JPS6314374Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6314374Y2 JPS6314374Y2 JP2220582U JP2220582U JPS6314374Y2 JP S6314374 Y2 JPS6314374 Y2 JP S6314374Y2 JP 2220582 U JP2220582 U JP 2220582U JP 2220582 U JP2220582 U JP 2220582U JP S6314374 Y2 JPS6314374 Y2 JP S6314374Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic pole
- pole piece
- objective lens
- sample
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は走査電子顕微鏡の信号検出手段の改良
に関する。
に関する。
走査透過電子顕微鏡は第1図に示す如く、薄膜
状試料1の微小領域を細く集束させた電子線2で
2次元的に走査し、試料を透過した電子線を検出
した信号を前記試料走査と同期したブラウン管の
輝度変調信号として用いることによつて得られ
る。このとき、試料を透過した電子線のうちどの
範囲(散乱角)のものを検出するかによつて種々
の異なつた走査像が得られるので、できるだけ大
きな散乱角のものまで検出可能に装置を構成する
ことが要求される。そして、小さな散乱角の透過
電子線を検出する場合には試料と検出器の間に適
当な穴径の絞りを挿入することによつて検出散乱
角が調整される。
状試料1の微小領域を細く集束させた電子線2で
2次元的に走査し、試料を透過した電子線を検出
した信号を前記試料走査と同期したブラウン管の
輝度変調信号として用いることによつて得られ
る。このとき、試料を透過した電子線のうちどの
範囲(散乱角)のものを検出するかによつて種々
の異なつた走査像が得られるので、できるだけ大
きな散乱角のものまで検出可能に装置を構成する
ことが要求される。そして、小さな散乱角の透過
電子線を検出する場合には試料と検出器の間に適
当な穴径の絞りを挿入することによつて検出散乱
角が調整される。
大きな散乱角の電子線を検出するためには、試
料と検出器の間の距離を短くすることが重要で第
1図中、試料からL1の距離に検出器Eを置いた
場合には散乱角α2まで検出できるのに対して距
離L2に検出器Eを置いた場合には散乱角α1ま
での電子線しか検出できない。又、同じ散乱角α
1まで検出する場合でも、距離L1に置く場合に
は検出器の検出面の径をd1とすればよいのに対
して距離L2に置く場合には検出面の径d2をd
1よりも大きくしなければならない。更に試料と
検出器との距離が長くなるに従つて、電子線光軸
3の周囲の構造物によつて試料透過電子線の進行
が妨げられたり、反射されたりする率が高くなり
SN比が低下するので、この意味からも試料と検
出器の距離は出来るだけ短くすることが望まし
い。
料と検出器の間の距離を短くすることが重要で第
1図中、試料からL1の距離に検出器Eを置いた
場合には散乱角α2まで検出できるのに対して距
離L2に検出器Eを置いた場合には散乱角α1ま
での電子線しか検出できない。又、同じ散乱角α
1まで検出する場合でも、距離L1に置く場合に
は検出器の検出面の径をd1とすればよいのに対
して距離L2に置く場合には検出面の径d2をd
1よりも大きくしなければならない。更に試料と
検出器との距離が長くなるに従つて、電子線光軸
3の周囲の構造物によつて試料透過電子線の進行
が妨げられたり、反射されたりする率が高くなり
SN比が低下するので、この意味からも試料と検
出器の距離は出来るだけ短くすることが望まし
い。
ところで、以上のようにしてブラウン管の画面
に表示される試料走査像の分解能を高めるには、
試料を走査する電子線の断面を出来るだけ小さく
するため、電子線を集束するレンズ系の中で特に
最終段の集束レンズ(対物レンズ)の球面収差を
小さくすることが必要となる。この対物レンズの
球面収差は対物レンズのレンズ主面と試料との距
離が短くなる程小さくなるので、試料を対物レン
ズの上磁極片と下磁極片の間に挿入して高分解能
の走査像を表示する型の装置も多く使用されてい
る。第2図はこのような装置の対物レンズ周辺の
構造を示す略図である。第2図において4は対物
レンズの励磁コイルを示し、その周囲はヨーク5
に囲まれ、ヨーク5の環状端部には上磁極片6と
下磁極片7が接続され、該上、下磁極片の位置関
係は非磁性体のスペーサー8によつて高い精度に
保たれる。これら、上、下磁極片の間隙には光軸
と垂直な方向からレンズヨーク5やスペーサー8
を貫通して試料保持部材9と絞り保持部材10が
挿入されており、これらの部材の先端部に取付け
られた試料1や対物レンズ絞り11(図示せず)
の位置は真空外から走査される移動機構12,1
3によつて調整される。又、対物レンズの上方か
ら光軸3に沿つて試料を照射する電子線は対物レ
ンズ上方に設けられた二段の偏向コイル14,1
5によつて変更され、試料面上を二次元的に走査
する。その結果、試料を透過した電子線のうち対
物レンズ絞りを通過した電子線は対物レンズ下方
に挿入される電子線検出装置16によつて検出さ
れる。該電子線検出装置は、電子線の照射によつ
