルファス等からなる高飽和磁束密度材が充填され
て形成されていることを特徴とする複合磁気ヘッド。 - (2)記録再生用コアブロックとセンターコアブロック
間のギャップ対向面に、非平行な溝をそれら記録再生用
コアブロック及びセンターコアブロックにそれぞれ溝加
工するとともに研磨加工する工程と、それら溝にセンダ
スト及びアモルファス等からなる高飽和磁束密度材を充
填したのち鏡面研磨し、さらに上記記録再生用コアブロ
ック及びセンターコアブロックに対して記録再生用トラ
ック幅規制用の凹溝を、消去用コアブロックに対して消
去用トラック幅規制用の凹溝を追加工する工程と、その
のち上記記録再生用コアブロック、センターコアブロッ
ク、及び消去用コアブロックに非磁性材を成膜するとと
もに、それら各コアブロックをガラス又は接着剤等によ
って一体化したのち研磨切削する工程と、これによって
形成され、一体化された記録再生用コアブロック、セン
ターコアブロック、消去用コアブロックからなる複合磁
気ヘッドブロックを薄切りし、所定のチップ厚にラップ
加工する工程とからなる複合磁気ヘッドの製造方法。 - (3)記録再生用コアブロックとセンターコアブロック
間のギャップ対向面に、非平行な溝をそれら記録再生用
コアブロック及びセンターコアブロックにそれぞれ溝加
工するとともに研磨加工する工程と、それら溝にセンダ
スト及びアモルファス等からなる高飽和磁束密度材を充
填したのち鏡面研磨し、さらに上記記録再生用コアブロ
ックに対して記録再生用トラック幅規制用の凹溝を、消
去用コアブロックとセンターコアブロックに対し消去用
トラック幅規制用の凹溝を追加工する工程と、そののち
上記記録再生用コアブロック、センターコアブロック、
及び消去用コアブロックに非磁性材を成膜するとともに
、それら各コアブロックをガラス又は接着剤等によって
一体化したのち研磨切削する工程と、これによって形成
され、一体化された記録再生用コアブロック、センター
コアブロック、消去用コアブロックからなる複合磁気ヘ
ッドブロックを薄切りし、所定のチップ厚にラップ加工
する工程とからなる複合磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15710586A JPS6313109A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 複合磁気ヘツド及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15710586A JPS6313109A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 複合磁気ヘツド及びその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6313109A true JPS6313109A (ja) | 1988-01-20 |
Family
ID=15642338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15710586A Pending JPS6313109A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 複合磁気ヘツド及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6313109A (ja) |
-
1986
- 1986-07-03 JP JP15710586A patent/JPS6313109A/ja active Pending
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