JPS63144342A - ドライフイルムフオトレジスト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント回路昨友の際に使用されるドライフ
ィルムフォトレジストＫ　Ｂ４ｉ３するものであり、さ
らに詳しく述べると、可視光レーザーにより、中間マス
クを使用せずに回路パターンを直接描画するために用い
るドライフィルムフォトンシストに関するものである。

〔従来技術〕

ドライフィルムフォトレジストはプリント回路板、例え
ば銅張積層板に第１Ｉ−をはがしたドライフィルムフォ
トレジストを熱圧着し、回路パターンの中間マスクを密
音して紫外光源にて露光後、が残存するので、これを耐
酸性レジストとして、（Ｊｉエッチャントにより基板を
エツチングすること（（より所望のプリント配線回路板
を得ることができる（林信行、鍜治誠；熱硬化性樹脂、
６ｔ１）１４（ｉ９８５））。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ドライフィルムフォトレジストによるプリント回路作製
は、スクリーン印刷法により作製された回路パターンに
比べて高密度な配線が得られるものの、中間マスクと１
で光層の間（て高分子フィルム層が存在するため、ある
一定限度以上、例えば、１００μｍよりも細い配線パタ
ーンを得ることが離しい。そのため高分子フィルム層を
従来より薄（することにより改善を図っている例もある
が、これにも限界があり、さらＩＣより高′８！度プリ
ント回路板の要求に充分満足させ得る方法とはなってい
ない。

さらにもう一つの問題としては、近年、配線回路が複雑
化することにより、コンピューターを用いた回路設計シ
ステム、いわゆるＣＡＤまたはＣＡＭという名称で当該
業界で知られたシステムが用いられてきているが、この
出力を一度銀塩フイルムに露光し中間マスクを作製した
後、ドライフィルムに密着し改めて紫外線露光を行なっ
ている。

上記工程において中間マスク炸裂なせずに直接ＣＡＤの
出力をドライフィルムレジストに短時間で行なうことが
できれば、プリント回路板の製造工種を大巾に短縮する
ことができ、かつ中間マスクに用いられる高価な銀塩フ
ィルムが不要となり経済的に有利である。

以上大きく２つの問題点を解決するために用いられる最
良の方法としては、設計された回路パターンを１次元の
時系列信号とし、細く絞ったレーザービームによりドラ
イフィルムレジストに直接高速で描画するシステムがあ
る。レーザービームは集光性が高く、高速走査が可能な
ため、従来方法に比べて格段に高密度の回路パターンを
作製できる。また、回路パターンの一部分を修正する場
合もこの方式を用いること）℃より極めて迅速に処理す
ることが可能となる。ここで使用されるレーザーは例え
ばアルゴンイオンレーザ−、ヘリウム−ネオンレーザ−
、ヘリウム−カドミウムレーザー、半導体レーザーなど
の可視光全損レーザーが装置上適しているが、このよう
な可視光レーザーの高速走査露光に充分対応できる感光
りを有するドライフィルムフォトレジストは、当該業界
の強い要望にもかかわらず、従来から得られていない。

本発明は、可視光レーザーの高速走査露光ンこ対して充
分な１８度を有し、かつ金属基板との接着性や耐エツチ
ング性にも優れたドライフィルムフォトレジストを得る
ことを目的として〜・る。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、柔軟性を有する３層の横１体からなり、その
第１゛脅および第３．′＃が透明な鳩分子フィルムであ
り、第２層が下記に示す（ｉ）〜（■）成分を含有する
感光層であることを′４徴とするドライフィルムフォト
レジストを提供するものである。

（ｉ）酸価５０〜３００であり、分子量が１００００〜
５０００００の高分子重合体 （ｉ１）付加重合可能なエチレン性不自担二重Ｖｊ会を
分子中に２個以上有する単量体 曲１　ｆ３−　予肉にベンゼン骨格また７１ベン／フエ
ノン骨格を有する有機過峨エステル化合物 ；ψ下肥一般式（ｉ）〜（ｉ）で示される有機染料化合
物のＲ，０ （Ｒ＋は炭素ａ１〜４のアルキル基を表わす〕（Ｒｓは
炭素数１〜４のアルキル基を表わす〕本発明に用いる（
ｉ）酸価５０〜３００で、分子量１００００〜５０００
００の高分子重合体とは、ビニル系付加重合型ポリマー
、ポリエステル系。

