JPS6316683B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6316683B2
JPS6316683B2 JP56090475A JP9047581A JPS6316683B2 JP S6316683 B2 JPS6316683 B2 JP S6316683B2 JP 56090475 A JP56090475 A JP 56090475A JP 9047581 A JP9047581 A JP 9047581A JP S6316683 B2 JPS6316683 B2 JP S6316683B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
circuit
length
points
threshold value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56090475A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57204406A (en
Inventor
Masahiro Inoe
Seiichiro Satomura
Mitsuhisa Myazawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Akashi Seisakusho KK
Original Assignee
Akashi Seisakusho KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akashi Seisakusho KK filed Critical Akashi Seisakusho KK
Priority to JP56090475A priority Critical patent/JPS57204406A/ja
Publication of JPS57204406A publication Critical patent/JPS57204406A/ja
Publication of JPS6316683B2 publication Critical patent/JPS6316683B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、試料像における所望の2点間の長さ
を走査型電子顕微鏡を用いて測定する装置に関
し、特に、半導体ウエフア等に形成されたIC、
LSIあるいは超LSI等の回路パターンについて、
そのライン幅やライン間距離、ライン間ピツチ等
を測長するのに用いて好適な装置に関する。
一般に、半導体ウエフアに形成された回路パタ
ーン上のライン幅等を正確に測定してその値を知
ることは、不良品の発生率等を小さくして高い信
頼性で大量の製品を生産するために重要なことと
されている。
また、上記回路パターン上のライン幅等を正確
に測定してその値を知つておくことは、高い集積
密度で高い品質のLSIや超LSUを実現させる上に
おいて重要なことである。
ところで、回路の集積化が進むにつれて走査型
電子顕微鏡を用いて回路パターンを観察すること
が行なわれるようになつた。
従来よりこのように走査型電子顕微鏡を用いて
回路パターンにおける所望の2点間の長さを測定
する手段としては、ブラウン管に映し出された回
路パターン像を写真機で撮影し、得られた写真画
像から上記2点間の長さを測定するという原始的
な手段しか講じられておらず、これにより測定に
手間がかかるほか、正確な測定を行なえないとい
う問題点がある。
さらに、従来より行なわれている光学顕微鏡を
用いた測定法では、第1図aに示すような回路パ
ターンの像aに対し、マーカb,b′をそれぞれ測
定すべきラインの端部c,c′に整合させて、第1
図bに示した映像信号dを得るとともに、この映
像信号dと固定スレツシユホールド値(しきい
値)eとを比較して、ライン輻信号fを作り、ラ
イン幅gを求めることが行なわれている。
そこで、この光学顕微鏡を用いた測定手段を走
査型電子顕微鏡を用いた測定法に単に適用するこ
とも考えられるが、このような手段では、第2図
a,bに示すように、ウエフア断面パターン1上
の配線1aに電子線2を照射して、2次電子検出
器3で2次電子を補集するため、配線1aの端部
1b,1b′で信号レベル4が異なり、またその2
次電子検出器3の位置やその走査する方向やその