て光を発生するシンチレーター17と、該シンチ
レーターからの光を光電子増倍管18まで導くラ
イトパイプ19から構成されているが、走査透過
像でなく従来の透過顕微鏡像を蛍光板上に結像さ
せる場合には、この電子線検出装置16の先端部
を光軸3から離れる方向へ移動させることが必要
となる。
に表示される試料走査像の分解能を高めるには、
試料を走査する電子線の断面を出来るだけ小さく
するため、電子線を集束するレンズ系の中で特に
最終段の集束レンズ(対物レンズ)の球面収差を
小さくすることが必要となる。この対物レンズの
球面収差は対物レンズのレンズ主面と試料との距
離が短くなる程小さくなるので、試料を対物レン
ズの上磁極片と下磁極片の間に挿入して高分解能
の走査像を表示する型の装置も多く使用されてい
る。第2図はこのような装置の対物レンズ周辺の
構造を示す略図である。第2図において4は対物
レンズの励磁コイルを示し、その周囲はヨーク5
に囲まれ、ヨーク5の環状端部には上磁極片6と
下磁極片7が接続され、該上、下磁極片の位置関
係は非磁性体のスペーサー8によつて高い精度に
保たれる。これら、上、下磁極片の間隙には光軸
と垂直な方向からレンズヨーク5やスペーサー8
を貫通して試料保持部材9と絞り保持部材10が
挿入されており、これらの部材の先端部に取付け
られた試料1や対物レンズ絞り11(図示せず)
の位置は真空外から走査される移動機構12,1
3によつて調整される。又、対物レンズの上方か
ら光軸3に沿つて試料を照射する電子線は対物レ
ンズ上方に設けられた二段の偏向コイル14,1
5によつて変更され、試料面上を二次元的に走査
する。その結果、試料を透過した電子線のうち対
物レンズ絞りを通過した電子線は対物レンズ下方
に挿入される電子線検出装置16によつて検出さ
れる。該電子線検出装置は、電子線の照射によつ
て光を発生するシンチレーター17と、該シンチ
レーターからの光を光電子増倍管18まで導くラ
イトパイプ19から構成されているが、走査透過
像でなく従来の透過顕微鏡像を蛍光板上に結像さ
せる場合には、この電子線検出装置16の先端部
を光軸3から離れる方向へ移動させることが必要
となる。
第3図は第2図の装置における励磁コイル4に
電流を流したときに上、下磁極片間に形成される
レンズ磁場の光軸3上における強度分布を曲線2
0によつて表したもので、該強度分布が最大値を
示す位置の近くにレンズ主面21が存在する。試
料1と対物レンズ絞り11はレンズ主面21の上
下に挿入される。レンズ主面21は上、下磁極片
の穴径が等しい場合には、上、下磁極片間の距離
S1の丁度中央に位置することになるが、上磁極
片の穴径D1が下磁極片の穴径D2よりも大きい
場合にはレンズ主面21の位置が下方へ移動す
る。従来の多くの装置は上磁極片の穴径D1が下
磁極片の穴径D2と等しいかより小さな値であ
り、又一般に上、下磁極片間の距離S1は10mm程
度と狭いため、対物レンズ絞りと下磁極片とのス
ペースは極めて狭いものとなり第1図に示すタイ
プの電子線検出装置をこのスペースに挿入するこ
とは従来考えられないことであつた。
電流を流したときに上、下磁極片間に形成される
レンズ磁場の光軸3上における強度分布を曲線2
0によつて表したもので、該強度分布が最大値を
示す位置の近くにレンズ主面21が存在する。試
料1と対物レンズ絞り11はレンズ主面21の上
下に挿入される。レンズ主面21は上、下磁極片
の穴径が等しい場合には、上、下磁極片間の距離
S1の丁度中央に位置することになるが、上磁極
片の穴径D1が下磁極片の穴径D2よりも大きい
場合にはレンズ主面21の位置が下方へ移動す
る。従来の多くの装置は上磁極片の穴径D1が下
磁極片の穴径D2と等しいかより小さな値であ
り、又一般に上、下磁極片間の距離S1は10mm程
度と狭いため、対物レンズ絞りと下磁極片とのス
ペースは極めて狭いものとなり第1図に示すタイ
プの電子線検出装置をこのスペースに挿入するこ
とは従来考えられないことであつた。
ところが、最近広く普及され始めた200KV,
300KVというような比較的高い加速電圧を有す
る電子顕微鏡においては、対物レンズの球面収差
係数をそれ程小さくしなくても100KV以下の低
加速電圧の電子顕微鏡と同じ程度の分解能が得ら
れるので、対物レンズの球面収差係数を小さくす
る目的で、上下磁極片間の距離をあまり短くする
必要がなくなつた、そして、上下磁極片間の距離
を20mm程度まで長くすることができるため、上、
下磁極片間に透過電子線検出器を設置できる可能
性が高まつた。
300KVというような比較的高い加速電圧を有す
る電子顕微鏡においては、対物レンズの球面収差
係数をそれ程小さくしなくても100KV以下の低
加速電圧の電子顕微鏡と同じ程度の分解能が得ら
れるので、対物レンズの球面収差係数を小さくす
る目的で、上下磁極片間の距離をあまり短くする
必要がなくなつた、そして、上下磁極片間の距離
を20mm程度まで長くすることができるため、上、
下磁極片間に透過電子線検出器を設置できる可能
性が高まつた。
本考案は上述した点に鑑みてなされたもので、
比較的高加速電圧の電子顕微鏡で走査透過像を観
察する場合に大きな散乱角度を有する透過電子線
まで検出可能とすることを目的とするものであ
る。本考案装置の構成は対物レンズの上磁極片と
下磁極片の間隙に試料ホルダーと対物レンズ絞り