ポリウレタン系、ポリアミド系等の縮合型ポリマー等で
あり１例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル
酸エステル、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸エステ
ル、フマル酸エステル、エチレングリコール、スチレン
、アクリｑ　二）リル、塩化ビニルなどの共重合体が好
ましい。

この酸価が５０より小さいと、露光後の現像処理工程に
おいて現像液として用いる弱アルカリ性水溶液に対して
溶解性が低く、酸化が３００より太きＶと溶解性が高過
ぎて、・画像部が基板から流去してしまう。

本発明に用いる（ｉ１）付加重合可指なエチレン性不飽
和単量体としては、例えば、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ
）アクリレート、１．３−ブタンジオールジ（メタ）ア
クリレート、１．４−ブタンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）７クリンー
ト、トリメチルールプロパントリ（メタ）７クリレート
、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）７クリレート等のポリエス
テル（メタ）アクリレートや、エポキシ（メタ）アクリ
レート、ウレタン（メタ）７クリレート等がある。

本発明に用いる曲）有機過酸エステル化合物としては、
１０時間半減期温度が７０Ｃ以上のものが好ましく、た
とえばターシャリイブチルペルオキシベンゾエート、タ
ーシャリイブチルペルオキシメトキシベンゾニート、タ
ーシャリイプチルペルオキシニト２ベンゾエート、ター
シャリイブチルペルオキシエチルベンゾエート、フェニ
ルイソプロビルペルオキシイ／シェード、ジターシャリ
イブチルジベルオキシイン７タレート、トリターシャリ
イブチルトリベルオキシトリメリテート、トリターシャ
リイプチルトリベルオキシトリメシネート、テトラター
シャリイブチルテトラベルオキシピロメリテート、２．
５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘ
キサン、３．３’。

４．４１−テトラ〜（ターシャリイプチルペルオ千ジカ
ルボニル）ベンゾフェノン、３．３’、４．４’　−テ
トラ（ターシャリイアミルペルオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３．３′、４．４′−テトラ（ターシャリ
イへキシルベルオキシカルボニル）ベンゾフェノン等が
ある。

本発明に用いる　（ｉ■）有機染料化合物としては下記
（ｉ）式にて示されるメロシアニン系染料、Ｒ，０ （Ｒ＋は炭素数１〜４のアルキル艦を表わす〕下記開式
及び＋ｆｆ１）式にて示されるチオキサンチン系染料。

（Ｒｓは炭素数１〜４のアルキル基を表わす〕があり、
これら有機染料化合物は凰独でもまた２攬以上を混合し
て用いてもよく、いずれも市販されているものを適宜使
用することができる。

上記各成分の好ましい配合割合は（ｉ）成分１００ｉｔ
没部に対して叩成分ｌＯ〜２００重量部、０１１）およ
び（ｉｖ）成分はそれぞれ０．１〜３０重量部である。

さらに上記各成分のほかに感光層の可塑性及び脆性の調
整のために３〜２０重量部の可塑剤を添加してもよい。

この可塑剤としては、例えばジグチルフタレート、グリ
セロールトリアセテート、およびトリメチロールプロパ
ン）ＩＪアセテート等が使用でざる。

また、ドライフィルムフォトレジストの保存安定性を高
めるために感光層に０．０１〜５ｔｆｉｔ部の重合Ｑ正
則を添加してもよい。この重合禁＋ｈ　ＩＩ　Ｋは、通
常曳く用いられるヒドロキノン、ヒドロキノン七ツメチ
ルエーテル等が使用できる。

本発明の感光層は、前記の成分を適当な希釈溶媒に混合
して高分子フィルム上に塗布した後乾燥したものである
。

ここで希釈溶媒として、例えばイソプμパノール、メチ
ルエチルケトン、トルエン、キシレン、セロソルブなど
がある。

本０発明に用いる高分子フィルムとしては、例えばポリ
エチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエステルなどのフィルムがあり、その厚さは１
〜２００μｍが好ましい。