試料に対するビームの入射角等によつても信号レ
ベルが異なるという不具合が生じ、これにより正
確にライン幅等を測定できないという問題点があ
る。
本発明は、これらの問題点を解決しようとする
もので、走査型電子顕微鏡のブラウン管スクリー
ンを見ながら試料像における測定したい2点間の
両端部にマーカを移動させるだけで、この測定し
たい2点間の長さを正確にしかも迅速かつ普遍的
に測定できるようにした、走査型電子顕微鏡を用
いた測長装置を提供することを目的とする。
このため、本発明の測長装置は、試料を収める
試料室と、同試料室に付設された検出器と、同検
出器からの映像信号を受けて上記試料の像を映し
出すブラウン管とを有する走査型電子顕微鏡をそ
なえ、上記試料の像における2点間の端部に対応
する各部分に重合しうる第1および第2マーカの
各生成用電気信号を出力するマーカ発生回路と、
上記の第1および第2マーカが重合している範囲
での上記映像信号の各最大値と各最小値とから上
記2点間の端部に対応する各部分に適した第1お
よび第2スレツシユホールド値を決定するスレツ
シユホールド値設定器と、同スレツシユホールド
値設定器からの上記第1スレツシユホールド値に
対応する信号と上記検出器からの上記映像信号と
を比較して同映像信号を2値化した第1の2値化
信号を出力する第1の2値化回路と、上記スレツ
シユホールド値設定器からの上記第2スレツシユ
ホールド値に対応する信号と上記検出器からの上
記映像信号とを比較して第2の2値化信号を出力
する第2の2値化回路と、上記第1の2値化信号
から上記2点間の一端を決め上記第2の2値化信
号から上記2点間の他端を決めることにより上記
2点間の長さを測定する演算手段と、同演算手段
からの上記2点間の長さに対応する信号を受けて
上記2点間の長さの値を表示する表示手段とが設
けられたことを特徴としている。
以下、図面により本発明の一実施例としての走
査型電子顕微鏡を用いた測長装置について説明す
る。
添付図は、上記測長装置を示すもので、第3図
はその全体構成図、第4図はその電気回路図、第
5図はその要部を示す電気回路図、第6図a〜
f、第7図a〜f、第8図a〜gおよび第9図a
〜fはいずれもその各電気信号図、第10図a,
bはいずれもその2点間の長さを測定している状
態を説明するための模式図、第11図はその表示
手段の配設状態を示す正面図、第12図はそのス
レツシユホールド値設定時の走査線と測長時の走
査線との関係を説明するための模式図である。
第3図に示すごとく、走査型電子顕微鏡におい
て、水平、垂直方向走査用鋸歯状波発生器5,6
は、偏向回路7,8を介して試料像投映用ブラウ
ン管(CRT)9の水平、垂直方向走査用偏向部
材としての偏向コイル10,11に接続されると
ともに、倍率切換回路12,13を介し、鏡筒
CM内に配設されて電子ビーム14を走査する水
平、垂直方向走査用偏向部材としての偏向コイル
15,16に接続されている。
したがつて、発生器5からの鋸歯状波は、倍率
切換回路12で適当に振幅を変えて偏向コイル1
5へ供給され、ここで電子ビーム14を水平方向
へ走査することが行なわれ、一方この偏向コイル
15へ供給される鋸歯状波と同期している鋸歯状
波は、ブラウン管9のコイル10へ供給され、こ
こで電子ビーム14と同期させてブラウン管9内
の電子ビームを水平方向へ走査することが行なわ
れる。これにより発生器5、偏向コイル10,1
5、偏向回路7および倍率切換回路12で水平方
向走査系HSが構成される。
また、発生器6からの鋸歯状波およびこれに同
期している鋸歯状波も、上述の水平方向走査系
HSの場合とほぼ同様にして、偏向コイル16,
11へ供給されて、ここで鏡筒CM内の電子ビー
ム14およびブラウン管9内の電子ビームを垂直
方向へ走査することが行なわれる。これにより発
生器6、偏向コイル11,16、偏向回路8およ
び倍率切換回路13で垂直方向走査系VSが構成
される。
なお、第3図中の符号17はコンデンサレン
ズ、18は対物レンズを示している。
また、鏡筒CMの下部には、試料室19が形成
されており、試料室19内の試料台20上には、
試料としての超LSI等の回路パターンを形成され
た半導体ウエフア21が載置されている。
そして、試料室19には、電子ビーム14が半
導体ウエフア21に照射されることによつて生じ
る2次電子や反射電子や試料電流等を検出する検
出器22が付設されており、この検出器22から
