JPS63131101A

JPS63131101A - 多層反射防止膜

Info

Publication number: JPS63131101A
Application number: JP61278179A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Matsuno; 好洋松野; Eiji Kusano; 英二草野; Katsuhisa Enjoji; 勝久円城寺
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1986-11-21
Filing date: 1986-11-21
Publication date: 1988-06-03
Anticipated expiration: 2010-11-29
Also published as: JPH07111482B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、透明基板の表面での光の反射を減少させるた
めにこの透明基板上に形成される多層構造の反射防止膜
に関するものであって、テレビ受像機などに用いられる
ブラウン管のフェース面や、このフェース面の前方に配
置される反射防止仮に適用するのに最適なものである。

〔発明の概要〕

本発明は、透明基板上にこの透明基板から遠ざかる方向
に向って第１の高屈折率膜、第１の低屈折率膜、第２の
高屈折率膜及び第２の低屈折率膜が順次積層された多層
反射防止膜において、上記第１及び第２の高屈折率膜の
うちの少くとも一方を、反応性スパッタリングを用いて
形成された高屈折率の第１の膜状体と、この第１の膜状
体よりも更に屈折率の高い第２の膜状体とを積層するこ
とにより構成することによって、高スルーブツト及び高
均一性、更に低コストで以って分光反射率特性に優れた
大面積の多層反射防止膜を提供することができるように
したものである。

〔従来の技術〕

一般に、カメラや双眼鏡等の光学機器においては、フレ
ヤーやゴーストといった現象を無くし、像のコントラス
トを向上させて鮮鋭度を増すために、レンズ等のガラス
基板の表面にコーテイング材と称する透明材料から成る
反射防止膜が被着形成されている。なお上記反射防止膜
は、周知のように、ガラス基板などの透明基板の表面で
の光の反射を減少させて、透過率を増加させるものであ
る。

このような反射防止膜は、上述の如きレンズ等の小面積
のもののみならず、大面積のものにも形成されており、
例えば、テレビ受像機などに用いられるブラウン管のフ
ェース面や、このフェース面の前方に配置される防爆ガ
ラス板の表面にも、上記反射防止膜が形成されている。

従来より一般に用いられている反射防止膜としては、単
層、２層及び３層構造のものがある。このうち構造が最
も簡単な単層反射防止膜は、単一波長に対してのみ反射
防止効果がある。しかし、通常用いられるガラス基板は
屈折率ｎｇ−１，５２程度ということから、反射率を零
にする透明材料、即ち反射光の振幅条件である屈折率ｎ
　、　＝　２＝１．２３を満たす低屈折率膜が無い為、
残留反射が生ずる。

２層反射防止膜は、ガラス基板と低屈折率膜との間に高
屈折率膜を介在させた構造のものである。

この２層反射防止膜によれば、高屈折率膜の介在により
ガラス基板の見かけ上の屈折率を大きくとれるので、低
屈折率膜の材料の選択範囲が拡がって上記残留反射が解
消される。しかし、この２層反射防止膜の場合、反射防
止の効果は単−波長及びその近傍の狭い波長領域に限定
される。

３層反射防止膜は、反射防止の波長領域を拡げる上で有
効である。即ち、２層構造の場合の高屈折率膜とガラス
基板との間に中間の屈折率を有する膜を介在させた構造
とすることにより、２波長及びその中間波長領域におい
て反射率を零かまたは極めて小さくすることができる。

また、この様な３層構造とする場合、所望する反射防止
効果を得る上で、それぞれの膜を構成する各透明材料の
屈折率及び膜厚をある程度拡い範囲でとれる為、設計上
の自由度を向上させることができる。

ここで、２層若しくはそれ以上の多層構造とする場合、
各透明材料の屈折率及び膜厚の設定は、系統型てられた
手法が確立されていないので、一般的には反射光をベク
トル的に取り扱うベクトル法、あるいは複雑なマトリク
ス法等に基づき反射光の位相条件及び振幅条件を所望の
如く満たすよう試行錯誤的に行われている。

