JPS6314318Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、誘電体ユニツト等のセラミツク電子
部品の焼成などに用いられる焼成用匣鉢に関す
る。

従来、例えば、誘電体ユニツトの焼成は第１図
に示す手順で行なわれている。すなわち、匣鉢１
……の底壁１ａ上にセツター２……を敷き、その
上に誘電体ユニツト３……を置く。そして、これ
らをプツシヤ４で焼成炉５に押し込めて加熱し、
所要時間経過してから焼成炉５から取り出す。セ
ツター２……は誘電体ユニツト３……に用いられ
るセラミツク材料と同じセラミツク材料からな
り、匣鉢１……と誘電体ユニツト３……との反応
をなくすうえで絶対に不可欠なものとされてい
る。ところが、このセツター２は……、例えば約
７mmの厚さを有し、匣鉢１……内で比較的大きい
体積を占めることになる。その結果、所定数の誘
電体ユニツト３……を収容するための匣鉢１……
の体積および重量が大きくなり、焼成炉に挿入で
きる匣鉢１……の数は少なくなる。したがつて、
焼成炉５の処理能力が制限され、プツシヤ４の負
担が大きくなる欠点がある。また、誘電体ユニツ
ト３……を匣鉢１……に入れる前にセツター２…
…を匣鉢１……に挿入したり、焼成後に誘電体ユ
ニツト３……を匣鉢１……から取出してからセツ
ター２……を匣鉢から取出したりしなければなら
ず、誘電体ユニツト３……の匣鉢１……への出入
れ作業の作業時間が多くかかる欠点がある。

本考案は、上述に鑑み、焼成炉の処理能力を高
め、プツシヤの負担を軽減するとともに、誘電体
ユニツト等のセラミツク電子部品の匣鉢への出入
れ作業時間を短縮することを目的とする。

本考案は、上述の目的のために、匣鉢の底壁の
上面に、内側のZrO₂粉末層と外側の共生地粉末
層とからなる薄膜状の焼成セツター層が一体に積
層形成された構成からなる。

以下、本考案を図面に示す実施例に基づき詳細
に説明する。

第２図ないし第４図は本考案の一実施例を示
し、第２図は本考案の一実施例に係る匣鉢の縦断
面図である。この匣鉢１０は４辺形の底壁１０ａ
とその各辺縁から立上げられた一連の周壁１０ｂ
とからなり、その底壁１０ａの上面に0.2〜0.3mm
の薄膜状に形成されたセツター層１１を有する。
誘電体ユニツト１２はこのセツター層１１の上に
縦横に並べられ、かつ、上下多段に置かれる。

前記セツター層１１は、第２図のの拡大図で
ある第３図に示すように、匣鉢１０の底壁１０ａ
上に、まずZrO₂粉末を振りかけてZrO₂層１１ａ
を形成し、さらにその上に誘電体ユニツト１２の
セラミツク材料と同じ材料よりなる共生地粉末を
振りかけて共生地層１１ｂを形成し、これら２重
層状に重ねられたZrO₂層１１ａおよび共生地粉
末層１１ｂをたとえば約1400℃で焼成することに
より形成される。なお、共生地粉末１１ｂと
ZrO₂粉末とは４〜６：６〜４の比で積層するの
が最適である。共生地粉末１１ｂの比がこれより
も大きくなると匣鉢１０の底壁１０ａとセツター
層１１とが反応を起し、ZrO₂粉末の比がこれよ
りも大きくなるとセツター層１１が匣鉢１０の底
壁１０ａに付着しなくなる。また、予めZrO₂粉
末と共生地粉末とを混合し、この混合粉末を底壁
１０ａ上に層状に振りかけて一層の粉末層を形成
し、これを焼成した場合にはセツター層の底壁１
０ａへの付着力が極端に弱くなり、実用できない
ことが確かめられている。第４図に示すように、
誘電体ユニツト１２……を収納した匣鉢１０……
は上下多段に積み重ねられ、両端を開放したトン
ネル状の焼成炉１３の一端の入口１３ａからプツ
シヤ１４で該焼成炉１３内に押し込められる。該
焼成炉１３内に押し込められたこの匣鉢１０……
は順に入口１３ａから均熱帯１３ｂを通つて焼成
炉１３の他端の出口１３ｃの方へ押しやられ、所
定の処理時間を経過した後、出口１３ｃから押し
出される。１５ａ，１５ｂは必要に応じて前記入
口１３ａと出口１３ｃとに設けられる昇降式炉蓋
である。

このように構成された匣鉢１０……は、従来の
セツターに比べて格段に薄いセツター層１１……
を形成することにより、その内容積のほぼ全体を
誘電ユニツト１２……の収納スペースとして活用
できる。したがつて、所定数の誘電体ユニツト１
２……を収容するための匣鉢１０……の体積およ
び重量が小さくなり、焼成炉１３に挿入できる匣
鉢１０……の数を多くして焼成炉１３の処理能力
を高められるとともに、プツシヤ１４の負担が小
さくなる。たとえば、従来は約28mm必要であつた
匣鉢１０……の高さを約21mmに低くすることがで
き、これにより、焼成炉１３の処理能力が約30％
高められるとともに、匣鉢１０……の重量が従来
の2.8Kgから1.7Kgになりプツシヤ１４への負担が
約20％軽減される。また、誘電体ユニツト１２…
…を匣鉢１０……に出し入れするときにセツター
を匣鉢１０……に出し入れする必要がなく、誘電
体ユニツト１２……の匣鉢１０……への出入れ作
業の作業時間をたとえば約26％短縮できる。な
お、ZrO₂粉末として微粉化したものを用いれば、
匣鉢１０……の底壁１０ａとの付着力の高いセツ
タ層を形成することができる。また、ZrO₂粉末
に、たとえば、CaCO₃を微量、具体的には約0.5
重量％添加し、焼成してセツタ層を形成すること
によつて、同様に底壁１０ａとの付着力を高める
ことができる。

以上説明したように、本考案は、匣鉢の底壁上
に、ZrO₂粉末層と共生地粉末層とを焼成して薄
膜状のセツター層を形成するので、匣鉢の内容積
のほぼ全体を誘電体ユニツト等の電子部品の収納
スペースとして活用でき、匣鉢の大きさを小さく
できる。その結果、焼成炉内に収容される匣鉢の
数を増加して焼成炉の処理能力を高められる。ま
た、匣鉢の小型化にともない匣鉢重量を小さくで
きるので、匣鉢を焼成炉に押し込めるプツシヤの
負担を軽減できる。さらに、誘電体ユニツト等の
電子部品を匣鉢に出し入れする際に従来必要であ
つたセツターの出し入れが不要になるので、電子
部品出し入れ作業の作業能率が高められ、作業時
間を短縮できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の誘電ユニツト焼成用装置および
その焼成手順を示す縦断面図、第２図ないし第４
図は本考案の一実施例を示し、第２図は本考案の
一実施例に係る匣鉢の縦断面図、第３図はセツタ
層焼成前の第２図の円囲部分の拡大縦断面図、
第４図はその匣鉢を用いる誘電体ユニツト焼成用
装置およびその焼成手順を示す縦断面図である。 １０……匣鉢、１０ａ……底壁、１１……セツ
ター層、１１ａ……ZrO₂粉末層、１１ｂ……共
生地粉末層。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 匣鉢の底壁の上面に、内側のZrO₂粉末層と外
   側の共生地粉末層とからなる薄膜状の焼成セツタ
   ー層が一体に積層形成されてなる焼成用匣鉢。