JPS63143705A - 透明導電性塗布液組成物及び透明導電性被膜を有する基材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、硝子又はプラスチック等の透明基材に対し基
材の持つ透明性を損わずに耐擦傷性・耐久性に優れギラ
ツキのない導電性被膜を低温で形成させる透明導電性塗
布液組成物及びそれを用いて透明導電性被膜を形成した
透明基材に関する。

〔従来の技術］ 硝子又はプラスチックは、透明性に特に優れ九基材であ
るため表示機器の材料、例えばブラウン管（ＯＲＴ　）
・液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）基板・ショーウィンドー
等に多用されている。

しかし、硝子又はプラスチック自体は絶縁体で表面に静
電気を帯びやすいためゴミ・ホコリが付いて映像を見ず
らくしていた。又ＬＣＤ等のエレクトロディスプレイは
、その静電気で誤動作を起こす事があった。硝子又はプ
ラスチックに導電性を持九せ帯電防止を施す方法として
は、■溶剤に導電性粉末とバインダー樹脂とを分散した
導電性塗料を塗布する方法、■塩化錫や錫アルコキシド
等の有機錫をスプレーする方法、■ＰＶＤ法・ｃｖＤ法
等の気相法（以上電子導電性）、■界面活性剤・シリコ
ンアルコキシド等をスプレーする方法（イオン導電性）
がある。

ところが電子導電性のものは導電性は充分だが、■では
透明性・耐擦傷性・耐溶剤性（バインダー樹脂が溶剤に
侵され塗膜表面が白化する）・耐水性（膜が剥がれる）
が悪く、■・■では透明性は良いが、耐酸性・耐アルカ
リ性・耐水性（以上三項目とも膜が剥げる）が悪く、ま
念被膜を形成する物質自体の屈折率が高くさらに被膜表
面が平滑な九めにギラツキ感がらって映像が見すらい。

さらに■ではパッシベーション膜を併用しないと焼成時
に硝子中のアルカリイオンが膜中に移動して導電性を低
下させなり、焼成温度が５００℃以下の場合には、耐ア
ルカリ性が低下して導電性が悪くなる。またガス（液滴
）の悪臭・腐蝕性・爆発性で作業環境に問題がらり、■
では耐擦傷性が悪いうえにコストが高く、基材が曲面を
持ったり大面積のものでは大形の装置を必要とした。イ
オン導電性の■は、温度・湿度等の環境により導電性が
変化し、耐擦傷性・耐アルカリ性（膜が溶解する）・耐
水性（剥げる）が悪かった。

〔発明が解決しようとする問題点コ 本発明は、上記の様な従来技術に伴う問題点を解決しよ
うとするものであって、硝子又はプラスチック等（以下
硝子等と言う。）の透明基材に対し基材の持つ透明性を
損わずに耐擦傷性及び耐酸性・耐アルカリ性−耐溶剤性
・耐水性（以上４点を以下耐久性と言う）に優れギラツ
キのない導電性被膜を低温で形成する透明導電性塗布液
組成物及びこれを塗布、硬化させて得られる透明導電性
液＠を有する透明基材を提供しようとするものである。

〔問題点を解決する九めの手段〕

本発明は、ジルコニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカ
及び導電性酸化錫コロイドを水と成長防止剤及び希釈剤
に均一分散させて、硝子等の透明基材に対し基材の持つ
透明性を損わずに耐擦傷性・耐久性に優れギラツキのな
い導電性被膜を低温で形成する透明導電性塗布液組成物
及びこれを塗布、硬化させて得られる透明導電性被膜を
有する透明基材である。

本発明では、ジルコニウムのオキシ酸塩から得られるジ
ルコニアと非沈降性シリカから得られるシリカとの混合
物をマトリックスとし、そのマトリックス中に導電性酸
化錫コロイドを分散させることで、導電性を持った透明
被膜を形成する透明導電性塗布液組成物である。被膜の
ギラツキは、その被膜の反射率に依存している。