の検出信号はプリアンプ23、メインアンプ24
で増幅されてブラウン管9のカソードあるいはグ
リツドへ供給されるようになつている。これによ
りブラウン管9のスクリーン9a〔第10図b、
第11図、第12図a,b参照〕上に輝度変調に
より半導体ウエフア21上の回路パターンの像が
投映される。
ところで、マーカ発生回路25が設けられてお
り、このマーカ発生回路25は、第4図に示すご
とく、第1、第2マーカ発生器26,27と模式
測長マーカ発生器28とをそなえている。
第1、第2マーカ発生器26,27へはスレツ
シユホールド値決定回路29から第1、第2のマ
ーカ発生信号M1,M2〔第6,7図各c、第8
図c,d参照〕が供給されるようになつており、
そしてこれらの第1、第2マーカ発生器26,2
7でマーカ信号が作られ、これらのマーカ信号は
メインアンプ24を介してブラウン管9のカソー
ドあるいはグリツドへ供給されるようになつてい
る。
これにより、ブラウン管スクリーン9a上の回
路パターン像の横(水平)方向における所望の2
点間の長さlを計測する場合に、測定したい2点
間としての回路パターン端部59a,59a′〔第
10図b参照〕をそれぞれ示すように、第1、第
2マーカMK1,MK2〔第10図b参照〕をス
クリーン9a上に輝度変調により表示できる。
このスレツシユホールド値決定回路29には、
第1、第2の測定範囲設定器30,31と、最大
値検出回路32,33と、最小値検出回路路3
4,35と、第1、第2のスレツシユホールド値
設定器36,37とが設けられており、操作パネ
ル部38からの各パネル設定値によつて各信号が
制御されるようになつており、操作パネル部38
に含まれる各可変抵抗39〜46は第4図におい
て、スレツシユホールド値決定回路29中に含ま
れて描かれている。
まず、第4,5図において、走査型電子顕微鏡
47の水平方向用鋸歯状波発生器5から水平方向
走査用鋸歯状波EH〔第6〜8図各a参照〕が第
1、第2の測定範囲設定器30,31に加えられ
る。
第1の測定範囲設定器30は、第1マーカMK
1の範囲(位置と大きさ)を決定すべく、スクリ
ーン9aの垂直方向の位置を決める可変抵抗39
と、水平方向の位置を決める可変抵抗40とが接
続されており、さらに、マーカの垂直方向の幅を
決める可変抵抗41とマーカの水平方向の幅を決
める可変抵抗42が接続されており、これらの抵
抗値および水平方向走査用鋸歯状波EHから第1
検出期間信号A1(ここではM1と同じ。)〔第
6,8図各c参照〕が生成されるようになつてお
り、この信号A1は最大値検出回路32および最
小値検出回路34の各一入力端へ供給されるよう
になつている。
最大値検出回路32は、プリアンプ23からの
映像信号Aa〔第6,7図の各b,d,e、第8図
b、第10図a参照〕をその他入力端に入力し、
各走査毎にこの映像信号Aaと、第1の範囲設定
器30からの第1検出期間を示す信号A1とを比
較し、第5図に示すごとく、第1検出期間内の最
も明るいレベルである最大レベル値B1〔第6図
d参照〕を最大値検出器32aで検出し、記憶
し、次の走査時のスレツシユホールド値決定に供
すべく、ホールド回路32bでホールドする。
最小値検出回路34は、最大値検出回路32に
おける各信号A1,Aaを受けて比較し、第5図
に示すごとく、第1検出期間内の最も暗いレベル
である最小レベル値B2〔第6図e参照〕を最小
値検出器34aで検出し、記憶し、次の走査時の
スレツシユホールド値決定に供すべく、ホールド
回路34bでホールドする。
これらホールド回路32b,34bでホールド
された各信号Ba,Bb〔第6図f参照〕は第1の
スレツシユホールド値設定器36へ送られ、最大
値(信号Ba)と最小値(信号Bb)の差を100%
としたときの60%分にあたる値が出力信号Bc〔第
6図f、第8図b参照〕として得られるようにな
つており、この信号Bcは、第1のスレツシユホ
ールド値として、後述するように信号B1,B2
を得た次の走査時に出力されるようになつてい
る。
この百分率(60%)は可変抵抗45で決定さ
れ、60%以外の任意の適切な値にも操作パネル部
38で調節できるようになつている。
第2のスレツシユホールド値の決定は、第1の
スレツシユホールド値の決定とほぼ同様にして行
なわれ、第2の測定範囲設定器31は、第1マー
カMK2の範囲(位置と大きさ)を決定すべく、
