JPS63173021A - マトリクス表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は映像機器や情報機器などに用いて有効な、高コ
ントラスト等の高表示品位を有する簡易な構成の低コス
ト非直線二端子素子からなるマトリクス表示装置に関す
るものである。

従来の技術 近年、特に液晶表示装置に代表されるマトリクス表示装
置は、コンピュータを中心とする情報機器分野および映
像機器分野において、大容量表示、特に画像表示に向け
てのアプローチが活発であり、低価格デバイスが実現で
きるディスプレイとして注目されている。非直線二端子
素子とは、電流−電圧特性が非直線性を示し、比較的大
電圧領域において近似的に定電圧特性を示すような二端
子素子をいう、以下図面を参照しながら従来の提案され
た非直線二端子素子を用いた液晶表示装置の一例につい
て説明する。

第２図ｆａ＋は非直線二端子素子（ＭＩＭ素子：Ｍｅｔ
ａｌ　−Ｉ　ｎ５ｕｌａｔｏｒ　−Ｍｅｔａｌ素子）を
各絵素ごとに具備した液晶表示パネルの片側の基板の絵
素近辺の断面図の一例であり、第２図（ｂｌはその配置
図である。基板４１．タンタル層４２．陽極酸化タンタ
ル層４３．絵素電極層４４．クロム層４５から非直線二
端子素子４６を形成しており、バス・バー４７．引出し
端子４Ｂ、絵素電極層４９をもって非直線二端子アレイ
とする。〔例えばアイトリプルイー　トランザクション
　オン　エレクトロン　デバイシズ　イーディー　２８
巻、６号。

１　９　８　１　　　（ＩＥＥＥ　　ＴＲＡＮＳＡＣＴ
ＩＯＮ　　ＯＮ　　巳しＥＣτ０ＲＯＩＩ　　０！１Ｅ
ＬＥＣＴＯＲＯＮ　［１ＥＶＩＣＥＳ、　ＶＯＬ、　Ｅ
Ｄ−２８、Ｉｔ　６　。

１９８１）、情報表示学会（Ｓ　［Ｄ　；　５ｏｃｉｅ
ｔｙ　ＦｏｒＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｄｉｓｐｌａｙ
　）の１９８４年国際シンポジウム技術論文集（ＳＩＤ
　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　ＳｙｍｐｏｊｉｒｍＤ
ｉｇｅｓｔ　Ｏｆ　Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　Ｐａｐｅｒｓ
）　Ｐ　３０４−３０５　）。

また第３図はＰＩＮダイオードをリング状に連結し非直
線二端子素子とした例であり、第３図（ａｌはＰＩＮダ
イオードの構成断面図、第３図（ｂｌはこのＰＩＮダイ
オードを使った液晶表示パネルの片側の基板の配置図で
ある。第３図山）においてＰＩＮダイオードは通常のＰ
Ｎダイオード記号で示されている。基板５１上には第一
電極層５２゜Ｎ型非晶質硅素５３．Ｉ型非晶質硅素５４
．Ｎ型非晶質硅素５５．クロムＮ５６．絶縁体からなる
保護層５７．第２電極層５８が形成されており、リング
状に連結したＰＩＮダイオード５９．バス・バー６０．
絵素電極６１をもって非直線二端子アレイとする〔例え
ばテレビジラン学会技術報告、昭和５９年５月２５日発
表〕。

通常の液晶表示パネルではデユーティ比が１／２００程
度が限度であるが、これらの非直線抵抗素子を用いるこ
とにより、デユーティ比が１／１０００の高品位な液晶
表示特性を得ることが可能となる。

第４図は非直線二端子素子を用いた液晶表示パネルの等
価回路図である。このパネルが正常に動作する為には、
電流が主に非直線抵抗７０、液晶層の容量７３という経
路を流れる必要がある。非直線二端子素子が正常に機能
するためには、非直線抵抗並列容量７１を小さくしなけ
ればならない。

尚７２は液晶層の抵抗、７４は非直線抵抗素子、７５は
液晶層を示す。

第５図は非直線二端子素子を用いたマトリクス表示パネ
ルの構成を示す図である。帯状電極を有する基板８０と
、非直線二端子素子アレイ基板８１のそれぞれ表示媒体
８２と接する面に配向膜８３を形成し、ガラスファイバ
ー或いは樹脂微粒子を散布しスペーサー８４を設けた後
シール材８５にて貼り合せ、スペーサー８４により形成
された間隙に表示媒体８２を充填しマトリクス表示装置
とする。