被膜の反射率はその屈折率及び表面の形状に因って決り
、更に屈折率は被膜を構成する物質及び被膜の密度に依
存する。従って反射率を下げるには、屈折率の小さな物
質だけを用いるか、あるいは屈折率の大きな物質では屈
折率の小さな物質と混合するか又は被膜の密度を下げれ
ば良い。次に被膜表面の形状は、平滑性が高くなると反
射率も高くなるので平滑性を低下させてやれば良いが、
平滑性が低下しすぎると被膜の透明性も同時に低下して
しまう。従って本発明では、被膜のギラツキをなくすた
めにジルコニア（屈折率２．２）にシリカ（屈折率ｔ、
Ｓ）を混合してマトリックス自体の屈折率を低下させ、
さらに被膜を多孔性にしてその見かけの屈折率を低下さ
せ、その上透明性を低下させない程度に被膜表面を凹凸
にしてギラツキをなくしている。ところが一般に被膜が
多孔性になると平滑な被膜に比べその表面積が増す念め
耐久性が悪くなる。耐久性の強い物質には、ジルコニア
があるが、一般にジルコンアルコキシドラ用いてジルコ
ニアの被膜を得ている。ところが、ジルコンアルコキシ
ドは、加水分解速度が速い念めにその速度を制御するこ
とが困難であり、塗布液として透明基材に塗布し念際、
湿度の影響を受は易く湿度によって被膜の性状が左右さ
れ一定性状を有する被膜を連続的に得ることは難しい。

又微量の水分で加水分解するため塗布液を長期保存でき
ない。さらにジルコンアルコキシドは、高価なため工業
製品の原料としてはコスト高となる。本発明ではジルコ
ニウム塩ｅｌ用することによって従来の問題点を解決し
たものである。

本発明に係るジルコニウム塩は、オキシ酸塩が用いられ
、特にオキシ塩化ジルコニウム・オキシ硝酸ジルコニウ
ムがよい。

ジルコニウムのオキシ酸塩を水溶液の形で、硝子等の基
材に塗布しても前記水溶液がはじかれて被膜ができない
。これはジルコニウムのオキシ酸塩の造膜性が低いのと
基板に対する前記水溶液の表面張力が高いために起るが
、ます造膜性を向上させるために非沈降性シリカを加え
た。表面張力を低下させるには、表面張力の低い有機溶
媒を混合するか又は混合した後に水の一部を系内から脱
水する必要がある。しかし、通常の有機溶剤では、水が
少なくなるとジルコニウムのオキシ酸塩及び非沈降性シ
リカが不安定になり、分解してゲル化を起こしたシ重合
を促進することがある。本発明においては、種々の有機
溶剤のなかから上記の様なジルコニウムのオキシ酸塩及
び非沈降性シリカの分解・ゲル化等を防止し成長防止剤
となり得る有機溶剤について検討し念結果、ジルコニウ
ムのオキシ酸塩と非沈降性シリカ及び導電性酸化錫コロ
イドの混合水溶液に特定の有機溶剤を混合するか、又は
混合した後に水の一部を系内から脱水することによって
上記の問題点の解決を見出だした。

この様にして調製した塗布液組成物は、この有機溶剤が
成長防止剤として作用するため、水が少なくなってもジ
ルコニウムのオキシ酸塩及び非沈降性シリカのゲル化や
重合が起こらず安定であり、又、同時に造膜性を向上さ
せ塗布液組成物の表面張力を低下させることができる。

更に希釈剤で希釈して基材に塗布したとき、希釈剤と水
及び一部の成長防止剤が蒸発しても、残りの成長防止剤
によりジルコニウムのオキシ酸塩及び非沈降性シリカの
分解・ゲル化及び重合が抑えられ、その後残りの成長防
止剤が徐々に蒸発していく時点で、ジルコニウムのオキ
シ酸塩と非沈降性シリカの重合が起こって破膜が形成さ
れる。造膜性が非沈降性シリカによって向上されるのは
、おそらく成長防止剤が徐々に蒸発していく時に非沈降
性シリカの持つ水Ｉｆ　２Ｓによってジルコニウムのオ
キシ酸塩との重合が促進されるためではないかと思われ
る。

