JPS63178105A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、エ
チレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規な
組成の光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分子重
合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、ア
ルゴンレーザー光源に対しても感応しうる感光性印刷版
の感光層等に有用な光重合性組成物に関するものである
。
チレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規な
組成の光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分子重
合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、ア
ルゴンレーザー光源に対しても感応しうる感光性印刷版
の感光層等に有用な光重合性組成物に関するものである
。
「従来の技術」
エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と光重
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法により画像の複製を行なう方法は、現在
知られるところである。すなわち、米国特許2,927
.022号、同2,902.356号あるいは同3.8
70.524号に記載されているように、この種の感光
性組成物は光照射により光重合を起こし、硬化し不溶化
することから、該感光性組成物を適当な皮膜となし、所
望の画像の陰画を通して光照射を行ない、適当な溶媒に
より未露光部のみを除去する(以下、単に現像と呼ぶ)
ことにより所望の光重合性組成物の硬化画像を形成させ
ることができる。このタイプの感光性組成物は印刷版等
を作成するために使用されるものとして極めて有用であ
ることは論をまたない。
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法により画像の複製を行なう方法は、現在
知られるところである。すなわち、米国特許2,927
.022号、同2,902.356号あるいは同3.8
70.524号に記載されているように、この種の感光
性組成物は光照射により光重合を起こし、硬化し不溶化
することから、該感光性組成物を適当な皮膜となし、所
望の画像の陰画を通して光照射を行ない、適当な溶媒に
より未露光部のみを除去する(以下、単に現像と呼ぶ)
ことにより所望の光重合性組成物の硬化画像を形成させ
ることができる。このタイプの感光性組成物は印刷版等
を作成するために使用されるものとして極めて有用であ
ることは論をまたない。
また、従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるた
めに光重合開始剤を添加することが提唱されており、か
かる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインエチルエーテル、iヒラ−ケトン、アントラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−エ
チルアントラキノン等が用いられてきた。しかしながら
、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物
の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に長
時間を要した。このため細密な画像の場合には、掻作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければ
ならないためにそれに伴なう多大な発熱め放散を考慮す
る必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変形お
よび変質も生じ易い等の問題があった。
化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるた
めに光重合開始剤を添加することが提唱されており、か
かる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインエチルエーテル、iヒラ−ケトン、アントラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−エ
チルアントラキノン等が用いられてきた。しかしながら
、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物
の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に長
時間を要した。このため細密な画像の場合には、掻作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければ
ならないためにそれに伴なう多大な発熱め放散を考慮す
る必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変形お
よび変質も生じ易い等の問題があった。
また、これらの光重合開始剤は400rv以下の紫外領
域の光源に対する光重合能力に比較し、400nm以上
の可視光線領域の光源に対する光重合能力は顕著に低い
。従って、従来の光重合開始剤を含む光重合性組成物は
、応用範囲が著しく限定されていた。
域の光源に対する光重合能力に比較し、400nm以上
の可視光線領域の光源に対する光重合能力は顕著に低い
。従って、従来の光重合開始剤を含む光重合性組成物は
、応用範囲が著しく限定されていた。
可視光線に感応する光重合系に関して従来い(つかの提
案がなされて来た。かかる提案として、米国特許第28
50445号によればある種の光還元性染料、例えば、
ローズベンガル、エオシン、エリスロシン等が効果的な
可視光感応性を有していると報告されている。また改良
技術として、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−