発明が解決しようとする問題点 非直線二端子素子を用いた例えば液晶表示装置を駆動す
るためには、非直線素子に充分な電圧を印加する必要が
ある。それには非直線素子の電気容量を液晶層の電気容
量の１／１０程度以下に設計しなければならない、従来
の技術による第１のものについては、酸化タンタルの厚
みを約５００人にすると闇値電圧は７〜ＩＩＶで非直線
特性も著しく好適であるが、酸化タンタルの比誘電率が
２０以上あり非直線素子の電気容量が大きくなる。

従ってデユーティが１）５００〜１／１０００の高品位
な液晶表示特性を得るためにはやや不利となり、そのた
め非直線素子の形状を微細にしているが、このことはア
レイの歩留りを著しく悪化させる原因となっており、さ
らに複雑で時間を要するフォトリソグラフィ一工程が少
なくとも３回以上含まれるため作業効率が悪化するだけ
でなく大幅なコストアンプの原因ともなっている。また
第２のものについては、フォトリソグラフィ一工程が少
なくとも５回〜６回含まれることになり、このことは作
業効率の悪化、歩留りの悪化、さらにはコストアンプの
原因となっている。

問題点を解決するための手段 前記問題点を解決するために本発明のマトリクス表示装
置は、基板上の順次間隙を存する第１導体層、前記導体
層の各々について複数個ずつ設けられた第２導体層、前
記第１導体層、第２導体層との間に介在し、電気的に縦
続接続された第１樹脂層と砒素（Ａｓ）と硫黄（Ｓ）と
セレン（Ｓｓ）との化合物からな半導体層と、さらに第
２樹脂層の複合層を有する非直線二端子素子アレイと、
帯状電極を有する第２の基板との間に表示媒体を挾み込
んだものである。

作用 本発明は前記した構成によって、前記半導体層、すなわ
ち導体層−樹脂層一半導体層一樹脂層一導体層構造から
なる非線形素子部によって、非線形的な電流−電圧特性
を実現している。現在ではこの非線形性はかなりの部分
、半導体層に原因があるように推定される。現実の素子
の電流−電圧特性を測定すると、 １　−　　Ａ−Ｖα の形で近似できる特性を示す、ここでＡとαは定数であ
る。この素子をリード配線と表示電極との間に介在させ
ることにより、絵素部分に印加されるオン電圧とオフ電
圧との比を大きくすることができ、コントラスト特性を
向上させることが可能となる。また半導体層を形成する
砒素（Ａｓ）と硫黄（Ｓ）とセレン（Ｓｓ）の化合物の
比誘電率が１０以下と比較的小さいことにより、非線形
素子の形状は比較的大きくでき、歩留りの向上が望める
０例えば、基板上にパターン化された第１導体層（通常
これはリード配線）の上に半導体層、次に第２導体層（
通常これは絵素電極の一部、或いは前記半導体層と絵素
電極を接続する接続配線）を積層させることは、二度の
被膜形成、及び二度のフォトリソグラフィ一工程で可能
である。しかし非線形素子の形状は比較的大きくするこ
とができることと、前記半導体層を蒸着法で形成する場
合には基板加熱を必要としないことを考えると、本発明
による表示装置に用いる非線形素子の製法は簡易である
ことがわかる。すなわち、基板上にパターン化された第
１導体層の上の半導体層の形成はメタルマスクを用い、
マスク合せ一蒸着の過程で容易に達成される。また前記
第２導体層もこれを構成するものによっては、引続きマ
スク蒸着で容易に形成される。

また、樹脂層は基板と半導体層との応力の緩和に起因し
ており、特性の均一化に貢献し、より安定な非直線二端
子素子が得られる。さらに、導体層−樹脂層一半導体層
一樹脂層一導体層構造という対称な構造を持つことによ
り、電気的にも対称な特性が得られ、液晶の安定性にも
大きく寄与することができる０以上のようなことから、
歩留りの低下をきたさずに、低コストで表示品位の高い
液晶表示装置の実現が可能となる。

