JPS63133079A - 電子計数装置 - Google Patents

電子計数装置

Info

Publication number
JPS63133079A
JPS63133079A JP61280302A JP28030286A JPS63133079A JP S63133079 A JPS63133079 A JP S63133079A JP 61280302 A JP61280302 A JP 61280302A JP 28030286 A JP28030286 A JP 28030286A JP S63133079 A JPS63133079 A JP S63133079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
gas
electrons
counting
electron detection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61280302A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0641979B2 (ja
Inventor
Masayuki Uda
応之 宇田
Hiroshi Ishida
博志 石田
Atsushi Manmoto
敦 万本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hochiki Corp
RIKEN
Original Assignee
Hochiki Corp
RIKEN
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hochiki Corp, RIKEN filed Critical Hochiki Corp
Priority to JP28030286A priority Critical patent/JPH0641979B2/ja
Publication of JPS63133079A publication Critical patent/JPS63133079A/ja
Publication of JPH0641979B2 publication Critical patent/JPH0641979B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光エネルギーの照射で試料から放出される電
子の数を計数する電子計数装置に関する。
(従来技術) 従来、例えば半導体等の試料表面の酸化膜等の膜厚を計
測する方法として、試料表面に光を照射し、光の照射に
より試料上の薄膜を通って外部に放出される電子を電子
検出部により計数して膜厚を計測する方法が知られてい
る(特願昭59−118818号等)。
ところで、このような電子計測装置にあっては、電子検
出部内の湿度の影響により計数誤差が大きくなるという
問題があり、これを解決するために、電子検出部内にド
ライエアー等の乾燥したガスを注入して湿度の影響をな
くことが考えられている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、電子検出部内に乾燥したガスを注入する
際には、流量計の指示を見ながら手動でガス流量を調整
するようにしていたため、ガスを多量に流し過ぎること
でガスを無駄に使用したり、ガス吊が少な過ぎて湿度の
影響によりノイズが発生したりし、必要且つ充分な量の
ガス供給ができない恐れがあった。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
ので、電子検出部内の湿度のIFIによる計測誤差を無
くして安定した電子計測を可能とする最適量となる乾燥
ガスを供給ができるようにした電子計測装置を提供する
ことを目的とする。
この目的を達成するため本発明にあっては、電子検出部
内にドライエアー等の乾燥したガスを注入するガス供給
手段と、電子検出部内に試料側からの電子の導入を禁止
するバックグラウンド計数モードでの電子数(計数率)
を測定する測定手段と、この測定手段で測定した電子数
(計数率)の値が最小となるように前記ガス供給手段に
よる供給量を制御する流量制御手段とを設けるようにし
たものである。
(作用) このような本発明の構成によれば、電子検出部内に対す
る試料側からの電子の導入を禁止するバックグラウンド
計数モードの設定状態でドライエアー等の乾燥したガス
の供給流量を、例えば零から徐々に増加させ、このガス
流量の増加に伴なって電子検出部内の湿度が低下し、湿
度の低下で発生するバックグラウンドノイズとしての計
数率も低下するようになり、ガス流量をそれ以上増加さ
せても計数率が下がらない飽和流量を最適供給流量とし
て設定することで、ガス供給不足やガス供給のし過ぎを
なくすようにしたものでおる。
(実施例) 第1図は本発明の一実施例を示した説明図である。
まず構成を説明すると、1は電子検出部であり、下部に
検出窓2を開口した金属性のケース3を有し、このケー
