JPS6314403B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は塩化ビニル系樹脂製レコード盤の改質
方法に関するものであり、該レコード盤の表面特
性を改質することにより、帯電防止性、耐摩耗性
等を改良することを目的とするものである。 現在、市販されているレコード盤は帯電性が著
しく、ほこり等を盤面に吸着し、ノイズの発生等
が著しくなるという問題点を有する。これを改良
する方法として、帯電防止剤を練り込んだり、塗
布したりする方法が提案されているが、前者はレ
コード盤の成形加工性を著しく損う上に効果が低
く、また後者は持続性に乏しいほか、レコード盤
とのなじみが悪いために均一に塗布することが困
難であるという欠点を有する。このなじみを向上
させることを目的として若干の溶剤等を塗布剤に
混合すると、ノイズの発生等音質に著しい悪影響
がもたらされる。 本発明者らはレコード盤等の塩化ビニル系樹脂
成形品を低温プラズマで処理することによりその
表面を改質するための研究を以前から重ねてきた
が、この場合にレコード盤を電極間にセツトして
低温プラズマ処理すると、盤面の部分部分におい
て処理効果にむらを生じる傾向があり、全面に十
分な処理効果をもたらすべく強力に処理すると、
どうしても過剰な処理部分を生じ、これが逆にノ
イズ発生の増加をまねくという問題点がある。 本発明はかかる技術的課題をふまえ研究を重ね
た結果完成されたもので、これは複数個の電極を
平行に２列に配列してなり、一方の電極列の各電
極を高周波電源入力側に、他方の電極列の各電極
をアース側にそれぞれ接続してなる内部電極放電
型低温プラズマ発生装置内で、塩化ビニル系樹脂
製レコード盤を、前記電極列間を軸回転させつつ
移動させながら10トル以下の無機ガスの低温プラ
ズマで処理することを特徴とするレコード盤の改
質方法に関するものである。 本発明の方法はレコード盤の帯電防止性、耐摩
耗性等の向上に特に威力が発揮され、これによれ
ばレコード盤の音質に悪影響を与えることなく帯
電防止性、耐摩耗性向上の効果が全面均一に付与
される。またこの方法によればレコード盤の低温
プラズマ処理がより容易にかつ確実に行われると
いう注目すべき効果が得られる。 以下本発明の方法を詳細に説明する。 本発明の方法で使用される内部電極放電型低温
プラズマ発生装置は、内部を減圧とすることがで
きる容器中に前記した２つの電極列を設置した構
成からなる装置であつて、第１図および第２図は
この電極列配置の具体的態様と処理しようとする
成形品（レコード盤）の移動手段を概略的に示し
たものである。 第１図は棒状の電極１の複数本を２列にほぼ平
行に４本づつ配列した構成で、それぞれの電極列
でと付したものは高周波電源入力側に、また
と付したものはアース側にそれぞれ接続する。こ
の結果一方の電極列は高周波電源入力側に他方の
電極列はアース側となつて、両電極列で相対向す
る電極は入力側とアース側の組合せとなる。この
２つの電極列間で相対向する電極の間隔は十分な
処理ができる距離とし、実験により決められる。
一方各電極列で一列に並んでいる電極の各間隔は
電極列の全体の長さが、その間でレコードが１回
以上回転（自転）をし得る距離となるように定め
ることが望ましい。 第１図中２は両電極列間に低温プラズマ処理し
ようとするレコード盤を移動させるための装置で
あつて。３はレコード盤を示す。４は駆動モータ
ー、５，５′は動力伝達機構である。この動力伝
達機構５′に設けられたアーム６は駆動により電
極列間にこのアームがほぼ水平となる位置まで回
転し、これによりアーム６の先端に回転自在に取
付けられたレコード盤３が電極列間に移動する。
この移動操作は何回かくり返される。もちろんこ
の移動操作はプラズマ処理時間（数秒〜数分）と
の関係で定められるべきである。動力伝達機構
５′とレコード盤３を取付けた軸７とをベルト８
で接続し、電極列間に移動する際レコード盤は自
転（軸回転）されるようにしてある。この自転機
構を設けることによりレコード盤はより均一に低
温プラズマ処理される。なお、電極にはその温度
コントロールのための熱媒体（水）の入口９およ
び出口９′が設けられている。 第２図は電極の形状およびレコード盤の移動手
段を別の態様としたものであり、１１は複数個の
穴が設けられた板状の電極、１２は絶縁板、１