本発明のドライフィルムフォトレジストは、その第１層
に好ましくはポリエチレンフィルムを用い、第３層に好
ましくはポリエチレンフィルム　　　゛トフイルムを用
い、第２　’ｄ　Ｋ　ｉｌさ５〜２００μｍの前記の感
光層を配置して３僧の積層体とするものである。

〔発明の効果〕

本発明のドライフィルムフォトンシストは高感度であり
、波長４００〜７００１の可視光レーザーの照射により
嘱めて短時間のうちに光化学反応を起し所定の硬化膜を
与える。この硬化膜は後のエツチング工程において充分
な耐酸性を有し、また最終的に１アルカリ水溶液疋て除
去可能でありフォトレジストとして優れた性能を有して
いる。

〔実施例〕

以下実施例および比ｖテｊにより本発明をさらに詳しく
説明する。なお列中の邦およびチは重量部および重着チ
を示す。

実洩例１゜ 厚さ２５μｍのポリエチレンテレブタンートフイルム上
に下記組成の感光液を乾燥、ｋＡ厚３５μｍとなるよう
にニーデイングを行ない、乾燥後厚さ２０μｍのポリエ
チレンフィルムを仮構してドライフィルムフォトレジス
トとした。

（ｉ）アクリル系ポリマー（酸価１７５）１００部３０
部 （ｌｉｉ）　３　、３’、　４　、４’−テトラ（ター
シャリイプチルベルオ干ジカルボニル）ベンゾ フェノン　　　　　　　　　　　　　　　３部（ｉ■）
下記構造の有機染料化合物　　　　　　１部Ｃ２Ｈ５０ ０ヒドロキノン　　　　　　　　　　０．１部Ｑインプ
ロパツール　　　　　　　　２００部得られたドライフ
ィルムレジストは、ポリエチレンフィルム層をはがした
後、銅張横層板に１００ＣＶＣて熱圧着を行なりた。

露光は、出力２００ｆｎＷのアルゴンイオンレーザ−を
用い、波長４８８ｎｍの発振線をビーム径２５μｆ′ｒ
ＬＫ絞り、５．５　ｍ　／　ｓｅｅの速度で走査露光を
行なった。露光後、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムをはがし、２％の炭酸ナトリウム水溶液にて３０Ｃで
１分間スプレー現像を行なった。

このようＫして得られた硬化レリーフは極めて鮮明かつ
強靭であり、４２度ボーメの塩化第二鉄水溶液によるエ
ツチングにおいても何ら損傷が生じなかった。その１ｌ
ｉｌｏ％カセイソーダ水溶液により硬化レリーフを除去
して新宅のプリント回路基板を得た。

実施例２ 実砲例１と同様な方法により下記組成の感光液を用いた
ドライフィルムフォトレジストを作製した。

０アクリル系ポリマー（酸価２６０）Ｚｏｏ部Ｏトリメ
チρ−ルプロパントリアク リ　レー　）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　４０　部Ｏテトラエチレングリ
コールシアク リ　レー　ト　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　３０　部ｏ３，３’、４．４’−
テトラ（ターシャリイブチルペルオイーシヵルボニル） ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　３部Ｏ下記構造
の有機染料化合物 ０、８部 Ｏヒドロキノン　　　　　　　　　　０．０７部Ｏイソ
プｐパノール　　　　　　　　２００部・メチルエチル
ケトン　　　　　　　２００部得られたドライフィルム
フォトレジストを実施例１と同様な方法により銅張積層
板への熱圧着後、出力３００ｆＦ！Ｗのアルゴンイオン
レーザ−を用い。

波長４８８ｎｍの発振線をビーム径２５μｍに絞り、４
．５　ｍ　／　３ｅｅの速度で高速走査露光を行なった
。走査露光後ポリエチレンテレフタレートフィルムをは
がし、１チの炭酸ナトリウム水溶液にて３０Ｃにて１分
間スプレー現：象を行なった。