ス3はアースされて陰極となる。ケース3内には陽極リ
ング4が配置され、陽極リング4には高圧電源23が接
続され、例えば3.4KVの高電圧が印加されている。
陽極リング4とケース3の間には例えば100Vの電圧
が印加された第1格子電極5が設置され、更に第1格子
電極5とケース3の検出窓2に相対して配置された試料
10との間には、例えば80Vの電圧が印加された第2
の格子電極6が配置される。
一方、電子検出部1に対し分離配置された光源装置には
光源13が設けられ、光源13からの光を単色化する分
光器14、分光器14の前後に配置されたスリット15
.16を有し、スリット15.16により光強度が調整
された分光器14h1らの単色光を試料10の表面に斜
め上方より照射している。
一方、計測回路部としては、電子検出部1の陽極リング
4にコンデンサCを介して接続された増幅器18を協え
、増幅器18の出力と第1格子電極5との間には第1パ
ルス発生器20が設けられる。第1パルス発生器20は
陽極リング4にパルス電圧が発生したときに第1格子電
極5に例えば所定の時間幅Te、例えばTe=3msで
300Vアツプした矩形波パルスを送り、第1格子電極
5の電圧を第2図(b)のALLモードに示すように、
100Vから400Vに増加させる。
また、増幅器31の出力と第2格子電極6との間には第
2パルス発生器22が設けられ、この第2パルス発生器
22は陽極リング4にパルス電圧が発生したとき、例え
ば時間幅Teで一110Vダウンした矩形波パルスを第
2格子電極6に供給し、第2図(C)の信号波形図にお
けるALLモードに示すように、第2格子電極6の電圧
を80■から一30Vまで低下させる。
尚、第1及び第2のパルス発生器20.22で発生する
矩形波パルスの時間幅Te及び波高電圧は任意に設定す
ることができる。
24は増幅器18の出力に接続された計数手段であり、
この計数手段24は陽極リング4に発生するパルス電圧
の数を計数する。計数手段24の出力は演算手段26に
与えられ、演算手段26としては例えばマイクロコンピ
ュータが使用される。
この演算手段26における演算機能は、計数手段24に
おける例えば1秒間当りの電子パルスのカウント数(計
数率)をNとすると、計数手段24の出力カウント数N
を受けて試料10における薄膜10bの膜厚Tを次式に
よって演算する。
IogN=IO(] N1−T/2.30λ・・・(1
)但し、λは薄膜内の電子の平均自由工程(Aングスト
ローム)、N1は膜厚が零のときのカウント数(計数率
) 演算手段26で求められた試料1dにおける薄膜10b
の膜厚Tは、例えばCRTプリンタ等の表示手段28に
送られ、表示手段28において演算手段26の演算結果
となる薄膜10bの膜厚Tが表示される。
このような電子検出部1、試料10に対する照明光学系
及び計測回路で成る電子計測装置に対し、本発明にあっ
ては、更に電子検出部1内にドライエアー等の乾燥した
ガスを供給するガス供給配管30が設けられ、ガス供給
配管30に対しては図示しない空気ボンベに詰められた
ドライエアー若しくはシリカゲル等の乾燥剤を用いてド
ライエアーを発生するドライエアー発生装置等からの乾
燥ガスが加圧供給される。
この電子検出部1内に乾燥したガスを供給するガス供給
配管30の途中には、ガス流量を制御するための流量調
整器32が設けられる。流量調整器32としては例えば
モータ駆動により開度を調整する電動弁を用いることが
できる。
このガス供給配管30に設けられた流量調整器32を作
動するため、流量制御装置34が設けられ、流量制御装
置34に対しては演算手段25より計数手段24で得ら
れた1秒間当りの電子パルスのカウント数(計数率)N
が供給されており、流量制御装置34は電子検出部1の
測定モードをバックグラウンド計測モード(B、G、モ
ード)とした状態で流量調整器32を零流量から徐々に
開き、演算手段26を介して得られるカウント数Nが減
少して最小値に飽和した状態を検出し、そのときの調整
開度を保持するようになる。
また、流量制御装置24はバックグラウンド計測モード
を電子検出部1に設定するため、第2のパルス発生器2
2に対し第2格子電極6の印加電圧を一30Vに固定し
て試料10側から電子検出部1内に対する電子の導入を
禁止させる機能を有する。
次に、第1図の実施例の動作を説明する。
まず試料10の薄膜10bの膜厚Tの測定に先立ち流量
制御装置34の操作にJ:り電子検出部1の計測モード
をバックグラウンド計測モードに設定する。即ち、通常
の試110から放出された電子数を検出するALI−モ
ードにあっては、試料10に対する光エネルギーの照射
で放出された電子は検出窓2から電子検出部1内に入り
、80Vに設定された第2格子電極6及び100Vに設
定された第1格子電極5を通過し、陽極リング4に引寄
せられる。放出電子が陽極リング4に近づくと陽極リン
グ4の近傍には高電圧によって強い電界が発生している
ため、この電界により電子が加速されて気体放電現象を
引起す。この結果、気体放電により陽極リング4に印加