３，１３′はレコード盤３を自転させながら移動
させるためのレール機構である。この図で各電極
列における電極の数は絶縁板を介して５個並べら
れており、それらの各電極はと付したものを入
力側、と付したものをアース側にそれぞれ接続
する。この結果電極の基本的配列は第１図と同様
となる。 使用される電極の材質については、導電性のも
のであれば特に問題はなく、たとえば鉄、ステン
レス、銅、アルミニウム等が例示される。その形
状については棒状、平板状、平板に穴をあけたも
のあるいは金網状等、種々の構造のものが考えら
れるが、ガスを通過せしめることを可能としかつ
冷却可能な形状が好ましい。この冷却は処理の効
果を均一に行わしめるためと、また電極に生じる
熱のために対象成形品（レコード盤）の変形を防
止するためであり、冷却媒体によつて60℃以下に
冷却することが好ましい。 電極特に入力側の電極はホーローまたはガラス
等でコートしておくことが好ましく、金属が露出
していると、この部分でのスパーク等によりノイ
ズの発生を助長する。 本発明が提案する方法によつてレコード盤は十
分なぬれ性と帯電防止性を付与されるが、さらに
好ましくはプラズマ処理後活性化されたレコード
盤表面を0.001〜50％の界面活性剤を含有する水
性液で後処理して界面活性剤をレコード盤表面に
固定化することにより永続的な帯電防止効果を付
与せしめることが可能となる。使用する界面活性
剤としてはカチオン系、アニオン系、ノニオン
系、両性等いずれも使用可能であるが、帯電防止
効果としてはカチオン系が最も好ましい。 後処理の方法としてはスプレー、含浸、ハケ塗
り等いずれの方法でも可能であるが、実用的には
スプレー塗布が最も好ましい。また塗布する場合
レコード盤に対する湿潤性を向上せしめるために
メタノール、エタノール等の溶剤を添加すること
も可能である。このようにして処理されたレコー
ド盤は十分に親水化しているがゆえに、界面活性
剤は均一に分布され、永続的な帯電防止能を示す
と共にノイズ等の悪影響を生じることはない。 低温プラズマ処理のためのプラズマ発生条件と
しては、低温プラズマ発生装置内に10トル以下の
無機ガスを流しながら、電極間に13.56MHz、数
Ｗ〜数KWの電力を印加すればよく、プラズマ処
理時間は印加電圧によつても相違するが、一般に
は数秒から数分とすることで十分である。 なお、プラズマ処理の手段には上記の方法以外
にも種々あり、たとえば放電周波数帯としては低
周波、マイクロ波などを用いることができ、プラ
ズマ発生様式もグロー放電のほか、コロナ放電、
火花放電、無声放電なども採用することができ
る。 無機ガス（無機性あるいは不活性ガス）として
は、ヘリウム、ネオン、アルゴン、窒素、亜酸化
窒素、二酸化窒素、酸素、空気、塩素、塩化水
素、一酸化炭素、二酸化炭素、水素などが例示さ
れ、これらのガスは単独で使用してもよいし混合
して使用してもよい。プラズマ発生装置内におけ
るこれらガスの圧力は0.001〜10トル（好ましく
は0.01〜１トル）とすることにより目的のプラズ
マを良好に発生させることができる。 このようにしてプラズマ処理することにより、
レコード盤の表面は親水化され、帯電防止剤が使
用された場合にはそれとの相乗効果により顕著な
帯電防止効果が得られるほか、プラズマ処理によ
り形成される表面架橋層は安定剤、帯電防止剤等
内部添加剤の表面にじみ出しを抑制し、上記効果
を永続的ならしめると共に耐摩耗性を向上させし
かもノイズを減少させるという利点が与えられ
る。 本発明は塩化ビニル系樹脂製レコード盤の表面
特性改質を目的とするものであるが、このレコー
ド盤製造に使用される塩化ビニル系樹脂としては
ポリ塩化ビニルのほか塩化ビニルを主体とする各
種の共重合体が包含され、この共重合体のコモノ
マーとしては酢酸ビニル、エチレン、プロピレ
ン、アクリル酸もしくはメタクリル酸またはそれ
らのエステルが例示される。なお、これらの共重
合体には該コモノマーが同時に２種以上使用され
たものならびに塩化ビニルを主体とする各種のグ
ラフト共重合体はもちろん包含される。 これらの塩化ビニル系樹脂からレコード盤を得
るにあたつては、必要に応じ可塑剤、帯電防止
剤、安定剤、滑剤等の各種添加剤が配合される。
可塑剤としてはフタル酸エステル、脂肪族二塩基
酸エステル、グリコールエステル、脂肪酸エステ
ル、りん酸エステル、クエン酸エステル系の可塑