実施例 以下、本発明の代表的な一実施例のマ）　ＩＪクス表示
装置について、図面を参照しながら説明する。

前記したように、第１導体層はリード配線、またはリー
ド配線から分岐したそれの一部であり、第２導体層は絵
素電極の一部、または絵素電極への接続を目的とする接
続配線である。どのような場合にも本発明の効果は発揮
されることを確認したが、本実施例では以下に、第１導
体層をリード配線、第２導体層は絵素電極の一部である
場合について述べるものとする。

第１図Ｔａ）は構成断面図、第１図（ｂｌは平面図を示
す、第１図において１は基板であり、基板１上に形成さ
れた第１導体ＩＪ２をバタンニングし、引出し端子部を
除く基板の全面にポリイミド被膜３を形成した後、厚さ
約３０．ｕｍの磁性ステンレス鋼板製の所定の穴が開け
られたマクスとアライナーを用いて位置合せを行ない、
基板裏面よりサマリウム・コバルト磁石を置いて密着さ
せ、その後これを蒸着用真空槽内に設置し、抵抗加熱法
によって基板上に半導体Ｎ４を形成する。その後、引出
し端子部を除く基板の全面に再度ポリイミド被膜５を形
成した後、低温スバフタ法により第２導体層６を形成す
る。基板１は石英ガラス、ソーダガラス等第１導体Ｎ２
は錫を含んだ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを
含んだ酸化錫、クロム。

アルミニウム、チタン等、半導体層４は砒素と硫黄とセ
レンとの合金からそれぞれ形成されている。

また第２導体層６はテルル、クロム、アルミニウム等か
ら形成されている。以上のようにして得られた非直線二
端子素子子レイの素子の電流−電圧特性を測定し、非直
線二端子素子アレイと透明を存する帯状電極付基板のそ
れぞれの表面に配向処理を施した後、前記２枚の基板を
貼り合せてパネルとし表示媒体を注入し液晶表示パネル
とした。

本発明の一実施例は、第１図に示した基板１には、ソー
ダガラス上に二酸化硅素（５１０２）を被覆したものを
、第１導体Ｎ２には約２０００人の厚みのＩＴＯｌまた
はチタン（Ｔｉ）の２種類を形成した。その各々につい
て半導体層４は砒素と硫黄とセレンの化合物で、砒素が
１原子％、５原子％、１０原子％、２５原子％、４０原
子％。

５０原子％、６０原子％、８０原子％、８５原子％の計
９種類のものをそれぞれ蒸着し、第２導体層６は厚さ約
５００人のテルル被膜を形成した。

非直線二端子素子の７４２ｉｔ−電圧特性の非直線性は
著しく大きくしかも対称で、またその容量も液晶層の容
量と比べて充分に小さいものであった。これらの基板を
用いて液晶表示パネルを製作したところ、デユーティ比
１／１０００、バイアス比１／７のマトリクス駆動時に
おいて、１０：１以上のコントラストでの表示が確認で
きた。

ところでパネルの製作工程において、配向膜の形成や、
液晶材料の注入時には基板の温度を少なくとも９０℃以
上に加熱する必要があるが、半導体層４を構成する砒素
と硫黄とセレンの化合物について砒素の成分比が１０原
子％未溝のものは、そのガラス化温度がかなり低くなる
ことにより熱処理時に素子が破壊された。また砒素の成
分比が８５原子％の素子では砒素の析出が見られ実用的
ではなかった。以上のことから砒素と硫黄とセレンの化
合物において砒素が１０原子％以上８０原子％以下であ
れば、液晶表示用の非直線二端子素子として満足し得る
特性を備えていることが確認できた。

本発明の他の実施例は、第１図に示した基板上には、ソ
ーダガラス上に二酸化硅素（Ｓ　ｉ０２　）を被覆した
ものを、第１導体層２には約１５００人の厚みのＩＴＯ
ｌまたはチタン（Ｔｉ）の２種類を形成した。その各々
について第２導体層６にテルル被膜を膜厚２００人、３
００人、５００人。

１０００人、２０００人、３０００人、４０００人、５
０００人、８０００人としたものを計９種類それぞれ蒸
着した。２硫黄１セレンｌ砒素（Ａ　ｓ　Ｓ　ｅ　３２
　）を約１００人蒸着した。以上のようにして得られた
非直線二端子素子の電流−電圧特性の非直線性は著しく
大きくしかも対称で、またその容量も液晶層の容量と比
べて充分に小さいものであった。これらの基板を用いて
液晶表示パネルを製作したところ、デユーティ比１／１
０００．バイヤス比１／７のマトリクス駆動時において
、１０：１以上のコントラストでの表示が確認できた。