されている電圧は第2図(a)に示すように低下し、電
圧パルスが発生する。
この陽極リング4に発生した電圧パルスは増幅器18で
増幅後、第1パルス発生器20及び第2パルス発生器2
2に与えられ、それぞれ矩形パルスを発生する。即ち、
第1パルス発生器20は電圧が300■で時間幅がTe
の矩形波パルスを光生して第1格子電極5に印加し、第
1格子電t!lj5の電圧を100Vから400Vに増
加させる。この結果、陽極リング4と第1格子電極5と
の間の電位差が300Vだけ低下し、これによって気体
放電作用により発生した光や陽イオンによる2次電子は
放電電圧に達することができず、なだれ的な放電が阻止
される。
一方、第2パルス発生器22は時間幅Teに亘って一1
10Vとなる矩形波パルスを第2格子電極6に印加し、
第2格子電極6の電圧を80Vから一30Vに下げる。
この結果、増幅作用を伴う気体放電によって発生した陽
イオンが第2格子電極6で補足されて中和され、これに
よって陽イオンが試料10の薄膜10b及び試料本体1
0aに到達して低エネルギー電子の放出作用に影響を及
ぼすことを防ぐ。また外部からの電子が電子検出部1に
入射するのを遮断する。
一方、ガス流量を調整する際のバックグラウンド計数モ
ードにあっては、前述したALLモードで陽極リング4
からの電子パルスを受ける毎にTeFR間に回り80V
〜−30Vに下がる電圧を第2格子電極6に印加してい
る第2パルス発生器22を、固定的に一30Vの電圧発
生状態とし、第2格子電極6の印加電圧を一30Vに保
つことで試料10側より検出窓2を通って電子検出部1
に対する電子の導入を禁止するしや開状態を作り出す。
従って、このバックグラウンド計測モードにあっては、
電子検出部1内のみから発生した電子による電子パルス
(ノイズ分)の計数動作が行なわれる。
そこで流量制御装置34にあっては、第2パルス発生器
22に一30Vの電圧発生状態をセットした後、流量調
整器32を流量零の状態から徐々に開いてガス供給配管
30を介してドライエアー等の乾燥したガスを電子検出
部1内に供給するようになる。
第3図は乾燥したガスの流IQを零から徐々に増加させ
たときの電子計数率Nの変化を示した特性グラフであり
、ガス流量の増加に伴って電子検出部1内の湿度が低下
することから、湿度に起因したバックグラウンドノイズ
としての計数率Nも低下するようになる。このとき、乾
燥ガスの供給流量がある流@Qsを超えて増加させても
、バックグラウンドノイズとしての計数率はそれ以上下
がらず、飽和状態となる。そこで流量制御@置34にあ
っては、計数率が飽和する流量QSに達したならば、そ
の時点で流量調整を停止し、バックグラウンドノイズが
飽和する流ff1Qsを保持させる。この結果、電子検
出部1に対しては湿度によるバックグラウンドノイズを
最小とする乾燥した必要最小限の量となるガス供給が行
なわれ、この状態でバックグラウンド計測モードを解除
してALしモードとすることで、試料10に対する光エ
ネルギーの照射で放出された電子数のカウント値Nに基
づく膜厚下等の計測処理を行なうようになる。
尚、上記の実施例にあっては、流量制御装置34により
流量調整器32を零流量から徐々にガス流量を増加させ
てバックグラウンドノイズが飽和する最適流量Qsに制
御しているが、逆に流量調整器3.2を全開とした状態
から徐々に流量を減少させて最適流’@QSを設定する
ようにしても良い。
また、上記の実施例は、流量制御装置34による最適流
@Qsの自動設定を例にとるものであったが、流量制御
装置34に計数率Nを表示させ、この表示結果が最小値
となるように手動操作で流@調整器32を調整するよう
にしても良い。
(発明の効果) 以上説明してきたように本発明によれば、電子検出部内
に対する試料側からの電子の導入を禁止するバックグラ
ウンド計数モードの設定状態で、ドライエアー等の乾燥
したガスの供給流量を例えば零流量から徐々に増加させ
、ガス流量をそれ以上増加させても計数率が下がらない
飽和流量を最適供給流量として設定するようにしたため
、ドライエアー等の乾燥したガスの供給により電子検出
部内の湿度によるバックグラウンドノイズを最小に保つ
最適なガス供給量の設定状態を得ることができ、ガス供
給不足によりノイズ成分が増加したり、ガス供給のし過
ぎによる無駄を無くすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示した説明図、第2図は試
料測定時のALLモードと流量調整時のバックグラウン
ド計数モードにあける各部の電圧波形の時間変化を示し
た信号波形図、第3図は調整流量に対する計数率(バッ
クグラウンドノイズ)の関係を示した特性グラフである
。 1:電子検出部 2:検出窓 3:ケース 4:陽極リング 5;第1格子電極 6:第2格子電極 10:試料 10a:試料本体 10b:薄膜 13:光源 14:分光器 15.16;スリット 78:増幅器 20:第1パルス発生器 22:第2パルス発生器 23:高圧電源 24:計数手段 26:演算手段 28:表示手段 30:ガス供給配管 32:流量調整器 34:流量制御装置