ところで、可視光の波長領域（波長；４００〜７００μ
ｍ）に対する反射防止効果は３層構造のものでは十分得
ることができない。この要求を満たす為に、３層構造の
中屈折率膜を更に高屈折率膜と低屈折率膜（ガラス基板
側からの順番で）で置換した４層構造のものが開発され
ている。この場合も、各透明材料の屈折率及び膜厚の設
定は、勿論上述した如きベクトル法等に基づき試行錯誤
的に行われるが、所望す分光反射率特性を得るのに、一
般にはガラス基板側の高屈折率膜と低屈折率膜は薄目に
、またその上の高屈折率膜と低屈折率膜は厚目に構成さ
れる。

このような４層構造とすることにより膜の境界面が多く
なって光の干渉が強まる為、可視光全域に渡ってほぼ良
好な反射防止効果を得ることができる。またこの４層反
射防止膜によれば、設計の自由度を更に大きくとること
ができる。

次に、第３図〜第５図により、従来の４層反射防止膜及
び本発明の参考例における４層反射防止膜の構成及び分
光反射率特性について説明する。

まず第３図は、従来の４層反射防止膜を示すものであっ
て、この場合、代表的な低屈折率膜材料であるＭｇｈ　
（フッ化マグネシウムＨｎ＝１．３８）が用いられてい
る。なおＭｇＦ　ｔは、その特性上、その形成方法が一
般的に真空蒸着法に限定されるから、実用上の観点から
、反射防止膜が形成されるガラス基板も小面積のものに
限定されるという問題点がある。

図中、１１はガラス基板（ｎ＝　１．５２）　、１２は
膜厚１４０人のＺｒＯ□（酸化ジルコニウム；ｎ＝２．
１３）から成る第１の高屈折率膜、１３は膜厚３１０人
のＭｇＦ　ｔから成る第１の低屈折率膜、１４は膜厚１
３２０人のＺｒ０ｔから成る第２の高屈折率膜、また１
５は膜厚９４０人のＭｇｈから成る第２の低屈折率膜で
ある。

第５図のａは、上記の如く構成された第３図に示す従来
例の分光反射率特性を示したものである。

同図より明らかな様に、この従来例の場合、斜線領域で
示されるＭＩＬ規格を十分溝たし、また可視光のほぼ全
波長領域に渡って優れた特徴を有している。

ここにおいて、第１及び第２の高屈折率膜及び２．１４
の材料としては、上記Ｚｒ０ｔの他、ＴａｚＯｓ　（酸
化タンタルＨｎ＝２．１５）　、Ｐｒ１ｅ目（酸化プラ
セオジム：　ｎ　＝　２．２０）　、Ｔｉ０ｘ（酸化チ
タン；ｎ＝２．３５）等の真空蒸着または反応性直流ス
パッタリングに好適な透明材料を用いることができる。

次に、第４図は本発明の参考例における４Ｊｉ反射防止
膜を示すものであって、この場合、ガラス基板として大
面積の基板を用い、高屈折率膜及び低屈折率膜をそれぞ
れ反応性直流スパッタリングを用いて形成している。

なお、反応性直流スパッタリングに好適な低屈折率膜の
材料の代表的なものとしては、５ｉＯｚ（酸化シリコン
：ｎ＝１．４５５）が挙げられるが、このＳｉＯ□の屈
折率はｎ＝１．４５５で低屈折率膜としては比較的大き
い為、高屈折率膜の材料としては組み合せの都合上、ｎ
−２，３〜２．５のものを用いる必要がある。この為、
この参考例では、上記範囲の屈折率を有し且つ反応性直
流スパッタリングに好適な透明材料であるＴｉＯｘ（酸
化チタン；ｎ＝２．３５）を用いて４層反射防止膜を形
成している。

第４図において、１１はガラス基板、１２．１３は膜厚
１１０人のＴｉ０１から成る第１の高屈折率膜及び膜厚
３６０人のＳｉＯ２から成る第１の低屈折率膜であり、
また１４．１５は膜厚１１２０人のＴｉ０１から成る第
２の高屈折率膜及び膜厚９００人のＳｉＯ□から成る第
２の低屈折率膜である。

この大面積化された第４図に示す参考例の場合、分光反
射率特性は第５図のｂで示す如く、第３図に示す上述の
従来例に匹敵する優れたものであって、この場合にもＭ
ＩＬ規格を十分溝たしている。