が挿入される装置において、前記上磁極片の穴径
を下磁極片の穴径よりも小さくすると共に、前記
対物レンズ絞りと下磁極片との間隙に対物レンズ
光軸と垂直な方向から挿入される電子線検出手段
を設けたことを特徴とするものであり、以下に図
面に示す実施例装置に基づいて説明する。
比較的高加速電圧の電子顕微鏡で走査透過像を観
察する場合に大きな散乱角度を有する透過電子線
まで検出可能とすることを目的とするものであ
る。本考案装置の構成は対物レンズの上磁極片と
下磁極片の間隙に試料ホルダーと対物レンズ絞り
が挿入される装置において、前記上磁極片の穴径
を下磁極片の穴径よりも小さくすると共に、前記
対物レンズ絞りと下磁極片との間隙に対物レンズ
光軸と垂直な方向から挿入される電子線検出手段
を設けたことを特徴とするものであり、以下に図
面に示す実施例装置に基づいて説明する。
第4図は本考案の実施例装置における対物レン
ズの断面を示すもので、第2図の従来装置と同一
番号を付したものは同一構成要素を表している。
第4図の装置は第2図の装置よりも高い加速電圧
を有しているため上、下磁極片間の距離S2が第
2図の距離S1よりも長い。又、上磁極片22の
穴径D3は下磁極片23の穴経D4よりも小さ
く、そのため上、下磁極片の間に形成される対物
レンズ磁場の軸上磁場分布は第4図中の曲線24
で示されるようになり、そのレンズ主面25の位
置は上、下磁極片間の中心位置よりも上方に移動
する。そのため上、下磁極片を一体化する非磁性
体スペーサー26に穿たれた穴を通して挿入され
る試料1と対物レンズ絞り11の位置も上磁極片
22の側へ近づき、対物レンズ絞り11と下磁極
片23の間のスペースを相当広くすることができ
る。そして、このスペースにスペーサー26に穿
たれた穴を通して電子線検出装置16が挿入され
る。その結果、試料1と電子線検出装置16との
距離を従来装置に比較して極めて短くすることが
できるので、前述したように大きな散乱角で散乱
される試料透過電子線を検出することが可能とな
る。
ズの断面を示すもので、第2図の従来装置と同一
番号を付したものは同一構成要素を表している。
第4図の装置は第2図の装置よりも高い加速電圧
を有しているため上、下磁極片間の距離S2が第
2図の距離S1よりも長い。又、上磁極片22の
穴径D3は下磁極片23の穴経D4よりも小さ
く、そのため上、下磁極片の間に形成される対物
レンズ磁場の軸上磁場分布は第4図中の曲線24
で示されるようになり、そのレンズ主面25の位
置は上、下磁極片間の中心位置よりも上方に移動
する。そのため上、下磁極片を一体化する非磁性
体スペーサー26に穿たれた穴を通して挿入され
る試料1と対物レンズ絞り11の位置も上磁極片
22の側へ近づき、対物レンズ絞り11と下磁極
片23の間のスペースを相当広くすることができ
る。そして、このスペースにスペーサー26に穿
たれた穴を通して電子線検出装置16が挿入され
る。その結果、試料1と電子線検出装置16との
距離を従来装置に比較して極めて短くすることが
できるので、前述したように大きな散乱角で散乱
される試料透過電子線を検出することが可能とな
る。
以上のように、本考案においては大きな散乱角
で試料を透過した電子線の検出信号を用いて走査
透過像を表示することが可能となるので、特に
300KV以上の加速電圧を有する透過結像型電子
顕微鏡に走査透過顕微鏡の機能を追加した装置に
適用して大きな効果が得られる。
で試料を透過した電子線の検出信号を用いて走査
透過像を表示することが可能となるので、特に
300KV以上の加速電圧を有する透過結像型電子
顕微鏡に走査透過顕微鏡の機能を追加した装置に
適用して大きな効果が得られる。
第1図は試料透過電子線の検出を説明するため
の図、第2図は従来装置を示す略図、第3図は第
2図の装置を説明するための略図、第4図は本考
案の一実施例装置を示す略図及び第5図は第4図
の装置を説明するための略図である。 1:試料、2:電子線、3:光軸、4:励磁コ
イル、5:ヨーク、6:上磁極片、7:下磁極
片、8:スペーサー、9:試料保持部材、10:
絞り保持部材、11:対物レンズ絞り、12,1
3:移動機構、14,15:偏向コイル、16:
電子線検出装置、17:シンチレーター、18:
光電子増倍管、19:ライトパイプ、20:曲
線、21:レンズ主面、22:上磁極片、23:
下磁極片、24:曲線、26:スペーサー。
の図、第2図は従来装置を示す略図、第3図は第
2図の装置を説明するための略図、第4図は本考
案の一実施例装置を示す略図及び第5図は第4図
の装置を説明するための略図である。 1:試料、2:電子線、3:光軸、4:励磁コ
イル、5:ヨーク、6:上磁極片、7:下磁極
片、8:スペーサー、9:試料保持部材、10:
絞り保持部材、11:対物レンズ絞り、12,1
3:移動機構、14,15:偏向コイル、16:
電子線検出装置、17:シンチレーター、18:
光電子増倍管、19:ライトパイプ、20:曲
線、21:レンズ主面、22:上磁極片、23:
下磁極片、24:曲線、26:スペーサー。
Claims (1)
- 対物レンズの上磁極片と下磁極片の間隙に試料
ホルダーと対物レンズ絞りが挿入される装置にお
いて、前記上磁極片の穴径を下磁極片の穴径より
も小さくすると共に、前記対物リンズ絞りと下磁
極片との間隙に対物レンズ光軸と垂直な方向から
挿入される電子線検出手段を設けたことを特徴と