剤、さらにはエポキシ系可塑剤、ポリエステル系
可塑剤、ウレタン系可塑剤、あるいは反応性可塑
剤等が例示され、また帯電防止剤としては第一ア
ミン化合物、第三アミン化合物、第四アンモニウ
ム化合物、ピリジン誘導体よりなるカチオン系界
面活性剤、石けん、硫酸化油、硫酸化エステル
油、硫酸化アミド油、オレフインの硫酸エステル
塩類、脂肪族アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ル硫酸エステル塩、脂肪酸エチルスルホン酸塩、
アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスル
ホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、コハ
ク酸エステルスルホン酸、りん酸エステル等より
なるアニオン界面活性剤、多価アルコールの脂肪
酸エステル、脂肪族アルコールのエチレンオキサ
イド付加物、脂肪酸のエチレンオキサイド付加
物、脂肪族アミノ化合物もしくは脂肪族アミド化
合物のエチレンオキサイド付加物、アルキルフエ
ノールのエチレンオキサイド付加物、アルキルナ
フトールのエチレンオキサイド付加物、多価アル
コールの部分的脂肪酸エステルのエチレンオキサ
イド付加物、ポリエチレングリコール等のノニオ
ン界面活性剤、カルボン酸誘導体、イミダゾリン
誘導体等の両性界面活性剤が例示される。 さらに安定剤としてはステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カドミウ
ム、ステアリン酸鉛、ステアリン酸バリウム等の
金属石けん類、ジブチルすずジラウレート、ジ―
ｎ―オクチルすずジマレエート、ジ―ｎ―オクチ
ルすずメルカプタイドのような有機すず化合物
類、三塩基性硫酸塩、二塩基性亜リン酸鉛のよう
な鉛系安定剤、および各種の複合安定剤が：滑剤
としてはブチルステアレートのようなエステル
系、エチレンビスステアロアマイドのような脂肪
族アミド、高級脂肪酸およびそのエステル、ある
いはポリエチレンワツクスがそれぞれ例示され
る。 また、その他塩化ビニル系樹脂の成形に使用さ
れる各種添加剤たとえば充てん剤、抗酸化剤、紫
外線吸収剤、帯電防止剤、無滴剤、顔料、染料、
架橋助剤等が配合されることも差支えない。 本発明の方法により帯電防止性を付与されたレ
コード盤は、外観上の変化がなく、かつまた処理
効果の耐久性、持久性にすぐれている。 つぎに、本発明の実施例および比較例をあげ
る。 実施例 １ 塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体 100重量部 エポキシ変性大豆油 1.0〃 ジブチルすずメルカプタイド 1.0〃 ステアリン酸カルシウム 0.3〃 上記組成からなるコンパウンドを用いて、レコ
ード成型機によりプレヒート140℃、プレス温度
165℃でレコード盤を作成した。このレコード盤
を第１図に示した電極配列機構を内蔵した内部電
極放電型低温プラズマ発生装置内でつぎのように
して低温プラズマ処理した。 プラズマ発生装置内にアルゴンガスを通気しな
がら圧力を0.15トルに調整保持し、電極に500W
の高周波電力を与えて放電させることにより低温
プラズマを発生させ、アーム６の作動によりレコ
ード盤が両電極列間に10秒滞在するように動かし
て処理した。また、この際レコード盤を５回転
（自転）させた。 つぎに、この低温プラズマ処理したレコード盤
の表面にカチオン系界面活性剤の希釈水溶液を塗
布し、水洗し、風乾した。こうして処理したレコ
ード盤（試料１−３）について諸物性を測定した
結果を、下記の試料１−１および１−２について
調べた結果と共に第１表に示した。 試料１−１：試料１−３と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を低温プラズマ処理せ
ずにカチオン系界面活性剤の希釈水溶液処
理のみを行つた。 試料１−２：試料１−３と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を高周波電源入力側電
極とアース側電極との間に固定し、アルゴ
ンガスの圧力および印加電力を試料１−３
と同様にして10秒間低温プラズマ処理を行
い、さらに同様にカチオン系界面活性剤の
希釈水溶液処理を行つた。 ただし、第１表に示した試料１−２、および１