スクリーン9aの垂直方向の位置を決める可変抵
抗39と、水平方向の位置を決める可変抵抗43
とが接続されており、さらに可変抵抗41,44
が接続されており、これらの抵抗値および水平方
向走査用鋸歯状波EHから第2検出期間信号A2
(ここではM2と同じ。)〔第7図c、第8図d参
照〕が生成されるようになつており、この信号A
2は最大値検出回路33および最小値検出回路3
5の各一入力端へ供給されるようになつている。
最大値検出回路33は、プリアンプ23からの
映像信号Aa〔第6〜8図の各b参照〕をその他入
力端に入力し、各走査毎にこの映像信号Aaと第
2の範囲設定器31からの第2検出期間を示す信
号A2とを比較し、第5図に示したのと同様に第
2検出期間内の最大レベル値C1〔第7図d参
照〕を最大値検出器33aで検出し、記憶し、次
の走査時のスレツシユホールド値決定に供すべ
く、ホールド回路33bでホールドする。
最小値検出回路35は、最大値検出回路33に
おける各信号A2,Aaを受けて比較し、第5図
に示すごとく、第2検出期間内の最小レベル値C
2〔第7図e参照〕を最小値検出器35aで検出
し、記憶し、次の走査時のスレツシユホールド値
決定に供すべく、ホールド回路35bでホールド
する。
これらホールド回路33b,35bでホールド
された各信号Ca,Cb〔第7図f参照〕は第2のス
レツシユホールド値設定器37へ送られ、第7図
fに示されるように最大値(信号Ca)と最小値
(信号Cb)の差を100%としたときの、60%分に
あたる値が出力信号Cc〔第7図f、第8図b参
照〕として得られるようになつており、この信号
Ccは、第2のスツシユホールド値として、後述
するように、信号C1,C2を得た次の走査時に
出力されるようになつている。
この百分率(60%)は可変抵抗46で決定さ
れ、可変抵抗45と連動して、60%以外の適切な
値にも操作パネル部38で調節できるようになつ
ている。
また、可変抵抗46で決定される百分率は可変
抵抗45と別々に決定されてもよく、この場合
は、信号Aaの立ち上がり部分と立ち下がり部分
とのスレツシユホールド値が異なつたものとな
り、可変抵抗45,46が適宜調整されることに
より、第2図a,bで示したように、検出器3の
位置によつて配線1aの端部1b,1b′からの2
次電子のレベル4に生じる特性をより適切に補正
することができる。
さて、これら第1、第2のスレツシユホールド
値信号Bc,Ccは、スレツシユホールド値決定回
路29の出力として、回路パターン測長回路48
へ供給されるようになつている。
この回路パターン測長回路48は、第1の2値
化回路としてのコンパレータ49と、第2の2値
化回路としてのコンパレータ50と、パルス発生
回路51とで構成されている。
第8図に示すように、コンパレータ49は、第
1のスレツシユホールド値信号Bcと映像信号Aa
とを比較し、この信号Bcより映像信号Aaが大き
いとき、かつ、第1検出期間信号A1がオン状態
のとき、第1の2値化信号としての測長開始信号
D〔第8図e参照〕を出力するようになつており、
この信号Dをパルス発生回路51の一入力端に供
給するようになつている。
コンパレータ50は、第2のスレツシユホール
ド値信号Ccと映像信号Aaとを比較し、こ信号Cc
より映像信号Aaが大きいとき、かつ、第2検出
期間信号A2がオン状態のとき、第2の2値化信
号としての測長終了信号E〔第8図f参照〕を出
力するようになつており、この信号Eをパルス発
生回路51の他入力端に供給するようになつてい
る。
パルス発生回路51は、測長開始信号Dと測長
終了信号Eとを入力し、測長開始信号Dの立ち上
がりを出力信号F〔第8図g、第9図b参照〕の
立ち上がりとし、かつ、測長終了信号Eの立ち下
がりを出力信号Fの立ち下がりとするようになつ
ており、この出力信号Fは測長期間信号として、
演算手段としての演算回路52に供給されるよう
になつている。
演算回路52は、クロツク発生回路53から発
生されたクロツクパルスG〔第9図a参照〕を基
に、回路パターンの2点間の長さを演算する回路
であり、平均化を行なうことができるようになつ
ている。
クロツクパルスGは、カウンタ54の一入力端
に供給されるようになつており、回路パターン測
長回路48からの測長期間信号Fも同様にカウン
タ54の他入力端に供給されるようになつてい
る。
カウンタ54は、この信号F〔第9図b参照〕
が入力したとき、クロツクパルスGをカウント