する走査透過電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2220582U JPS58125352U (ja) | 1982-02-19 | 1982-02-19 | 走査透過電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2220582U JPS58125352U (ja) | 1982-02-19 | 1982-02-19 | 走査透過電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58125352U JPS58125352U (ja) | 1983-08-25 |
| JPS6314374Y2 true JPS6314374Y2 (ja) | 1988-04-22 |
Family
ID=30034300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2220582U Granted JPS58125352U (ja) | 1982-02-19 | 1982-02-19 | 走査透過電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58125352U (ja) |
-
1982
- 1982-02-19 JP JP2220582U patent/JPS58125352U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58125352U (ja) | 1983-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5598002A (en) | Electron beam apparatus | |
| JP2919170B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP3786875B2 (ja) | 帯電粒子ビームデバイスのための対物レンズ | |
| JP3403036B2 (ja) | 電子ビーム検査方法及びその装置 | |
| US5302828A (en) | Scanning techniques in particle beam devices for reducing the effects of surface charge accumulation | |
| US5008537A (en) | Composite apparatus with secondary ion mass spectrometry instrument and scanning electron microscope | |
| US6600156B2 (en) | Scanning electron microscope | |
| JPH0337260B2 (ja) | ||
| JP6950088B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の検出器位置調整方法 | |
| GB2161018A (en) | Electron microscope lenses | |
| US4382182A (en) | Method of displaying an image of phase contrast in a scanning transmission electron microscope | |
| JP2003151484A (ja) | 走査型荷電粒子ビーム装置 | |
| US6376839B1 (en) | SEM for transmission operation with a location-sensitive detector | |
| JP2002184336A (ja) | 荷電粒子線顕微鏡装置、荷電粒子線応用装置、荷電粒子線顕微方法、荷電粒子線検査方法、及び電子顕微鏡装置 | |
| JP3351647B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPH02284340A (ja) | 可変焦点距離複合電磁レンズ | |
| US6717141B1 (en) | Reduction of aberrations produced by Wien filter in a scanning electron microscope and the like | |
| JP2005032588A (ja) | 電子顕微鏡用磁界型対物レンズ | |
| JPH10134754A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPH03295141A (ja) | 検出器 | |
| JP2001319612A (ja) | 直接写像型電子顕微鏡 | |
| JPH1186770A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPH09190793A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPS6237326Y2 (ja) | ||
| CN116646228B (zh) | 快速聚焦扫描偏转装置、扫描电子显微镜 |