ここで、第１及び第２の低屈折率膜１３．１５としては
、上記ＳｉＯ□単体の他、反応性直流スパッタリングに
好適なＳｉＯ□を主成分とする透明材料を用いることが
でき、また第１及び第２の高屈折率膜及び２．１４とし
ては、上記ＴｉＯ□単体の他、同様のスパッタリングに
適したＴｉＯ２を主成分と透明材料を適宜用いることが
できる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、第３図に示す上述の従来例では、低屈折
率膜にＭｇＦ、を用いているので、この低屈折率膜を形
成するのに一般的に真空蒸着法に依存せざるを得す、こ
の為反射防止膜の大面積化が図れなくて、その適用範囲
がレンズ等の小面積のものに制限されるという問題があ
った。

また、第４図に示す上述の参考例の場合は、反応性直流
スパッタリング法を用いている為に大面積化が図れて、
寸法の大きいガラス基板（例えば、ブラウン管の前方に
配置する反射防止板）への適用ができるものの、製作時
の技術的な制約から？ＩｇＦ。

を使用していないので、これに起因した問題が生ずる。

即ち、５ｉＯｚの屈折率はｎ＝１．４５５で低屈折率膜
としては比較的大きい為、高屈折率膜の材料として比較
的屈折率の高いＴｉＯ□を用いる必要があるが、Ｔｉ０
ｇは反応性直流スパッタリングレートが小さいので、第
２の高屈折率膜及び４を特に厚く形成する必要があるこ
ともあって生産性が極めて低くなり、この為にコスト高
になるという問題があった。

なお高屈折率膜の材料としてＴｉ０ｚ以外にＺｒＯ２、
ＴａｚＱｓ　、ＰｒｂＯ□等を用いることも考えられる
が、これらＺｒ０ｚ、Ｔａ２０５　、Ｐｒ、、０．は屈
折率が２．２以下であるから、第４図に示す４層反射防
止膜において、高屈折率膜及び２．１４として例えばＴ
ａ、０．を用いた本発明の別の参考例の場合には、その
分光反射率特性は第６図の様になる。そしてこの場合、
同図より明らかなように、ＭＩＬ規格に対し殆んど余裕
がないかまたはこれを満たし得ない波長領域（図示のＣ
）が生じて、その分光反射率特性が悪くなる。

なお、第６図にその分光反射率特性を示す上述の別の参
考例の場合には、第１及び第２の高屈折率膜及び２．１
４として用いるＴａｚＯｓの膜厚を各々１４０人、及び
１１３０人とすると共に、第１及び第２の低屈折率膜１
３．１５として用いるＳｉＯ□の膜厚を各々２７０人、
及び８５０人として構成している。

本発明は、上述した問題に鑑みてなされたもので、実用
上の観点からも大面積の透明基板に適用できると共に、
均一に且つ効率良く高屈折率膜及び低屈折率膜を形成し
得る多層反射防止膜を提供することを目的とする。

〔問題を解決するための手段〕

本発明は、ガラス基板、合成樹脂基板などの透明基板の
表面での光の反射を減少させるためにこの透明基板上に
形成される反射防止膜であって、第１の高屈折率膜、第
１の低屈折率膜、第２の高屈折率膜及び第２の低屈折率
膜から多層に構成され、これらの膜が透明基板上にこの
透明基板から遠ざかる方向に向って上記記載の順序で順
次形成された多層反射防止膜において、上記第１及び第
２の高屈折率膜のうちの少くとも一方が、反応性スパッ
タリングを用いて形成された高屈折率の第１の膜状体と
、この第１の膜状体よりも更に屈折率の高い第２の膜状
体とを積層することにより構成されていることを特徴と
する多層反射防止膜に係るものである。

以上のように構成された本発明によれば、少くとも１つ
の高屈折率膜を構成する第１及び第２の膜状体のうちの
比較的屈折率の低い方の第１の膜状体を反応性スパッタ
リングを用いて形成するようにしたので、スパッタリン
グレートを高くすることが可能であり、この為にスルー
プットを向上させることができる。また上記反応性スパ
ッタリングで形成した第１の膜状体の他にこれよりも更
に屈折率の高い第２の膜状体を上記少くとも１つの高屈
折率膜に具備させたので、優れた分光反射率特性を得る
ことができる。