し、出力するようになつており、この出力信号H
〔第9図c参照〕を測長信号としてラツチ回路5
5に供給するようになつている。
ラツチ回路55は、この測長信号Hを記憶保持
するとともに、この保持した測長信号H′〔第9図
c参照〕を出力するようになつており、この信号
H′を平均化回路56の一入力端に供給するよう
になつている。
平均化回路56は、測長信号H′を受けるとと
もに、第1の測定範囲設定器30からの測定範囲
信号I〔第9図d参照〕を受けて、平均化測長信
号J〔第9図e参照〕を出力するようになつてお
り、この信号Jは演算回路の出力として、表示手
段としての計数値表示器57へ送られるようにな
つている。
この計数値表示器57は、平均化測長信号Jを
基に第11図に示す、装置本体58に設けられた
操作パネル38aで、デイジタル表示器58aを
用いて、平均化した計測値(この例では16、33)
を表示する。
ここで、信号H,H′,Jは計数値で取り扱わ
れる。
なお、この計数値表示器57としては、液晶表
示素子や発光ダイオードやニキシー管が用いられ
る。
このように構成されているので、ライン幅の長
さを計測する場合は、第10図a,bおよび第1
1図に示すごとく、ブラウン管スクリーン9a上
に映し出された回路パターン像59における計測
すべきライン幅lの両端部59a,59a′に第
1、第2マーカMK1,MK2の中央部がそれぞ
れ位置するように、操作パネル部38付きの調整
ツマミ60a,60b,60cを操作する。
このとき、調整ツマミ60a,60b,60c
は、可変抵抗39,40,43を調整するもの
で、それぞれ、ブラウン管スクリーン9a上のl
1,l2,l3〔第11図参照〕の各部に対応す
る長さを調整するようになつている。
また第11図のl4,l4,l5の各部は可変
抵抗42,44,41によつて調整され、これら
の調整ツマミは操作パネル38aとは別途に設け
られて、調整することができるようになつてい
る。
さらに、スレシユホールド値設定用調整ツマミ
60dが設けられており、連動あるいは別々に可
変抵抗45,46を調整し、第1、第2のスレツ
シユホールド値を決定すべく、最大値と最小値と
の間のスレツシユホールド値の設定を百分率で行
なうようになつている。
このように操作することにより、第1、第2マ
ーカMK1,MK2は、映像信号Aaとの関係で
考えると、第8図c,dに示すような位置にそれ
ぞれあることになるため、第10図aに示したよ
うに、配線59の端部59a,59a′を的確にと
らえることができ、計測したい2点間の長さlに
対応する信号Aaの部分Lの長さについて、より
正確な測定ができるのである。
このとき、マーカMK1とMK2とをブラウン
管9のスクリーン9a上で接合して、あたかも1
つのマーカのごとく使用することもでき、また、
マーカMK1とMK2とをわずかに重合させて中
央部の輝度が高い1本のマーカとしてもよく、こ
れらの場合では2つのマーカとして表示したもの
とその機能はほぼ同様のものを示す。
また、実際の回路パターン上の長さlと信号
Aaの部分Lとの対応はクロツクパルスG等の調
整により容易に行なうことができる。
なお、平均化回路56をとり除いて、サンプリ
ングによつて計数表示することを行なつてもよ
い。
さらに、回路パターンのライン幅を測定する他
に、ライン間距離やライン間ピツチを測定するこ
ともでき、それらの場合には、コンパレータ4
9,50からの出力信号が、信号Aaがスレツシ
ユホールド値Bc,Ccより小さいときで、かつ、
信号A1ないしA2が入力しているときに別の端
子から出力されるようにして、その出力信号D′,
E′ともとの出力信号D,Eとの組み合わせによつ
て、ライン間距離やライン間ピツチの選択的計測
を行なうことができる。
なお、垂直方向の長さ測定は、映像信号を各水
平走査毎に水平方向の距離の等しい点をサンプリ
ングして、このサンプリングされた映像信号を、
AD変換器と、メモリーと、DA変換器とに順次
供給することによつて容易に行なうことができ、
メモリーに貯めた垂直方向に測定したい映像信号
Aaの値を一度にDA変換すれば、水平方向の長さ
測定とほぼ同様な測定法によつて長さの測定がで
きる。また、この垂直方向の長さ測定でサンプル
する点列をずらしながらサンプルすることによつ
て斜めの測定も行なうことができる。
ところで、スレツシユホールド値設定時の走査
線と測長時の走査線との関係は、第12図aに示
