JPS63135965U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63135965U JPS63135965U JP2926287U JP2926287U JPS63135965U JP S63135965 U JPS63135965 U JP S63135965U JP 2926287 U JP2926287 U JP 2926287U JP 2926287 U JP2926287 U JP 2926287U JP S63135965 U JPS63135965 U JP S63135965U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- material gas
- raw material
- gas supply
- reactor
- tungsten carbide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 10
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
図面は本考案の実施例を示すもので、第１図は
低温ＣＶＤ装置の全体構成図、第２図・第５図・
第８図は夫々遮断部材の底板の平面図、第３図・
第６図・第９図は夫々遮蔽部材のカバー部材の平
面図、第４図・第７図・第１０図は夫々遮蔽部材
のカバー部材の断面図、第１１図は遮蔽部材と機
械部品の拡大断面図、第１２図は底板とプラグの
要部拡大断面図、第１３図は変形例に係る第１１
図相当図である。 １……レトルト、２……ガス供給系、３……ガ
ス排出系、１０〜１２……遮蔽部材、１０Ａ〜１
２Ａ……底板、１０Ｂ〜１２Ｂ……カバー部材、
３４……嵌合孔、Ｗ……機械部品、ｈ……筒孔。
低温ＣＶＤ装置の全体構成図、第２図・第５図・
第８図は夫々遮断部材の底板の平面図、第３図・
第６図・第９図は夫々遮蔽部材のカバー部材の平
面図、第４図・第７図・第１０図は夫々遮蔽部材
のカバー部材の断面図、第１１図は遮蔽部材と機
械部品の拡大断面図、第１２図は底板とプラグの
要部拡大断面図、第１３図は変形例に係る第１１
図相当図である。 １……レトルト、２……ガス供給系、３……ガ
ス排出系、１０〜１２……遮蔽部材、１０Ａ〜１
２Ａ……底板、１０Ｂ〜１２Ｂ……カバー部材、
３４……嵌合孔、Ｗ……機械部品、ｈ……筒孔。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) タングステンカーバイト層形成のための原
料ガスを供給する原料ガス供給系と、原料ガス供
給系から原料ガスの供給を受けて被処理物に化学
蒸着を施す反応炉と、反応炉内のガスを排出する
ガス排出系とを備えたタングステンカーバイト層
を形成する処理装置において、 上記反応炉内に、筒状の被処理物を着脱可能に
保持し且つ被処理物の外周面を覆う遮蔽部材を原
料ガスの流動方向に交差させて隔壁状に設け、 上記遮蔽部材に被処理物の筒孔内へ原料ガスを
導入可能に被処理部材が内嵌される嵌合孔を設け
たことを特徴とするタングステンカーバイト層を
形成する処理装置。 (2) 上記遮蔽部材が原料ガスの流動方向に所定
間隔あけて複数段設けられている実用新案登録請
求の範囲第１項に記載のタングステンカーバイト
層を形成する処理装置。 (3) 上記原料ガス供給系の原料ガス供給管が反
応炉内へ複数本導入され、各遮蔽部材の下方に各
原料ガス供給管が開端している実用新案登録請求
の範囲第２項に記載のタングステンカーバイト層
を形成する処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2926287U JPH0623564Y2 (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | タングステンカ−バイト層を形成する処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2926287U JPH0623564Y2 (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | タングステンカ−バイト層を形成する処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63135965U true JPS63135965U (ja) | 1988-09-07 |
| JPH0623564Y2 JPH0623564Y2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=30832996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2926287U Expired - Lifetime JPH0623564Y2 (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | タングステンカ−バイト層を形成する処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0623564Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-02-28 JP JP2926287U patent/JPH0623564Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0623564Y2 (ja) | 1994-06-22 |
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