なお本発明においては、第１及び第２の高屈折重膜のう
ちの一方が他方に較べて充分厚く構成され、また上記一
方の高屈折率膜のみが第１及び第２の膜状体から成り、
またこの第１の膜状体が上記第２の膜状体に較べて充分
厚く構成され、しかも第１及び第２の低屈折率膜のうち
の上記一方の高屈折率膜のすぐ外側に存在する低屈折率
膜が他方の低屈折率膜に較べて充分厚く構成されている
のが好ましい。そしてこの様に構成することによって、
より一層スループットを向上させることができ、またよ
り一層優れた分光反射率特性を得ることができる。

また上記第１の膜状体を形成するための反応性スパッタ
リングとしては、特に上記第１の膜状体をＴａ５ｋｓの
単体又はこれを主成分とする物質を用いる場合には、ス
パッタリングレートを高くし得る反応性直流スパッタリ
ングを用いるのが好ましい。

〔実施例〕

以下、第１図及び第２図により、本発明の一実施例を詳
細に説明する。

第１図において、１１は大面積のガラス基板（ｎ＝１．
５２）から成る透明基板、１２．１３は膜厚７５人のＴ
ｉ０ｚ（ｎ　＝　２．３５　）から成る第１の高屈折率
膜及び膜厚３９５人のＳｉＯｇ（ｎ　＝１．４５５　）
から成る第１の低屈折率膜であり、これらの膜１２．１
３はガラス基板１１の見かけの屈折率を変化させる働き
をする。また、１４ａは膜厚１０１５人のＴａｚＯｓ（
ｎ　＝　２．１５　）から成る第１の膜状体、１４ｂは
膜厚１８０人のＴｉＯ□から成る第２の膜状体であって
、これら第１及び第２の膜状体１４ａ、１４ｂによって
第２の高屈折率膜が構成されている。更に１５は９６０
人のＳｔｏｗから成る第２の低屈折率膜である。

この５層反射防止膜において、上記膜１２．１３．１４
ａ、１４ｂ、１５を構成する透明材料は、可視光の波長
領域で反射率を零もしくは極めて小さくする為に、反射
光の位相条件及び振幅条件を所望する如く満たすよう材
料選択されると共に、膜厚が各々設定されている。

また上記５層反射防止膜の製造に際しては、反応性マグ
ネトロンスパッタリング法を用いて、８５％Ａｒ−１５
％０□の混合ガスを雰囲気ガスとして圧力５　Ｘ　１０
−３Ｔｏｒｒの条件下で反応性直流スバ・ツタリングを
行うようにしている。

この５ｊＱ２−ＴｉＱｚ　　７８ｇＯｓ系の５層膜中で
膜厚が厚くて最もスパッタリング時間を要する第２の高
屈折率膜中の第１の膜状体１４ａはＴａ、Ｏ，から成っ
ているが、このＴａ２０ｇのスパッタリングレートが大
きい為にＴａｚＯｓのスパッタリングに要する時間は約
５分程度で済む。一方、第２の高屈折率膜全体をＴｉＯ
□で構成した場合（ＳｉＯ２−ＴｉＯ□系の構成となり
、第４図に示す前述の参考例と同一となる）には、前述
の如（ＴｉＯｇのスパッタリングレートが低い為、本実
施例と同一の製造条件により形成しても、第２の高屈折
率膜Ｔｉ０ｚのスパッタリングに要する時間は約２７分
となる。

このように、本実施例によれば、スパッタリングレート
の高い↑ａｔｏｇから成る第１の膜状体１４ａを厚目に
すると共にスパッタリングレートの低いＴｉＯ２から成
る第２の膜状体１４ｂを薄目にして第２の高屈折率膜を
構成しているので、それぞれの膜１２．１３．１４ａ、
１４ｂ、１５を流れ作業で形成することができるインラ
イン型スパッタリング装置でこの５層反射防止膜を製造
する場合、これら５つの膜全体の形成スピードを、第４
図に示す５ｔＯ１−ＴｉＯｇ系の４層反射防止膜の４つ
の膜１２．１３．１４．１５の全体の形成スピードに比
べて、はぼ５倍以上にすることができる。