本発明に係る導電性酸化錫コロイドとは、酸化錫または
異種元素をドープした酸化錫あるいはこの両者が、水ま
念は有機溶媒中に分散されてなるコロイドでちり、これ
は、本出願人が先に出願し之「酸化錫ゾル及び酸化錫ゾ
ルの製造方法」（特願昭６１−７５２８３号）の発明に
よって得られる導電性酸化錫コロイドである２゜コロイ
ド粒子の粒子径はその平均粒径がａ、０１〜α１μｍの
範囲にあるものが良い。１０１μｍ未満では被膜を多孔
性にできず、１１１μｍを越えると得られる被膜の曇価
（以下ヘーズと言う）が高くなって基材の透明性を損ね
る。ただし平均粒径が１１μｍ以下であってもα１μｍ
ｉ越える粒子が多く含まれていると被膜のヘーズが高く
なって基材の透明性を低下させるので、好ましくはコロ
イドの全粒子の６０係以上がα１μｍ以下の粒径の粒子
で占められるものが良い。

本発明に係る非沈降性シリカとは、珪酸アルカリ水溶液
をイオン交換法あるいは透析法等の方法でアルカリと水
素を交換することによって得られるものであって、２．
　Ｏｗｔｌ　（ＳｉＯ１換算）水溶液を２５０，０ＯＯ
Ｇ、１時間で遠心沈降させ念際、沈降物が水溶液中の全
ＳｉＯ！　に対して３０重量部、好ましくは１０重量部
以下のものである。好ましくは、本出願人が先に出願し
た「コーティング用非沈降性シリカ組成物及びその製造
法」（特願昭６１−１８７８３５号）の発明によって得
られる非沈降性シリカが用いられる。この様にして得ら
れる非沈降性シリカは、本来不安定でコロイド粒子が生
成されたりゲル化し易いが、塗布液組成物中の成長防止
剤によって安定化される。さらにこの非沈降性シリカは
、ジルコニウムのオキシ酸塩と混合してもゲル化するこ
とはなく、又ジルコニウムのオキシ酸塩をもゲル化させ
ない。

本発明に係る成長防止剤としては、ジルコニウムのオキ
シ塩及び非沈降性シリカをゲル化させないもの、あるい
は重合を促進させないもので、好ましくは、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ、Ｎジメチルホルムアミド、モル
ホリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコー
ル等、及びそれらの誘導体を一種又は二種以上組合わせ
て使用できる。

本発明に係る希釈剤は、ジルコニウムのオキシ酸塩及び
非沈降性シリカをゲル化させ々いものであればよく、例
えばメタノール、エタノール、ｎ−７”ロバノール、１
−７’ロバノール、ｎ−ブタノール、１−ブタノール、
ｔ−ブタノール等のアルコール、酢酸メチルエステル、
酢酸エチルエステル等の酸性エステル、ジエチルエーテ
ル等のエーテル、アセトン等の一種又は二種以上組合わ
せて使用できる。

Ｚｒ０１・　ＳｉＯ！・導電性酸化錫コロイド・水分・
成長防止剤・希釈剤の組成比は、第一に、成長防止剤は
、ＺｒＯ２とＳｉＯｆｉ　の合計に対するｍｏｂ比とし
て、１≦（成長防止剤）／（ｚｒｏ意十ｓｉｏ、）≦２
５が良い。好ましくは２以上にする。