すように、スレツシユホールド値設定の走査線6
1a,61bと、測長する走査線62a,62b
とを交互に行なうようになつており、第6,7図
の各fに示されるように、スレツシユホールド値
は、スレツシユホールド値を設定した次の走査時
に用いることによつて、レベルの比較に寄与する
ようになつている。
また、第12図bに符号63で示すように、走
査線の垂直方向走査用鋸歯状波を適宜調整するこ
とにより、同じ回路パターン面を2回走査するこ
とによつて、1回目はスレツシユホールド値Bc,
Ccを設定し、2回目で測長するようにしても、
1回毎に交互に設定測長するのとほぼ同様の効果
が得られる。
さらに、ホールド回路32b,33b,34
b,35bに供給されるホールド信号を適宜調整
すれば、例えば水平方向ブランキング時に調整す
れば、最大値・最小値検出を各走査時に行ない、
同時に、1つ前の走査時の最大値B1,C1と最
小値B2,C2とを用いて、これらB1,B2,
C1,C2から作られたスレツシユホールド値
Bc,Ccと映像信号Aaとの比較を各走査毎に行な
い測長することができる。
また、映像信号Aaを遅延回路を介して検出器
32a,33a,34a,35aに供給するよう
に構成して、この遅延回路の遅れ時間を、信号A
1,A2のオン状態の時間幅のうち大きい方と同
じもしくは大きく設定することにより、スレツシ
ユホールド値を作つた同じ走査時の映像信号とス
レツシユホールド値とを比較することもでき、よ
り正確な測長ができる。この場合は、信号A1,
A2の立ち下がりをホールド回路32b,33
b,34b,35bのホールド信号とするように
設定する。
ところで、ブラウン管スクリーン5a上に輝度
変調によつて、現在測長している2点間の長さl
と等しい模式マーカMMK〔第10図b参照〕を
表示する模式測長マーカ発生器28が設けられて
いる。
この模式測長マーカ発生器28は、パルス発生
回路51からの信号Fを受けて、ブラウン管スク
リーン9a上に模式測長マーカMMKを発生させ
るもので、この模式測長マーカMMKは、現在測
長している長さlを表示するため、測長範囲内で
1本ないし数本分の測長パルスFをメインアンプ
24に送ることによつて、第10図bに示すよう
に第1、第2マーカMK1,MK2とは垂直方向
の幅を異なるようにして、又は、その輝度を第
1、第2マーカMK1,MK2とは明確に区別で
きるように変化させて、表示することができるよ
うに、信号F′〔第9図f参照〕をメインアンプ2
4を介しブラウン管9へ供給するようになつてお
り、これによりブラウン管スクリーン9a上には
第10図bに示すように測定すべき所定の2点間
にこれと同じ長さの模式マーカMMKが、回路パ
ターンの像および同2点間の端部に重合して存在
する第1、第2マーカMK1,MK2を重合して
表示されるのである。
なお、可変抵抗45,46の接続状態を変える
ことによつて、ブラウン管スクリーン上9aで第
1マーカMK1の移動につれて、第2マーカMK
2が移動するようにすることもできる。
さらに、本発明の手段は各種微少パターンの測
長ついても適用できる。
以上詳述したように、本発明の走査型電子顕微
鏡を用いた測定装置によれば、試料像の測定した
い2点間の測長を自動的にしかも正確かつ迅速に
行なえる利点があり、特に従来の固定スレツシユ
ホールド値による測定手段(第1図参照)と異な
り、観測時の映像信号の電圧バイアス分や振幅レ
ベルの違いにかかわらず、正確且つ普遍的な測長
を行なえる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1,2図は従来の回路パターン測長手段を示
すもので、第1図a,bはいずれも光学顕微鏡を
用いて、長さを測定している状態を説明するため
の模式図、第2図a,bはいずれも走査型電子顕
微鏡を用いて、長さを測定している状態を説明す
るための模式図であり、第3〜12図は本発明の
一実施例としての走査型電子顕微鏡を用いた測長
装置を示すもので、第3図はその全体構成図、第
4図はその電気回路図、第5図はその要部を示す
電気回路図、第6図a〜f、第7図a〜f、第8
図a〜gおよび第9図a〜fはいずれもその各電
気信号図、第10図a,bはいずれもその2点間
の長さを測定している状態を説明するための模式
図、第11図はその表示手段の配設状態を示す正
面図、第12図はそのスレツシユホールド値設定