第２図は、上述した本実施例のＳｉｎｇ　　Ｔｉ０ｚ−
Ｔａ、ＯＳ系の５層反射防止膜の分光反射率特性を示し
たものである。同図より明らかなように、本実施例にお
ける５層反射防止膜は斜線領域で示されるＭＩＬ規格を
十分溝たしており、また可視光のほぼ全波長領域に渡り
優れた特性を有している。

なお、上記実施例において、ＭＩＬ規格を満たす分光反
射率特性を得るのに、ＴｉＯ，から成る第１の高屈折率
膜及び２が７５±１０人、５ｉＯｔから成る第１の低屈
折率膜１３が３９５±２０人、Ｔａ、０５から成る第２
の高屈折率膜の第１の膜状体１４ａが１０１５±１０人
、ＴｉＯ２から成る第２の高屈折率膜の第２の膜状体１
４ｂが１８０±ＩＯ人、更に第２の低屈折率膜５ｉＯｚ
１５が９６０±２０人の範囲となるように各膜厚を拡げ
ることができるが、本発明が上記範囲に必ずしも限定さ
れるものではないことは云う迄もない。

また、ＴａｚＯｓから成る第２の高屈折率膜の第１の膜
状体１４ａとＴｉＯ２から成る第２の高屈折率膜の第２
の膜状体１４ｂとを上下逆にしてもほぼ同様の効果を得
ることができたが、上述の実施例の場合のように、Ｔｉ
ｅ、から成るより高屈折率の第２の膜状体１４．　ｂが
第２の低屈折率膜１５側である方がより優れた分光反射
率特性となることが判明した。

また膜１２．１３の組と、膜１４ａ、１４ｂ。

１５の組とを上下逆にしてもほぼ同様の効果を得ること
ができたが、上述の実施例の場合のように、膜１２．１
３の組がガラス基板１１側である方がより優れた分光反
射率特性となることが判明した。

更にまた、第１の高屈折率膜及び２としてＴｉＯ□を用
いたが、屈折率が２．２〜２．５の他の透明材料、ある
いはＴａｚ０５　、Ｚｒ０ｚ、Ｉｎｚ０３　　（酸化イ
ンジウム；　ｎ　＝　２．００　）　、５ｎＯｚ　（酸
化スズ；ｎ＝２．００）、Ｐｒ６０＋＋ｓ　５ｂｚＯｔ
　　（酸化アンチモン；ｎ＝１．９５　　）、Ｎｄ、０
３（酸化ネオジム；　ｎ　＝１．９０）等の単体または
これらの混合物で屈折率が好ましくは１．９〜２．２の
範囲の透明材料を用いることができる。またその膜厚は
選択される材料により適宜設定することができる。

また、第２の高屈折率膜の第１の膜状体１４ａとしては
、上記Ｔａ２Ｏ，の他、Ｚｒ０ｚ、Ｉｎｚ０３．５ｎＯ
ｚ、Ｐｒ６０目、５ｂ２０３　、Ｎｄ２Ｏ，１等の単体
またはこれらの混合物でその屈折率が好ましくは１．９
〜２．２の範囲にあり且つ第２の高屈折率膜の第２の膜
状体１４ｂよりもスパッタリングレートの高い透明材料
を用いることができる。更に、第２の高屈折率膜の第２
の膜状体１４ｂとしては、上記ＴｉＯ□の他、その屈折
率が好ましくは２．２〜２．５の他の透明材料を用いる
ことができる。この場合、第１及び第２の膜状体１４ａ
、１４ｂの何れの膜厚も、上記第１の高屈折率膜及び２
の場合と同様に、選択される材料により適宜設定するこ
とができる。

また更に、第１の低屈折率膜１３としては、上記５ｉＯ
ｚの他、＾ｊ２ｚｏ＋（酸化アルミニウム；　ｎ　＝１
．６４）の単体、またはこれらの混合物、若しくはこれ
らの一方又は両方を主成分とする透明材料でその屈折率
が好ましくは１．４４〜１．６５の範囲のものを用いる
ことができる。また第２の低屈折率膜１５としては、Ｓ
ｉＯ□の単体の他、ＳｉＯ□とＡ／ｚ（ｈとの混合物、
あるいは５ｉｆｔを主成分とする透明材料でその屈折率
が好ましくは１６４４〜１．５０の範囲のものを適宜選
択して用いることができる。