１未満では塗布液のポットライフ（使用可能期間）が短
くなり、長期保存ができない。２５を越えると塗布液組
成物を塗布し、硬化させていく際に硬化が不均一になっ
て被膜の耐久性が悪くなる。第二に、水分は、　Ｚｒ０
１　　との重量比において、ＣＬ１≦Ｊ　Ｏ／　Ｚ　ｒ
　Ｏ！≦４０≦４０の条件を満念した上で、塗布液組成
物の全体重量（以下全体重量と言う）に対してｓ　ｏ　
ｗｔ１以下が良い。（１１未満ではジルコニウムのオキ
シ酸塩のゲル化が起り、重量比が４０、あるいは全体重
量の５　Ｑ　ｗｔ９６を越えると成長防止剤の効果が無
くなり、透明基材上で塗布液組成物のはじきが起こるか
らである。第三に、ＺｒＯ２と５１０２と導電性酸化錫
コロイドとの合計重量は全体重量に対して、１１〜２０
　ｗｔｌが好ましく、塗布液の長期保存性の上では、α
１〜１０ｗｔ％が良い。

２　ｏ　ｗｔｌを越えると塗布液の安定性が悪くなシ容
易にゲル化するからである。

第四に、導電性酸化錫コロイドとジルコニウムのオキシ
酸塩と非沈降性シリカとの割合いは、１≦（導電性酸化
錫コロイド）　／　（ＺｒＯ＊＋５ｉＯ１）≦５（重量
比）が良い。１未溝では被膜の導電性が悪くなったり、
又被膜が多孔性にならず、５を越えると被膜の密着性が
低下する。第五に、非沈降性シリカとジルコニウムのオ
キシ酸塩の割合いは、α０５≦ＳｉＯＨ／　Ｚｒ０１≦
１（重量比）が良い。１０５未満では被膜の密着性が悪
くなり、１を越えると被膜の耐久性が悪くなるからであ
る。

希釈剤は、本発明の透明導電性塗布液組成物を塗工法に
合せた粘度あるいは希望する膜厚となる様に添加すれば
良い。

本発明の透明導電性塗布液組成物の展進方法は、特に限
定しないが好ましい方法として、予めジルコニウムのオ
キシ酸塩と非沈降性シリカ及び導電性酸化錫コロイドが
水及び成長防止剤に分散された混合液から水の一部を脱
水し、又は脱水せずに希釈剤を添加すればよく、水を脱
水するには蒸溜法又は限外デ過法が使用できる。

本発明に係る透明ｓＭ１．性塗布液塗布液組成物子等の
基材に従来公知の塗工法、例えばスピンナー法、バーコ
ード法、ディップ法、スプレー法、ロールコート法、印
刷法等の方法によって塗工され、次いで乾燥すれば耐久
性及び機械強度の良い被膜が得られるが、さらに耐久性
及び機械強度の高い塗膜が必要な用途にｆ′１３００℃
以上で基材のガラス転移点以下の温度で焼成すれば良い
。

この様にして得られる被膜は全光線透過率（ＴＩ；）９
０鳴以上、ヘーズ（Ｈ）が５以下なので透明基材の透明
性を損わず、表面抵抗が１０６〜１０９Ω／α２　であ
るため帯電防止効果に優れ、又ギラツキが防止されてい
る。また酸、アルカリに侵されず、水、塩水に耐え密着
性に優れ被膜の変化が無い。

透明基材としては、硝子板及びＣＲＴ等の硝子加工品あ
るいはポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート
、ポリ（メタ）アクリノート等のシート及びその加工品
が適している。なお、有色基材に塗布するときには基材
の色調を変化させずに被膜を形成することができる。

本発明の導電性塗布液組成物を用いて得られた導電性硝
子又はプラスチックは、帯電防止用ディスプＶイパネル
、コピー硝子、計器表示パネル、透明デジタイザー、テ
レライティングターミナル等への適用が可能である。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。

〔実施例］ 実施例１ 錫酸カリウム３１８ｔと吐酒石５ａ４ｆとを、水６８６
？に溶解して原料液を調製し虎。５０℃に加温されて攪
拌下にあるｔｏｏｏｒの水に、前記の原料液を硝酸とと
もに１２時間かけて添加し、系内をｐａａｓに保持して
加水分解させてゾル液を得な。このゾル液からコロイド
粒子ｆｔＦ別し、洗浄して副生塩を除去し穴径粒子を乾
燥し、空気中３５０℃で３時間焼成し、さらに空気中６
５０℃で２時間焼成して微粉末を得た。得られた粉末４
００ｆを水酸化カリウム水溶液１６００　ｔ　（ＫＯ１
１４０を含有）中に加え、この混合液を３０℃に保持し
ながらサンドミルで３時間攪拌しながら導電性酸化錫コ
ロイドを得念。次いでこの導電性酸化錫コロイドをイオ
ン交換樹脂で処理することにより、脱アルカリされた導
電性酸化錫コロイドを得た（導電性ゾル液）。この脱ア
ルカリされ念導電性酸化錫コロイドは沈澱物を含まず、
固形分濃度は２０ｗｔ４であって、コロイド粒子の平均
粒径はＣＬ０７μｍであった。そして１１μｍ以下の粒
子の量は、全粒子の８７％であった。Ｓ１０！　　とし
て５ｗｔ４の珪酸ナトリウム（５１ｏｐ／　１３２１．
Ｑ＝３　ｍｏ１／ｍｏｌ　）　２０００　ｆを１５℃に
保持したまま水素型イオン交換樹脂カラム中に空間速度
８ｖ＝５で通過させた（非沈降性シリカ液）。この非沈
降性シリカ液のうち５０ｔと導電性ゾル液のうち５０ｆ
に、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを２０ｆとＺｒ０１　
に換算して２５　ｗｔ％オキシ塩化ジルコニウム水溶液
を１０ｔとＭｅＯＨ／　Ｂｕｄ）！（重量比１／１）１
７０ｔを添加し十分混合して透明導電性塗布液組成物を
得な。

実施例２ 実施例１で得られた非沈降性シリカ液を５０２と導電性
ゾル液を２００　ｆ！Ｉｃ％Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン１０ＳＦとＺｒＯ２に換算して２５ｗｔ％オキシ塩化
゛ジルコニウム水溶液を４ｏｆとＭｅｏＨ／　１ｉＸｔ
ｏａ　（重量比１／　１　）　１４００　ｆを添加し十
分分散して透明導電性塗布液組成物を得た。

実施例３ Ｎ−メチル−２−ピロリドン１０ｆとＭｅＯＨ／ＢｕＯ
Ｈ（重量比１／１）３８０？に代えた以外は実施例１と
同一条件で透明導電性塗布液組成物を得た。

実施例４ 実施例１で得られ念非沈降性シリカ液を５Ｏｆと導電性
ゾル液を２２０ｔに、Ｎ−メチル−ｂ−ピロリドン１１
０ｆとＺｒ０１　に換算して２５　ｗｔ％オキシ塩化ジ
ルコニウム水溶液を１００２とＭａＯＨ／　］！：２Ｏ
Ｈ（重量比１／１）３４５Ｆを添加し十分分散して透明
導電性塗布液組成物を得な。

実施例５ 実施例１で得られた非沈降性シリカ液を５゜ｒと導電性
ゾル液を１０ｏｆに、Ｎ、Ｎｉｌジメチルホルムアミド
１５０ｔとＺｒＯ２に換算して２５ｗｔ４オキシ硝酸ジ
ルコニウム水溶液３ｏｔを均−混合後、ローターリ−エ
バポレーターにて減圧しながら８０℃に加熱して水を１
３５を滴量させた。この液を冷却しさらにＭｓＯＨ／　
ＢｕＯＨ（重量比１　／　１　）　４０５　ｆを添加し
十分分散して透明導電性塗布液組成物を得た。

実施例６ エチレンクリコールモノメチルエーテル２０ｔに代えた
以外は実施列１と同一条件で透明導電性塗布液組成物を
得意。

実流１３１７ モルホリン２Ｑｆに代え念以外は実施列１と同一条件で
透明導電性塗布液組成物を得た。

比較列１ 実施例１で得られた非沈降性シリカ液を２００１と導電
性ゾル液を１２５ｆに、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５
０？とＺｒＯ倉　　に換算して２５ｗｔ％オキシ塩化ジ
ルコニウム水溶液１０ｆを均−混合後、ローターリーエ
バポレーターニテ減圧しながら８０℃に加熱して水１２
１０　ｆ滴量させた。この液を冷却しさらにＭｅＯＨ／
　ＢｕＯＨ（重量比１／１）１０７５？を添加し十分分
散して透明導電性塗布液組成物を得意。

比較例２ 実施例１で得られた非沈降性シリカ液を１００２と導電
性ゾル液を２５ｆに、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０
ｆとＺｒ０１　に換算して２５ｗｔ＊オキシ塩化ジルフ
ニ９ム水溶液を２０？とＭｅＯＢ　／　ＢｕＯｌｌｌ　
（重量比１／１）１１５ｆを添加し十分分散して透明導
電性塗布液組成物を得た。

比較例３ 実施例１で得られた非沈降性シリカを１００２と導電性
ゾル液を３５ｏｆに、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０
９とＺｒＯ２に換算して２５ｗｔ１オキシ硝酸ジルコニ
ウム水溶液２０Ｆを均−混合後、ローターリ−エバポ−
ターにて減圧しながら８０℃に加熱して水を２５０２溜
出させた。この液を冷却しさらにＭｅＯｌｌ　／　Ｂｕ
ＯＨ（重量比１／１）１３４０Ｆを添加し十分分散して
透明導電性塗布液組成物を得意。

比較例４ 実施ｇＡＪ１で得られ念非沈降性シリカ液を５００２と
導電性ゾル液のうち５００ｆに、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン６ｆとＺｒ０１　に換算して２５ｗｔ％オキシ硝
酸ジルコニウム水溶液１００ｆを均−混合後、ローター
リ−エバポ−ターにて減圧しながら８０℃に加熱して水
を９００１溜出させ九ところゲル化した。

比較例５ 実施例１で得られ念非沈降性シリカ液を１０ｏｆと導電
性ゾル液を１００２に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２
５１とＺｒ０ｇ　に換算して５ｗｔ１オキシ塩化ジルコ
ニウム水溶液を１００１とＭｅＯ）Ｉ　／　ＢｕＯＨ（
重量比１／１）７５ｆを添加し十分分散して透明導電性
塗布液組成物を得た。

実施例及び比較例の液組成及び組成比を表−１に示しな
。

実施例１〜５・比較例１〜五５で得られた塗布液組成物
を硝子板に、実施例６，７で得られ念透明導電性塗布液
組成物をアクリル板にスピンナーを使用し２０００　ｒ
、ｐ、ｍ、で塗布した。硝子板は、１１０℃１０分間乾
燥後、３００℃３０分間焼成し、アクリル板は１１０℃
３０分間乾燥して被膜を得な。

なお、６０℃に保持する１４インチブラウン管用パネル
にスプレーの供給空気圧入〇　ｋｇ／１ｗｏ”で、実施
ｇＡＵ１で得られ念透明導電性塗布液組成物を２０−ス
プレー塗布した。その後１１０℃１０分間乾燥し、４５
０℃３０分間焼成して被膜を得た。これを実施例１′と
する。

得られた被膜について下記の評価を行った。

結果を表−２，３に示す。

■透明性：全光線透過率（Ｔｔ）およびヘーズ（Ｈ）を
ヘーズコンピューター（ス ガ試験機製）で測定し念。

■光沢度：Ｊ工８Ｋ　７１０５−８１　　の光沢度の測
定法において測定角度６０°で光沢度（Ｇ） を評価した。

■密着性：市販の１２−幅のセロテープの一部を被膜に
貼り付け、残りを被膜に対 して直角に保ち、瞬間的に引き剥が し、硝子上の被膜の有無を目視し念。

■硬　度：Ｊ工５ＤＯ２０２−７１の鉛筆硬度テストで
測定した。

０表面抵抗：電極セル（ＹＨＰ製）で測定した。

■耐久性：下記４！ｇ１類の液に漬けた後、密着性（■
と同じ）評価し、試験前後の光 沢度・表面抵抗（■・■と同じ）を 、比較した。

１）１５ｖｔ％アンモニア水に室温で １２０時間。

２）　　１０　ｗｔ（ｊ　Ｎａ０６　水溶液に室温で１
２０時間。

３）煮沸している水の中に３０分間。

４）５０ｗｔ％Ｏ酢酸水溶液中に室温 で１２０時間。

〔発明の効果〕　　　　゛ 本発明は上記構成を採用することにより、硝子等の透明
基材に対し基材の透明性を損うことなく耐久性、機械的
強度、密着性に優れた導電性被膜を低温で形成させる事
ができる。また、本発明の塗布液組成物のポットライフ
（使用可能期間）は、室温、暗所中で３ケ月以上である
。

なお、透明導電性被膜を有する基材に表面平滑性が要求
されたり、表面摩擦係数を小さくしたいときには、本発
明による被膜上にポリエステル、アクリル、シリコーン
、ポリプロピレン、ポリエチレン、ボリスチＶン、エボ
ヤシ等の樹脂あるいはシリカ等の無機物の透明保護膜を
設けることができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）ジルコニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカと導
   電性酸化錫コロイドを水と成長防止剤と希釈剤とからな
   る分散媒中に均一分散した事を特徴とする透明導電性塗
   布液組成物。 （２）成長防止剤として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
   、Ｎ、Ｎジメチルホルムアミド、モルホリン、エチレン
   グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
   ノエチルエーテル、エチレングリコール及びそれらの誘
   導体の中の一種又は二種以上組合せて使用する事を特徴
   とする特許請求の範囲第一項記載の透明導電性塗布液組
   成物。 （３）導電性酸化錫粉末及び／又は異種元素をドープし
   た導電性酸化錫粉末を、酸水溶液又はアルカリ水溶液中
   で加熱処理して得られる導電性酸化錫コロイドを使用す
   る事を特徴とする特許請求の範囲第一項又は第二項記載
   の透明導電性塗布液組成物。 （４）ジルコニウムのオキシ酸塩をＺｒＯ＿２に換算し
   、非沈降性シリカをＳｉＯ＿２に換算し、導電性酸化錫
   コロイド、水分、成長防止剤及び希釈剤との組成比を、 １≦（成長防止剤）／（ＺｒＯ＿２＋ＳｉＯ＿２）≦２
   ５（ｍｏｌ比） ０．１≦Ｈ＿２Ｏ／ＺｒＯ＿２≦４０（重量比） Ｈ＿２Ｏ／（塗布液組成物の全体重量）≦０．５（重量
   比） ０．００１≦（ＺｒＯ＿２＋ＳｉＯ＿２＋導電性酸化錫
   コロイド）／（塗布液組成物の全体重量）≦０．２（重
   量比） １≦（導電性酸化錫コロイド）／（ＺｒＯ＿２＋ＳｉＯ
   ＿２）≦５（重量比） ０．０５≦ＳｉＯ＿２／ＺｒＯ＿２≦１（重量比） とする事を特徴とする特許請求の範囲第一項又は第二項
   又は第三項に記載の透明導電性塗布液組成物。 （５）ジルコニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカと導
   電性酸化錫コロイドを水と成長防止剤と希釈剤とからな
   る分散媒中に均一に分散した塗布液を基材に塗布後、硬
   化させてなる透明導電性被膜を有する基材。