−３のデータはレコード盤の入力側面について測
定した。

【表】 実施例 ２ 実施例１と同様にしてプレス成型して得たレコ
ード盤を、第２図に示した内部電極放電型低温プ
ラズマ発生装置によりつぎの条件で低温プラズマ
処理し、さらにカチオン系界面活性剤の希釈水溶
液処理を行つた。 通気ガス……アルゴンガス、0.1トル 印加電力……1.0KW プラズマ処理時間……５秒 レコード盤をレール機構１３，１３′によ
り５秒を要して両電極列間を通過させた。 このようにして処理したレコード盤（試料２−
２）について諸物性を測定した結果を、下記の試
料２−１について調べた結果と共に第２表に示し
た。 試料２−１：試料２−２と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を高周波電源入力側電
極とアース側電極との間に固定し、アルゴ
ンガスの圧力および印加電力を試料２−２
と同様にして５秒間低温プラズマ処理を行
い、さらに同様にカチオン系界面活性剤の
希釈水溶液処理を行つた。 ただし、第２表に示したデータはいずれもレコ
ード盤の入力側面について測定した。

【表】 実施例 ３ プラズマ発生条件を下記のとおりとしたほかは
実施例１に準じて低温プラズマ処理し、カチオン
系界面活性剤の希釈水溶液処理した。 通気ガス…アルゴンガス、0.3トル 印加電力…1.0KW プラズマ処理時間…３秒 レコード盤の回転数…５回／５秒 こうして処理したレコード盤（試料３−２）に
ついて諸物性を測定した結果を、下記の試料３−
１について調べた結果と共に第３表に示した。 試料３−１：試料３−２と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を高周波電源入力側電
極とアース側電極との間に固定し、アルゴ
ンガスの圧力および印加電力を試料３−２
と同様にして３秒間低温プラズマ処理を行
い、さらに同様にカチオン系界面活性剤の
希釈水溶液処理を行つた。 ただし、第１表に示したデータはいずれもレコ
ード盤の入力側面について測定した。

【表】 実施例 ４ プラズマ発生条件を下記のとおりとしたほかは
実施例１に準じて低温プラズマ処理し、カチオン
系界面活性剤の希釈水溶液処理した。 通気ガス……アルゴンガス、0.2トル 印加電力……500W プラズマ処理時間……20秒、30秒、１分、３分 プラズマ処理時間内におけるレコード盤の回転
（自転）……５回 このようにして処理した改レコードについて諸
物性を測定したところ、第４表に示すとおりの結
果が得られた。

【表】 実施例 ５ 実施例１と同様にしてプレス成型して得たレコ
ード盤を、第１図に示した内部電極放電型低温プ
ラズマ発生装置によりつぎの条件で低温プラズマ
処理し、さらにカチオン系界面活性剤の希釈水溶
液処理を行つた。 通気ガス……アルゴンガス、0.2トル 印加電力……500W プラズマ処理時間……10秒 プラズマ処理時間内におけるレコード盤の回転
（自転）回数 試料５−１……０回転 試料５−２……１回転 試料５−３……５回転 試料５−４……10回転 このようにして処理した各レコードについて諸
物性を測定したところ、第５表に示すとおりの結
果が得られた。

【表】

【表】 【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法に使用される内部電極放
電型低温プラズマ発生装置における電極の配列お
よびレコード盤移動手段の概略を示したものであ
り、また第２図は電極の配列およびレコード盤移
動手段の他の態様を示したものである。 １，１１…電極、２…レコード盤移動手段、３
…レコード盤、４…駆動モーター、５，５′…動
力伝達機構、６…アーム、１２…絶縁板、１３，
１３′…レール機構、２４…懸垂移動機構。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 複数個の電極を平行に２列に配列してなり、
   一方の電極列の各電極を高周波電源入力側に、他
   方の電極列の各電極をアース側にそれぞれ接続し
   てなる内部電極放電型低温プラズマ発生装置内
   で、塩化ビニル系樹脂製レコード盤を、前記電極
   列間を軸回転させつつ移動させながら10トル以下
   の無機ガスの低温プラズマで処理することを特徴
   とするレコード盤の改質方法。