実施例３゜ 実施例１において有機過酸エステル化合物にジターシャ
リイブチルジペルオキシイソフタレートを３部、有機染
料化合物ぺは下記構造式で示される化合物を１．２部用
いた能は、同様にしてドライフィルムフォトレジストを
作製し、銅張横１板に熱圧着を行なった。

Ｃ４Ｈ３Ｏ ここに、出力２５０ｆｆ！Ｗのアルゴンイオンレーザ−
を用い、波長４８８ｎｍの発振線をビーム径２５μｍ１
７絞り、６．５　ｍ　／　ｓｅｃの速度で高速走査露光
を行なった。１′！光後、実施例１と同様な操作により
現像を行なった。

実施例４゜ 実砲例２において有機過つエステル化合物にトリターシ
ャリイブチルトリペルオキシトリメリテートを４部、有
機染料化合物に下記構造式で示される化合物を１部用い
た他は、同様にしてドライフィルムフォトレジストを作
製し、＠張積層板罠熱圧着を行なった。

ここに、出力３ｏｏｍｗのフルゴンイオンンーザーを用
い、波長４８８ｎｍの発態線をビーム径２５μｆｉＫ絞
り、　　４．２　ｍ　／　ｓｅｃの速度で高速走査露光
を行なりた。霧光侵、実施ｌ！Ａ２とｊ同様な操作によ
り現、象を行なった。

実施例５゜ 下記組成の感光液を用いて実施例１と同様な方法により
ドライフィルムフォトレジストを得た。

０ビニル系ポリマー（酸価２９１）　　１００部Ｏテト
ラメチｐ−ルメタンテトラ アクリレート　　　　　　　　　　　　　７０部０３．
３’、４４’−テトラ（ターシャリイブチルペルオキシ
カルボニル） ペンゾフヱノン　　　　　　　　　　３．５部０下記構
造の有機染料化合物　　　　　　１部Ｃ２Ｈ５Ｑ 実施例１と同様な方法により鋼張積層仮に熱圧着を行な
った後、出力２００ｍＷのアルゴンイオンレーザ−を用
い、波長４８８ｎｍの発振線をビーム匝２５μｆｒＬＫ
絞り、６．２　ｍ　／　ｓｅｅの速度で走査へ！光を行
なった。露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルム
をはがし、１％の炭すナトリウム水溶液にて３０Ｃで１
分間スプレー現激を行なった。

以上、実施例２〜５で得られた硬化し１１−７は、いず
れも唖めて鮮明かつ強靭であり、４２１ｆボーメの塩化
第二鉄水溶液によるエツチングにおいても何ら損傷が生
じなかった。また、その後１０チカセイソーダ水溶液に
より硬化レリーフを除去して所望のプリント回路基板が
得られた。

比較例１．２ 実施例１において、（ｌｉｉ）説分または（ｉ■）成分
を除いた組成の感光液を用いて同釆にしてドライフィル
ムフォトレジストを得た。これをアルゴンイオンレーザ
−にて走査露光したところ全く感光しなかった。

比較例３．　４ 市販のドライフィルムフォトレジストを２１類用意し、
アルゴンイオンレーザ−にて走ｆ：露光したところ全く
感光しなかった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 柔軟性を有する３層の積層体からなり、その第１層およ
   び第３層が透明な高分子フィルムであり、第２層が下記
   に示す（ｉ）〜（ｉｖ）成分を含有する感光層であるこ
   とを特徴とするドライフィルムフォトレジスト。 （ｉ）酸価５０〜３００であり、分子量が１００００〜
   ５０００００の高分子重合体 （ｉｉ）付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を分
   子中に２個以上有する単量体 （ｉｉｉ）分子内にベンゼン骨格またはベンゾフェノン
   骨格を有する有機過酸エステル化合物 （ｉｖ）下記一般式（ I ）〜（III）で示される有機染
   料化合物のうち少くとも１種類 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔Ｒ＿１は炭素数１〜４のアルキル基を表わす〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ＿４
   は炭素数１〜４のアルキレン基を表わす。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔Ｒ＿５は炭素数１〜４のアルキル基を表わす〕