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 試料に光を照射し、該試料から放出される電子を電子検
    出部内に導入して電子の数を計数する電子計数装置に於
    いて、 前記電子検出部内にドライエアー等の乾燥ガスを供給す
    るガス供給手段と、前記電子検出部内に対する試料側か
    らの電子の導入を禁止したバックグラウンド計数モード
    での電子数を測定する測定手段と、該測定手段で得られ
    たバックグラウンド計数モードでの測定値が最小となる
    ように前記ガス供給手段による供給量を制御する流量制
    御手段とを備えたことを特徴とする電子計数装置。
JP28030286A 1986-11-25 1986-11-25 電子計数装置 Expired - Fee Related JPH0641979B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28030286A JPH0641979B2 (ja) 1986-11-25 1986-11-25 電子計数装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28030286A JPH0641979B2 (ja) 1986-11-25 1986-11-25 電子計数装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63133079A true JPS63133079A (ja) 1988-06-04
JPH0641979B2 JPH0641979B2 (ja) 1994-06-01

Family

ID=17623093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28030286A Expired - Fee Related JPH0641979B2 (ja) 1986-11-25 1986-11-25 電子計数装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0641979B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0641979B2 (ja) 1994-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Dettmann et al. Absolute ionisation functions for electron impact with barium
JPH0724209B2 (ja) イオン注入装置
CN106093094A (zh) 一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法
CN116108666B (zh) 一种惯性传感器光电流模型的构建方法
JPS607049A (ja) 電位測定装置
JPH0641979B2 (ja) 電子計数装置
US20090095616A1 (en) Apparatus and method for measuring vapor flux density
JPH057581Y2 (ja)
US7205539B1 (en) Sample charging control in charged-particle systems
JPH0573190B2 (ja)
GB2054164A (en) Automatic Titration Apparatus
JP2968024B2 (ja) 電子エネルギー損失スペクトル測定装置
Pszona A new method for measuring the absolute efficiency of channel electron multipliers for electrons
Kokubun et al. Pressure Measurement in XHV Region Using Nonresonant Multiphoton Ionization by Picosecond Pulsed Laser
JP4216375B2 (ja) 二次電子増倍素子を使用した測定方法及び二次電子増倍素子を使用した装置
JPH04206424A (ja) イオン源
JPH058790B2 (ja)
JPS61111000A (ja) プラズマx線発生装置の制御方法
JPH06789Y2 (ja) 電子計数装置
JPH061683B2 (ja) 二次イオン質量分析計
JPH0519195B2 (ja)
CN207250454U (zh) 一种使用快速脉冲电子源的无离子快门的离子迁移谱仪
JPS585671A (ja) 電圧測定装置
JPH0376842B2 (ja)
JPH0676791A (ja) 集束イオンビーム装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees