JPH054763B2

JPH054763B2 -

Info

Publication number: JPH054763B2
Application number: JP61288923A
Authority: JP
Inventors: Goro Sato; Michio Komatsu; Toshiharu Hirai; Keiichi Mihara
Original assignee: Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Current assignee: JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority date: 1986-12-05
Filing date: 1986-12-05
Publication date: 1993-01-20
Also published as: JPS63143705A

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］本明は、硝子又はプラスチツク等の透明基材に
対し基材の持つ透明性を損なわずに耐擦傷性・耐
久性に優れギラツキのない導電性被膜を低温で形
成させる透明導電性塗布液組成物及びそれを用い
て導電性被膜を形成した透明基材に関する。［従来の技術］硝子又はプラスチツクは、透明性に特に優れた
基材であるため表示機器の材料、例えばブラウン
管（CRT）・液晶デイスプレイ（LCD）基板・シ
ユーウインドー等に多用されている。しかし、硝
子又はプラスチツク自体は絶縁体で表面に静電気
を帯びやすいためゴミ・ホコリが付いて映像を見
ずらくしていた。又LCD等のエレクトロデイス
プレイは、その静電気で誤動作を起こすことがあ
つた。硝子又はプラスチツクに導電性を持たせ帯
電防止を施す方法としては、溶剤に導電性粉末
とバインダー樹脂とを分散した導電性塗料を塗布
する方法、塩化錫や錫アルコキシド等の有機錫
をスプレーする方法、PVD法・CVD法等の気
相法（以上電子導電性）、界面活性剤・シリコ
ンアルコキシド等をスプレーする方法（イオン導
電性）がある。ところが電子導電性のものは導電
性は充分だが、では透明性・耐擦傷性・耐溶剤
性（バインダー樹脂が溶剤に侵かれ塗膜表面が白
化する）・耐水性（膜が剥がれる）が悪く、・
では透明性は良いが、耐酸性・耐アルカリ性・
耐水性（以上３項目とも膜が剥げる）が悪く、又
被膜を形成する物質自体の屈折率が高くさらに被
膜表面が平滑なためにギラツキ感があつて映像が
見ずらい。さらにではパツシペーシン膜を併用
しないと焼成時に硝子中のアルカリイオンが膜に
移動して導電性を低下させたり、焼成温度が500
℃以下の場合には、耐アルカリ性が低下して導電
性が悪くなる。又ガス（液滴）の悪臭・腐蝕性・
爆発性で作業環境が問題であり、では耐擦傷性
が悪いうえにコストが高く、基材が曲面を持つた
り大面積のものでは体形の装置を必要とした。イ
オン導電性のは、温度・湿度の環境により導電
性が変化し、耐擦傷性・耐アルカリ性（膜が溶解
する）・耐水性（剥げる）が悪かつた。［発明が解決しようとする問題点］本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点
を解決しようとするものであつて、硝子又はプラ
スチツク等（以下硝子等と言う）の透明基材に対
し基材の持つ透明性を損わずに耐擦傷性及び耐酸
性・耐アルカリ性・耐溶剤性・耐水性（以上４点
を以下耐久性と言う）に優れギラツキのない導電
性被膜を低温で形成する透明導電性塗布液組成物
及びこれを塗布、硬化させて得られる透明導電性
被膜をする透明基材を提供しようとするものであ
る。［問題点を解決するための手段］本発明は、ジルコニウムのオキシ塩と非沈降性
シリカ及び導電性酸化錫コロイドを水と成長防止
剤及び希釈剤に均一分散させて、硝子等の透明基
材に対し基材の持つ透明性を損わずに耐擦傷性・
耐久性に優れギラスツキのない導電性被膜を低温
で形成する透明導電性塗布液組成物及びこれを塗
布、硬化させて得られる透明導電性被膜を有する
透明基材である。本明では、ジルコニウムのオキシ塩から得られ
るジルコニアと非沈降性シリカから得られるシリ
カとの混合物をマトリツクスとし、そのマトリツ
クスに導電性酸化錫コロイド粒子を分散させるこ
とで、導電性を持つた透明被膜を形成する透明導
電性塗布液組成物である。被膜のギラツキは、そ
の被膜の反射率に依存している。被膜の反射率は
その屈折率及び表面の形状に因つて決り、更に屈
折率は被膜を構成する物質及び被膜の密度に依存
する。従つて反射率を下げるには、屈折率の小さ
な物質だけを用いるか、あるいは屈折率の大きな
物質では屈折率の小さな物質と混合するか又は被
膜の密度を下げれば良い。次に被膜表面の形状
は、平滑性が高くなると反射率も高くなるので平
滑性を低下させてやれば良いが、平滑性が低下し
すぎると被膜の透明性も同時に低下してしまう。
従つて本明では、被膜のギラツキをなくすために
ジルコニア（屈折率2.2）にシリカ（屈折率1.5）
を混合してマトリツクス自体の屈折率を低下さ
せ、更に被膜を多孔性にしてその見かけの屈折率
を低下させ、その上透明性を低下させない程度に
被膜表面を凹凸にしてギラツキをなくしている。
ところが一般に被膜が多孔性になると平滑な被膜
に比べてその表面積が増すため耐久性が悪くな
る。耐久性の強い物質には、ジルコニアがある
が、一般にジルコニウムアルキシドを用いてジル
コニアの被膜を得ている。ところが、ジルコニウ
ムアルコキシドは、加水分解速度が速いためにそ
の速度を制御することが困難であり、塗布液とし
て透明基材に塗布した際、湿度の影響を受け易く
湿度によつて被膜の性状が左右され一定性状を有
する被膜を連続的に得ることは難しい。又微量の
水分で加水分解するため塗布液を長期保存できな
い。さらにジルコニウムアルコキシドは、高価な
ため工業製品の原料としてはコスト高となる。本
発明ではジルコニウム塩を使用することによつて
従来の問題点を解決したものである。本発明に係るジルコニウム塩は、オキシ塩が用
いられ、特にオキシ塩化ジルコニウム・オキシ硝
酸ジルコニウムがよい。ジルコニウムのオキシ塩を水溶液の形で、硝子
等の基材に塗布しても前記水溶液がはじかれて被
膜ができない。これはジルコニウムのオキシ塩の
造膜性が低いのと基板に対する前記水溶液の表面
張力が高いために起るが、まず造膜性を向上させ
るために非沈降性シリカを加えた。表面張力を低
下させるには、表面張力の低い有機溶媒を混合す
るか又は混合した後に水の一部を系内から脱水す
る必要がある。しかし、通常の有機溶剤では、水
が少なくなるとジルコニウムのオキシ塩及び非沈
降性シリカが不安定になり、分解してゲル化を起
こしたり重合を促進することがある。本発明にお
いては、種々の有機溶剤のなかから上記のような
ジルコニウムのオキシ塩及び非沈降性シリカの分
解・ゲル化等を防止し成長防止剤となり得る有機
溶剤について検討した結果、ジルコニウムのオキ
シ塩と非沈降性シリカ及び導電性酸化錫コロイド
粒子の混合水溶液に特定の有機溶剤を混合する
か、又は混合した後に水の一部を系内から脱水す
ることによつて上記の問題点の解決を見出だし
た。このようにして調製した塗布液組成物は、こ
の有機溶剤が成長防止剤として作用するため、水
が少なくなつてもジルコニウムのオキシ塩及び非
沈降性シリカのゲル化や重合が起こらず安定であ
り、又、同時に造膜性を向上させ塗布液組成物の
表面張力を低下させることができる。さらに希釈
剤で希釈して基材に塗布したとき、希釈剤と水及
び一部の成長防止剤が蒸発して、残りの成長防止
剤によりジルコニウムのオキシ塩及び非沈降性シ
リカの分解・ゲル化及び重合が抑えられ、その後
残りの成長防止剤が徐々に蒸発していく時点で、
ジルコニウムのオキシ塩と非沈降性シリカの重合
が起こつて被膜が形成される。造膜性が非沈降性
シリカによつて向上されるのは、おそらく成長防
止剤が徐々に蒸発していく時に非沈降性シリカの
持つ水酸基によつてジルコニウムのオキシ塩との
重合が促進されるためではないかと思われる。本発明に係る導電性酸化錫コロイド粒子とは、
酸化錫又は異種元素をドープした酸化錫あるいは
この両者が、水又は有機溶媒中に分散されてなる
コロイド粒子であり、これは、本出願人が先に出
願した「酸化錫ゾル及び酸化錫ゾルの製造方法」
（特願昭61−75283号）の発明によつて得られる導
電性酸化錫コロイド粒子である。コロイド粒子の
粒子径はその平均粒径が0.01〜0.1μｍの範囲にあ
るものが良い。0.01μｍ未満では被膜を多孔性に
できず、0.1μｍを越えると得られる被膜の曇価
（以下ヘーズと言う）が高くなつて基材のの透明
性を損ねる。ただし平均粒径が0.1μｍ以下であつ
ても0.1μｍを越える粒子が多く含まれていると被
膜のヘーズが高くなつて基材の透明性を低下させ
るので、好ましくはコロイド中の全粒子の60％以
上が0.1μｍ以下の粒径の粒子で占められるものが
良い。本発明に係る非沈降性シリカとは、珪酸アルカ
リ水溶液をイオン交換法あるいは透析法等の方法
でアルカリと水素を交換することによつて得られ
るものであつて、20wt％（SiO₂換算）水溶液を
250000G、１時間で遠心沈降させた際、沈降物が
水溶液中の全SiO₂に対して30重量部、好ましく
は10重量部以下のものである。好ましくは、本出
願人が先に出願した「コーテイング用非沈降性シ
リカ組成物及びその製造法」（特願昭61−187835
号）の発明によつて得られる非沈降性シリカが用
いられる。このようにして得られる非沈降性シリ
カは、本来不安定でコロイド粒子が生成されたリ
ゲル化し易いが、塗布液組成物の成長防止剤によ
つて安定化される。さらにこの非沈降性シリカ
は、ジルコニウムのオキシ塩と混合してもゲル化
することはなく、又ジルコニウムのオキシ塩をも
ゲル化させない。本発明に係る成長防止剤としては、ジルコニウ
ムのオキシ塩及び非沈降性シリカをゲル化させな
いもの、あるいは重合を促進させないもので、好
ましくは、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ
ジメチルホルムアミド、モルホリン、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコール等及
びそれらの誘導体を一種又は二種以上組合わめて
使用できる。本発明にに係る希釈剤は、ジルコニウムのオキ
シ塩及び非沈降性シリカをゲル化させないもので
あれば良く、例えばメタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアル
コール、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステ
ル等の酸性エステル、ジエチルエーテル等のエー
テル、アセトン等のケトンの一種又は二種以上組
合わめて使用できる。 ZrO₂・SiO₂・導電性酸化錫コロイド粒子・水
分・成長防止剤・希釈剤の組成比は、第一に、成
長防止剤は、ZrO₂とSiO₂の合計に対するmol比
として、１≦（成長防止剤）／ZrO₂＋SiO₂）≦25
が良い。好ましくは２以上にする。１未満では塗
布液のポツトライフ（使用可能期間）が短くな
り、長期保存ができない。25を越えると塗布液組
成物を塗布し、硬化させていく際に硬化が不均一
になつて被膜の耐久性が悪くなる。第二に、水分
は、ZrO₂との重量比において、0.1≦H₂O／ZrO₂
≦40の条件を満たした上で、塗布液組成物の全体
重量（以下全体重量と言う）に対して50wt％以
下が良い。0.1未満ではジルコニウムのオキシ塩
のゲル化が起り、重量比が40、あるいは全体重量
の50wt％を越えると成長防止剤の効果がなくな
り、透明基材上で塗布液組成物のはじきが起こる
からである。第三に、ZrO₂とSiO₂と導電性酸化
錫コロイドとの合計重量は全体重量に対して、
0.1〜20wt％が好ましく、塗布液の長期保存性の
上では、0.1〜10wt％が良い。20wt％を越えると
塗布液の安定性が悪くなり容易にゲル化するから
である。第四に、導電性酸化錫コロイド粒子とジルコニ
ウムのオキシ塩と非沈降性シリカとの割合いは、
１≦（導電性酸化錫コロイド粒子）／（ZrO₂＋
SiO₂）≦５（重量比）が良い。１未満では被膜の
導電性が悪くなつたり、又被膜が多孔性になら
ず、５を越えると被膜の密着性が低下する。第五
に、非沈降性シリカとジルコニウムのオキシ塩の
割合いは、0.05≦SiO₂／ZrO₂≦１（重量比）が良
い。0.05未満では被膜の密着性が悪くなり、一を
越えると被膜の耐久性が悪くなるからである。希釈剤は、本発明の透明導電性塗布液組成物を
塗工法に合せた粘度あるいは希望する膜厚となる
ように添加すれば良い。本明の透明導電性塗布液組成物の製造方法は、
特に限定しないが好ましい方法として、予めジル
コニウムのオキシ塩と非沈降性シリカ及び導電性
酸化錫コロイド粒子が水及び成長防止剤に分散さ
れた混合液から水の一部を脱水し、又は脱水せず
に希釈剤を添加すれば良く、水を脱水するには蒸
溜法又は限外濾過法が使用できる。本発明に係る透明導電性塗布液組成物は、硝子
等の基材に従来公知の塗工法、例えばスピンナー
法、バーコード法、デイツプ法、スプレー法、ロ
ールコート法、印刷法等の方法によつて塗工さ
れ、次いで乾燥すれば耐久性及び機械強度の良い
被膜が得られるが、さらに耐久性及び機械強度の
高い塗膜が必要な用途には300℃以上で基材のガ
ラス転移点以下の温度で焼成すれば良い。このようにして得られる被膜は全光線透過率
（T_t）90％以上、ヘーズ(H)が５以下なので透過基
材の透明性を損わず、表面抵抗が10⁴〜10⁹Ω／□
であるため帯電防止効果に優れ、又ギラツキが防
止されている。又酸、アルカリに侵されず、水、
塩水に耐え密着性に優れ被膜の変化がない。透明基材としては、硝子板及びCRT等の硝子
加工品あるいはポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート等の
シート及びその加工品が適している。なお、有色
基材に塗布するときには基材の色調を変化させず
に被膜を形成することができる。本明の導電性塗布液組成物を用いて得られた導
電性硝子又はプラスチツクは、帯電防止用デイス
プレイパネル、コピー硝子、計器表示パネル、透
明デジタイザー、テレライテイングターミナル等
への適用が可能である。以下、本発明を実施例により説明するが、本明
はこれら実施例に限定されるものではない。［実施例］実施例１錫酸カリウム316ｇと吐酒石38.4ｇとを、水686
ｇに溶解して原料液を調製した。50℃に加温され
て撹拌下にある1000ｇの水に、前記の原料液を硝
酸とともに12時間かけて添加し、系内をPH8.5に
保持して加水分解させてゾルを得た。このゾルか
らコロイド粒子を濾別し、洗浄して副生塩を除去
した後粒子を乾燥し、空気中350℃で３時間焼成
し、さらに空気中650℃で２時間焼成して微粉末
を得た。得られた粉末400ｇを水酸化カリウム水
溶液1600ｇ（KOH40ｇ含有）に加え、の混合液
を30℃に保持しながらサンドミルで３時間撹拌し
ながら導電性酸化錫コロイドを得た。次いでこの
導電性酸化錫コロイドをイオン交換樹脂で処理す
ることにより、脱アルカリされた導電性酸化錫コ
ロイドを得た（導電性ゾル）。ここの脱アルカリ
された導電性酸化錫コロイドは沈澱物を含まず、
固形分濃度は20wt％であつて、コロイド粒子の
平均粒径は0.07μｍであつた。そして0.1μｍ以下
の粒子の量は、全粒子の87％であつた。SiO₂と
して5wt％の珪酸ナトリウム（SiO₂／Na₂O＝
3mol／mol）2000ｇを15℃に保持したまま水素
型イオン交換樹脂カラム中に空間速度SV＝５で
通過させた（非沈降性シリカ液）。この非沈降性
シリカ液のうち50ｇと導電性ゾルうち50ｇに、Ｎ
−メチル−２−ピロリドンを20ｇとZrO₂に換算
して25wt％オキシ塩化ジルコニウム水溶液を10
ｇとMeOH／BuOH（重量比１／１）170ｇを添
加し十分混合して透明導電性塗布液組成物を得
た。実施例２実施例１で得得られた非沈降性シリカ液を50ｇ
と導電性ゾルを200ｇに、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン10ｇとZrO₂に換算して25wt％オキシ塩化
ジルコニウム水溶液を40ｇとMeOH／EtOH（重
量比１／１）1400ｇを添加し十分分散して透明導
電性塗布液組成物を得た。実施例３Ｎ−メチル−２−ピロリドン10ｇとMeOH／
BuOH（重量比１／１）380ｇに代えた以外は実施
例１と同一条件で透明導電性塗布液組成物を得
た。実施例４実施例１で得られた非沈降性シリカ液を50ｇと
導電性ゾルを220ｇに、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン110ｇとZrO₂に換算して25wt％オキシ塩化ジ
ルコニウム水溶液を100ｇとMeOH／EtOH（重量
比１／１）345ｇを添加し十分分散して透明導電
性塗布液組成物を得た。実施例５実施例１で得られた非沈降性シリカ液を50ｇと
導電性ゾルを100ｇに、Ｎ，Ｎジメチルホルムア
ミド150ｇとZrO₂に換算して25wt％オキシ硝酸ジ
ルコニウム水溶液を30ｇを均一混合後、ローター
リーエバポレーターにて減圧しながら80℃に加熱
して水を135ｇ溜出させた。この液を冷却しさら
にMeOH／BuOH（重量比１／１）405ｇを添加
し十分分散して透明導電性塗布液組成物を得た。実施例６エチレングリコールモノメチルエーテル20ｇに
代えた以外は実施例１と同一条件で透明導電性塗
布液組成物を得た。実施例７モルホリン20ｇに代えた以外は実施例１と同一
条件で透明導電性塗布液組成物を得た。比較例１実施例１で得られた非沈降性シリカ液を200ｇ
と導電性ゾルを125ｇに、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン50ｇとZrO₂に換算して25wt％オキシ塩ジ
ルコニウム水溶液10ｇを均一混合後、ローターリ
ーエバポレーターにて減圧しながら80℃に加熱し
て水を210ｇ溜出させた。この液を冷却しさらに
MeOH／BuOH（重量比１／１）1075ｇを添加し
十分分散して透明導電性塗布液組成物を得た。比較例２実施例１で得られた非沈降性シリカ液を100ｇ
を導電性ゾルを25ｇに、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン40ｇとZrO₂に換算して25wt％オキシ塩化ジ
ルコニウム水溶液を20ｇとMeOH／BuOH（重量
比１／１）115ｇを添加し十分分散して透明導電
性塗布液組成物を得た。比較例３実施例１で得られた非沈降性シリカ液を100ｇ
と導電性ゾルを350ｇに、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン40ｇとZrO₂に換算して25wt％オキシ硝酸
ジルコニウム水溶液20ｇを均一混合後、ローター
リーエバポレーターにて減圧しながら80℃に加熱
して水を250ｇ溜出させた。この液を冷却しさら
にMeOH／BuOH（重量比１／１）1340ｇを添加
し十分分散して透明導電性塗布液組成物を得た。比較例４実施例１で得られた非沈降性シリカ液を500ｇ
を導電性ゾルのうち500ｇに、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン６ｇとZrO₂に換算して25wt％オキシ
硝酸ジルコニウム水溶液100ｇを均一混合後、ロ
ーターリーエバポレーターにて減圧しながら80℃
に加熱して水を900ｇ溜出させたところゲル化し
た。比較例５実施例１で得られた非沈降性シリカ液を100ｇ
と導電性ゾルを100ｇに、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン25ｇとZrO₂に換算して5wt％オキシ塩化ジ
ルコニウム水溶液を100ｇとMeOH／BuOH（重
量比１／１）75ｇを添加し十分分散して透明導電
性塗布液組成物を得た。実施例及び比較例の液組成物及び組成比を表−
１に示した。実施例１〜５、比較例１〜３、５で得られた塗
布液組成物を硝子板に、実施例６、７で得られた
透明導電性塗布液組成物をアクリル板にスピンナ
ーを使用し2000r.p.mで塗布した。硝子板は、110
℃10分間乾燥後、300℃30分間焼成し、アクリル
板は110℃30分間乾燥して被膜を得た。なお、60℃に保持する14インチブラウン管用パ
ネルにスプレーの供給空気圧1.5Kg／cm²で、実施
例１で得られた透明導電性塗布液組成物を20ml／
分でスプレーした。その後110℃10分間乾燥し、
450℃30分間焼成して被膜を得た。これを実施例
1′とする。得られた皮膜について下記の評価を行つた。結
果を表−２、３に示す。透明性：全光線透過率（T_t）及びヘーズ(H)
をヘーズコンピユーター（スガ試験機製）で測
定した。光沢度：JISK 7105−81の光沢度の測定法に
おいて測定角度60゜で光沢度(G)を評価した。密着性：市販の12mm幅のセロテープの一部を
被膜に貼り付け、残りを被膜に対して直角に保
ち、瞬間的に引き剥がし、硝子上の被膜の有無
を目視した。硬度：JISDO 202−71の鉛筆硬度テストで
測定した。表面抵抗：硝子板及びアクリル板は電極セル
（YHP製）で測定した。また、14インチパネルはハイレスタ（三菱油
化製）で測定した。耐久性：下記４種類の液に漬けた後、密着性
（と同じ）評価し、試験前後の光沢度・表面
抵抗（・と同じ）を比較した。 (1) 15wt％アンモニア水に室温で120時間。 (2) 10wt％Nacl水溶液に室温で120時間。 (3) 煮沸している水の中に30分間。 (4) 50wt％の酢酸水溶液中に室温で120時間。［発明の効果］本発明は上記構成を採用することにより、硝子
等の透明基材に対し基材の透明性を損うことなく
耐久性、機械的強度、密着性に優れた導電性被膜
を低温で形成させることがでる。又、本発明の塗
布液組成物のポツトライフ（使用可能期間）は、
室温、暗所中で３ケ月以上である。なお、透明導電性被膜を有する基材に表面平滑
性が要求されたり、表面摩擦係数を小さくしたい
ときには、本発明による被膜上にポリエステル、
アクリル、シリコーン、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリスチレン、エポキシ等の樹脂あるい
はシリカ等の無機物の透明保護膜を設けることが
できる。

【表】

【表】密着性：被膜が剥がれなければ○、
剥がれれば×とした。比較例
５は、透明導電性塗布液組成物がはじ
かれて被膜が得られなかつた。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１ジルコニウムのオキシ塩と非沈降性シリカと
導電性酸化錫コロイド粒子を水と成長防止剤と希
釈剤とからなる分散媒中に均一分散したことを特
徴とする透明導電性塗布液組成物。２成長防止剤として、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン、Ｎ，Ｎジメチルホルムアミド、モルホリ
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコール及びそれらの誘導体の中の一種又は二
種以上組合せて使用することを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の透明導電性塗布液組成物。３導電性酸化錫粉末及び／又は異種元素をドー
プした導電性酸化錫粉末を、酸水溶液又はアルカ
リ水溶液中で加水処理して得られる導電性酸化錫
コロイド粒子を使用することを特徴とする特許請
求の範囲第１項又は第２項記載の透明導電性塗布
液組成物。４ジルコニウムのオキシ塩をZrO₂に換算し、
非沈降性シリカをSiO₂に換算し、導電性酸化錫
コロイド粒子、水分、成長防止剤及び希釈剤との
組成物を、１≦（成長防止剤）／（ZrO₂＋SiO₂）≦25（mol
比） 0.1≦H₂O／ZrO₂≦40（重量比） H₂O／（塗布液組成物の全体重量）≦0.5（重量
比） 0.001≦（ZrO₂＋SiO₂導電性酸化錫コロイド粒
子）／（塗布液組成物の全体重量）≦0.2（重量
比）１≦（導電性酸化錫コロイド粒子）／（ZrO₂＋
SiO₂）≦５（重量比） 0.05≦SiO₂／ZrO₂≦１（重量比）とすることを特徴とする特許請求の範囲第１項又
は第２項又は第３項記載の透明導電性塗布液組成
物。５ジルコニウムのオキシ塩と非沈降性シリカと
導電性酸化錫コロイドを水と成長防止剤と希釈剤
とからなる分散媒中に均一に分散した塗布液を基
材に塗布後、硬化させてなる透明導電性被膜を有
する基材。