本発明の他の一実施例は、第１図に示した基板１には、
ソーダガラス上に二酸化硅素（ＳｉＯ□）を被覆したも
のを、第１導体層２に約は２５００人の厚みのＩＴＯ，
またはチタン（Ｔｉ）の２種類を形成した。その各々に
ついて第２導体層６にクロム（Ｃｒ）及びアルミニウム
（Ａ１）被膜を膜厚５００人、１０００人、２０００人
としたものを計６種類それぞれ蒸着し半導体Ｎ４は、１
硫黄２セレン１砒素（Ａｓｓｓ２Ｓ）約１５００人蒸着
した。以上のようにして得られた非直線二端子素子の電
流−電圧特性の非直線性は著しく大きくしかも対称で、
またその容量も液晶層の容量と比べて充分に小さいもの
であった。これらの基板を用いて液晶表示パネルを製作
したところ、デュ−ティ比１／１０００．バイヤス比１
／７のマトリクス駆動時において、１０：１以上のコン
トラストでの表示が確認できた。

本発明の他の一実施例は、第１図に示した基板１には、
ソーダガラス上に二酸化硅素（Ｓ　ｉ　Ｏ□）を被覆し
たものを、第１Ｒ体Ｎ２には約１５００人の厚みのクロ
ム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａ／）。

またはアンチモン（Ｓｂ）を含んだ酸化錫（ＳｎＯ□）
を形成しポリイミド被膜形成後、半導体層４（２硫黄１
セレン２砒素（Ａ　ｓ　２３　ｅ　Ｓ２　））を２００
０人蒸着し、第２導体層６　（テルル）を５００人順に
抵抗加熱法により蒸着した。以上のようにして得られた
非直線二端子素子の電流−電圧特性の非直線性は著しく
大きくしかも対称で、またその内容も液晶層の容量と比
べて充分に小さいものであった。これらの基板を用いて
液晶表示パネルを製作したところ、デユーティ比１／１
０００．バイヤス比１／７のマトリクス駆動時において
、１０：１以上のコントラストでの表示が確認できた。

本発明の他の一実施例は、第１図に示した基板１には、
ソーダガラス上に二酸化硅素（ＳｉＯ２）を被覆したも
のを、第１導体層２には約２０００人の厚みのＩＴＯｌ
またはチタン（Ｔ　ｉ）の２種類を形成し、その各々に
ついて半導体層４は、１硫黄２セレン２砒素（Ａｓ□５
ｅＳ２Ｓ）を膜厚３００人、５００人、１０００人、２
０００人。

３０００人、４０００人、５０００人、６０００人とし
たものを計８種類それぞれ蒸着した。以上のようにして
得られた非直線二端子素子の１ｉ流−電圧特性の非直線
性は著しく大きくしかも対称で、またその容量も液晶層
の容量と比べて充分に小さいものであった。これらの基
板を用いて液晶表示パネルを製作したところ、デユーテ
ィ比１／１０００．バイヤス比１／７のマトリクス駆動
時において、１０：１以上のコントラストでの表示が確
認できた。

本発明の他の一実施例は、第１図に示した基板１には、
ソーダガラス上に二酸化硅素（Ｓ　ｉ０２　）を被覆し
たものを、第１導体層２には約２０００人の厚みのＩＴ
Ｏｌまたはチタン（Ｔｉ）の２種類を形成し、その各々
について半導体Ｎ４は砒素。

硫黄、セレン、の化合物で、砒素の成分比を３０原子％
及び５０原子％とし、残りの成分比を硫黄：セレン＝５
：ｔ＋　　３：１．ｔｉｔ、１：３゜ｌ：５とした計１
０種類のものをそれぞれ約１５００人蒸着した。絶縁体
層３は約２５００人の酸化アルミニウム（Ａ１２０３）
を第２導体層５は約２００人のテルルを形成した。以上
のようにして得られた非直線二端子素子の電流−電圧特
性の非直線性は著しく大きくしかも対称で、またその容
量も液晶層の容量と比べて充分に小さいものであった。