時の走査線と測長時の走査線との関係を説明する
ための模式図である。 1……ウエフア断面パターン、1a……回路パ
ターンの配線、1b,1b′……回パターンの端
部、2……電子線、3……2次電子検出器、4…
…信号レベル、5,6……鋸歯状波発生器、7,
8……偏向回路、9……ブラウン管、9a……ブ
ラウン管スクリーン、10,11……偏向コイ
ル、12,13……倍率切換回路、14……電子
ビーム、15,16……偏向コイル、17……コ
ンデンサレンズ、18……対物レンズ、19……
試料室、20……試料台、21……試料としての
半導体ウエフア、22……検出器、23……プリ
アンプ、24……メインアンプ、25……マーカ
発生回路、26,27……第1、第2マーカ発生
器、28……模式測長マーカ発生器、29……ス
レツシユホールド値決定回路、30,31……第
1、第2の測定範囲設定器、32,33……最大
値検出回路、32a,33a……最大値検出器、
34,35……最小値検出回路、34a,35a
……最小値検出器、32b,33b,34b,3
5b……ホールド回路、36,37……第1、第
2のスレツシユホールド値設定器、38……操作
パネル部、38a……操作パネル、39〜46…
…抵抗、47……従来の走査型電子顕微鏡、48
……回路パターン測長回路、49,50……第
1、第2の2値化回路としてのコンパレータ、5
1……パルス発生回路、52……演算手段として
の演算回路、53……クロツク発生回路、54…
…カウンタ、55……ラツチ回路、56……平均
化回路、57……表示手段としての計数値表示
器、58……装置本体、58a……デイジタル表
示器、59……回路パターン像、60a,60
b,60c,60d……調整用ツマミ、61a,
61b,62a,62b,63……走査線、CM
……鏡筒、MK1,MK2……第1、第2マー
カ、MMK……模式測長マーカ、HS……水平方
向走査系、VS……垂直方向走査系。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 試料を収める試料室と、同試料室に付設され
    た検出器と、同検出器からの映像信号を受けて上
    記試料の像を映し出すブラウン管とを有する走査
    型電子顕微鏡をそなえ、上記試料の像における2
    点間の端部に対応する各部分に重合しうる第1お
    よび第2マーカの各生成用電気信号を出力するマ
    ーカ発生回路と、上記の第1および第2マーカが
    重合している範囲での上記映像信号の各最大値と
    各最小値とから上記2点間の端部に対応する各部
    分に適した第1および第2スレツシユホールド値
    を決定するスレツシユホールド値設定器と、同ス
    レツシユホールド値設定器からの上記第1スレツ
    シユホールド値に対応する信号と上記検出器から
    の上記映像信号とを比較して同映像信号を2値化
    した第1の2値化信号を出力する第1の2値化回
    路と、上記スレツシユホールド値設定器からの上
    記第2スレツシユホールド値に対応する信号と上
    記検出器からの上記映像信号とを比較して第2の
    2値化信号を出力する第2の2値化回路と、上記
    第1の2値化信号から上記2点間の一端を決め上
    記第2の2値化信号から上記2点間の他端を決め
    ることにより上記2点間の長さを測定する演算手
    段と、同演算手段からの上記2点間の長さに対応
    する信号を受けて上記2点間の長さの値を表示す
    る表示手段とが設けられたことを特徴とする、走
    査型電子顕微鏡を用いた測長装置。
JP56090475A 1981-06-12 1981-06-12 Measuring method of length using scanning-type electronic microscope and its device Granted JPS57204406A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56090475A JPS57204406A (en) 1981-06-12 1981-06-12 Measuring method of length using scanning-type electronic microscope and its device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56090475A JPS57204406A (en) 1981-06-12 1981-06-12 Measuring method of length using scanning-type electronic microscope and its device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57204406A JPS57204406A (en) 1982-12-15