〔発明の効果〕

以上、詳細に説明したように、本発明によれば、分光反
射率特性に優れた大面積の多層反射防止膜を、高スルー
プツト及び高均一性、更に低コストで以って提供でき、
従って極めて実用的である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における多層反射防止膜を示
す一部分の断面図、第２図は第１図に示す多層反射防止
膜の分光反射率特性図、第３図は従来例の多層反射防止
膜を示す一部分の断面図、第４図は本発明の参考例にお
ける多層反射防止膜を示す一部分の断面図、第５図は第
３図に示す従来例及び第４図に示す参考例の分光反射率
特性図、また第６図は本発明の別の参考例におけるＳｉ
ｎ、　−Ｔａ、ＯＳ系の多層反射防止膜の分光反射率特
性図である。なお図面に用いた符号において、１１−・−・・・−・・・−・ガラス基板（透明基板）
１２−−−・−・・−・・・−・・−第１の高屈折率膜
及び３−・−・−−−−−・・−一−−−・第１の低屈
折率膜１４ａ・・・−・−・・・・−第１の膜状体１４
ｂ・−−−−−・−・−・−・−第２の膜状体１５・・
・・・−・−・・・−・−・・−第２の低屈折率膜であ
る。

Claims

【特許請求の範囲】１、透明基板の表面での光の反射を減少させるためにこ
の透明基板上に形成される反射防止膜であって、第１の
高屈折率膜、第１の低屈折率膜、第２の高屈折率膜及び
第２の低屈折率膜から多層に構成され、これらの膜が透
明基板上にこの透明基板から遠ざかる方向に向って上記
記載の順序で順次積層された多層反射防止膜において、上記第１及び第２の高屈折率膜のうちの少くとも一方が
、反応性スパッタリングを用いて形成された高屈折率の
第１の膜状体と、この第１の膜状体よりも更に屈折率の
高い第２の膜状体とを積層することにより構成されてい
ることを特徴とする多層反射防止膜。２、上記第１の膜状体の屈折率が１．９〜２．２であり
、上記第２の膜状体の屈折率が２．２〜２．５である特
許請求の範囲第１項記載の多層反射防止膜。３、上記第１及び第２の低屈折率膜の屈折率がいずれも
１．４４〜１．５０である特許請求の範囲第１項記載の
多層反射防止膜。４、上記第１の低屈折率膜の屈折率が１．５０〜１．６
５であり、上記第２の低屈折率膜の屈折率が１．４４〜
１．５０である特許請求の範囲第１項記載の多層反射防
止膜。５、上記第２の高屈折率膜のみが上記第１の膜状体及び
第２の膜状体を積層することにより構成されている特許
請求の範囲第１項記載の多層反射防止膜。６、上記第１の高屈折率膜の屈折率が１．９〜２．２で
ある特許請求の範囲第５項記載の多層反射防止膜。７、上記第１の高屈折率膜の屈折率が２．２〜２．５で
ある特許請求の範囲第１項記載の多層反射防止膜。８、上記第１の膜状体として、Ｔａ＿２Ｏ＿５、ＺｒＯ
＿２、Ｉｎ＿２Ｏ＿３、ＳｎＯ＿２、Ｐｒ＿６Ｏ＿１＿
１、Ｓｂ＿２Ｏ＿３、Ｎｄ＿２Ｏ＿３の単体のいずれか
、またはこれらの混合物を用いると共に、上記第２の膜
状体として、ＴｉＯ＿２を用いることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の多層反射防止膜。９、上記第１の低屈折率膜として、ＳｉＯ＿２、Ａｌ＿
２Ｏ＿３の単体のいずれか、またはこれらの混合物、若
しくはこれらの一方又は両方を主成分とする物質を用い
ることを特徴とする特許請求の範囲第３項または第４項
記載の多層反射防止膜。１０、上記第２の低屈折率膜として、ＳｉＯ＿２、また
はＳｉＯ＿２とＡｌ＿２Ｏ＿３との混合物、若しくはＳ
ｉＯ＿２を主成分とする物質を用いることを特徴とする
特許請求の範囲第４項に記載の多層反射防止膜。