これらの基板を用いて液晶表示パネルを製作したところ
、デユーティ比１／１０００゜バイヤス比１／７のマト
リクス駆動時において、ｌＯ：１以上のコントラストで
の表示が確認できた。

本発明実施例は半導体層及び第２導体層をバタンニング
する方法としてメタルマスクを用いる方法で実施したが
、フォトレジストを用いたリフト・オフ法を用いても、
また表示媒体として液晶組成物以外の例えば電気泳動表
示素子（ＥＰＩＤ）。

電場発光表示素子（ＥＬ）、エレクトロクロミック表示
素子（Ｅ　ＣＤ）等を用いた場合にも同様のものが得ら
れることはいうまでもない。

発明の効果 以上のように本発明のマトリクス表示装置は、基板上に
順次間隙を有する第１導体層、第１樹脂層、砒素（Ａｓ
）と硫黄（Ｓ）とセレン（Ｓｅ）との化合物からなる半
導体層、第２樹脂層、さらに第２導体層を積層するとい
う構成を備えたことにより、例えば実施例で示したよう
なフォトリソグラフィ一工程、リフト・オフ・プロセス
を用いない簡易なプロセスで剥離等の不良を生起しない
、しかも電流−電圧特性が非常に対称性をもった、より
安定な特性を示すマトリクス表示用非直線二端子アレイ
が得られ、作業効率及び歩留りが大幅に向上しただけで
なく、表示品位の高いマトリクス表示装置を低コストで
実現することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａｌは本発明による液晶表示用非直線二端子素
子の構成断面図、第１図中）はその平面図、第２図（ａ
ｌ及び第３図ｆａｔは従来の非直線二端子素子の構成断
面図、第２図（ｂｌ及び第３図（′ｂ）は従来の非直線
二端子素子の配置図、第４図は非直線二端子素子付き液
晶表示パネルの等価回路図、第５図は非直線二端子素子
を用いたマトリクス表示パネルの構成図である。 ｌ・・・・・・基板、２・・・・・・第１導体層、３・
・・・・・第１樹脂層、４・・・・・・半導体層、５・
・・・・・第２樹脂層、６・・・・・・第２導体層。 代理人の氏名　弁理士　中尾敏男　はか１名！−組 ？−第１瀉伴１ ３−８１潅厖層 ４−手Ｓ伴１ 第１図　　　　　５−　ｆｉＺ□ ６−％２情碑眉 第２図 第３図

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に順次間隙を有する第１導体層、前記導体
   層の各々について複数個ずつ設けられた第２導体層、前
   記第１導体層、第２導体層との間に介在し、電気的に縦
   続接続された第１樹脂層と砒素（Ａｓ）と硫黄（Ｓ）と
   セレン（Ｓｅ）との化合物からなる半導体層と、さらに
   第２樹脂層の複合層を有してなるような非直線二端子素
   子アレイと、帯状電極を有する第２の基板との間に表示
   媒体を挾み込んだことを特徴とするマトリクス表示装置
   。
2. （２）半導体層を構成する砒素と硫黄とセレンの化合物
   について、砒素の成分比が１０原子％以上８０原子％以
   下であることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記
   載のマトリクス表示装置。
3. （３）第１導体層が錫（Ｓｎ）を含んだ酸化インジウム
   （Ｉｎ＿２Ｏ＿３），アンチモン（Ｓｂ）を含んだ酸化
   錫（ＳｎＯ＿２），クロム（Ｃｒ），アルミニウム（Ａ
   ｌ），チタン（Ｔｉ）の何れかからなることを特徴とす
   る特許請求の範囲第（１）項記載のマトリクス表示装置
   。
4. （４）第２導体層が錫（Ｓｎ）を含んだ酸化インジウム
   （Ｉｎ＿２Ｏ＿３），テルル（Ｔｅ），アルミニウム（
   Ａｌ），クロム（Ｃｒ），チタン （Ｔｉ）の何れかからなることを特徴とする特許請求の
   範囲第（１）項記載のマトリクス表示装置。
5. （５）樹脂層をポリイミドから形成することを特徴とす
   る特許請求の範囲第（１）項記載のマトリクス表示装置
   。
6. （６）表示媒体は液晶組成物、電気泳動表示素子、電場
   発光表示素子、エレクトロクロミック表示素子の何れか
   からなることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記
   載のマトリクス表示装置。