JPS6316683B2 true JPS6316683B2 (ja) 1988-04-11

Family

ID=13999603

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56090475A Granted JPS57204406A (en) 1981-06-12 1981-06-12 Measuring method of length using scanning-type electronic microscope and its device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS57204406A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58117404A (ja) * 1982-01-05 1983-07-13 Jeol Ltd パタ−ン測定法
JPH0430489Y2 (ja) * 1984-11-26 1992-07-23
JPH073776B2 (ja) * 1985-02-08 1995-01-18 株式会社日立製作所 測長用電子顕微鏡

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59761B2 (ja) * 1979-10-25 1984-01-09 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡における距離測定装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57204406A (en) 1982-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8502141B2 (en) Graphical user interface for use with electron beam wafer inspection
JP4573419B2 (ja) 非接触型外形測定装置
JPS6316683B2 (ja)
JP3420037B2 (ja) 寸法測定装置及び寸法測定方法
JPS59761B2 (ja) 走査電子顕微鏡における距離測定装置
JPS61211935A (ja) カラ−ブラウン管のコンバ−ゼンス量検出方法
JP2880003B2 (ja) 電子顕微鏡
JPS63266747A (ja) 試料像表示装置
JP2564359B2 (ja) パタ−ン検査方法及びパタ−ン測長方法並びに検査装置
JPS61220261A (ja) 試料表面の対象区域をわき立たせる方法と装置
US2873378A (en) Method of examining the quality of electron-optical images and devices for carrying out this method
JPH0219682Y2 (ja)
JP3146255B2 (ja) 微小寸法測定方法
JPH0430489Y2 (ja)
JPS5824726B2 (ja) 走査型測長装置
JPS594298Y2 (ja) 走査電子顕微鏡等の試料装置
JPH0576487A (ja) 電子内視鏡装置
JPS5993492A (ja) 陰極線表示管を用いた表示装置
JP2000123769A (ja) 試料に対する荷電粒子の焦点を調整する合焦制御方法
JPH05259239A (ja) 電子ビーム装置
JPS6041294B2 (ja) 赤外線温度分布測定装置
JPH07115654A (ja) 自動コンバーゼンス装置
JPS6318204A (ja) 測長装置
JPS61294749A (ja) パタン寸法測定方法
JPH04149943A (ja) パターン検査用走査電子顕微鏡