20189 ’)、ヘキサアリールビイミダゾールとラ
ジカル発生剤および染料の系(特公昭45−37377
) 、ヘキサアリールビイミダゾールとP−ジアルキル
アミノベンジリデンケトンの系(特開昭47−2528
、特開昭54−155292)、置換トリアジンとメロ
シアニン色素の系(特開昭54−151024)などの
提案がなされて来た。これらの技術は確かに可視光線に
対して有効ではある。しかし、未だその感光速度は充分
満足すべきものではなく、さらに改良技術が望まれてい
た。
案がなされて来た。かかる提案として、米国特許第28
50445号によればある種の光還元性染料、例えば、
ローズベンガル、エオシン、エリスロシン等が効果的な
可視光感応性を有していると報告されている。また改良
技術として、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−
20189 ’)、ヘキサアリールビイミダゾールとラ
ジカル発生剤および染料の系(特公昭45−37377
) 、ヘキサアリールビイミダゾールとP−ジアルキル
アミノベンジリデンケトンの系(特開昭47−2528
、特開昭54−155292)、置換トリアジンとメロ
シアニン色素の系(特開昭54−151024)などの
提案がなされて来た。これらの技術は確かに可視光線に
対して有効ではある。しかし、未だその感光速度は充分
満足すべきものではなく、さらに改良技術が望まれてい
た。
また、近年、紫外線に対する高感度化や、レーザーを用
いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成におけ
るUVプロジェクション露光法、レーザー直接製版、レ
ーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が既に実用の段
階にあり、これらに対応する高感度な感光材料が開発さ
れているところである。しかし未だ十分な感度を有して
いるとは言えない。
いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成におけ
るUVプロジェクション露光法、レーザー直接製版、レ
ーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が既に実用の段
階にあり、これらに対応する高感度な感光材料が開発さ
れているところである。しかし未だ十分な感度を有して
いるとは言えない。
[発明が解決しようとする問題点」
本発明は、高感度の光重合性組成物を提供することであ
る。
る。
すなわち、本発明の目的は、広り一般にエチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供することである。
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供することである。
また本発明の他の目的は、400nm以上の可視光線、
特にArレーザーの出力に対応する488nm付近の光
に対しても感度の高い光重合開始剤を含んだ光重合性組
成物を提供することにある。
特にArレーザーの出力に対応する488nm付近の光
に対しても感度の高い光重合開始剤を含んだ光重合性組
成物を提供することにある。
「問題点を解決するための手段」
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、有機過酸化物とある特定の光重合開始剤とがエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の光重合速度
を著しく増大させ、また400nm以上の可視光線に対
しても高感度を示すことを見出し、本発明に到達したも
のであるー。
果、有機過酸化物とある特定の光重合開始剤とがエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の光重合速度
を著しく増大させ、また400nm以上の可視光線に対
しても高感度を示すことを見出し、本発明に到達したも
のであるー。
すなわち、本発明は、エチレン性不飽和二重結合を少な
くとも1個有する化合物と光重合開始剤と、必要に応じ
て線状有機高分子重合体とを含む光重合性組成物におい
て、該光重合開始剤が少な(とも1種の下記一般式(1
)で表わされる2゜4.6−トリアジン化合物と (ただし式中、X、YおよびZはそれぞれアルキル基、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラル
キル基を表わし、互いに同一でも異なっても良いが、そ
れらのうちの少なくとも1つは、モノ−、ジー、又はト
リハロゲン置換メチル基を表わす。) 下記一般式(n)で表わされる化合物とを含有すること
を特徴とする光重合組成物である。
くとも1個有する化合物と光重合開始剤と、必要に応じ
て線状有機高分子重合体とを含む光重合性組成物におい
て、該光重合開始剤が少な(とも1種の下記一般式(1
)で表わされる2゜4.6−トリアジン化合物と (ただし式中、X、YおよびZはそれぞれアルキル基、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラル
キル基を表わし、互いに同一でも異なっても良いが、そ
れらのうちの少なくとも1つは、モノ−、ジー、又はト
リハロゲン置換メチル基を表わす。) 下記一般式(n)で表わされる化合物とを含有すること
を特徴とする光重合組成物である。
(ただし、式中R8〜R4は互い独立して水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基
、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコ
キシ基、アミノ基、置換アミノ基を表わす、またR、−
R,はそれが結合せる炭素原子と共に非金属原子から成
る環を形成していても良い。
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基
、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコ
キシ基、アミノ基、置換アミノ基を表わす、またR、−
R,はそれが結合せる炭素原子と共に非金属原子から成
る環を形成していても良い。
R,、R,は互いに独立して、水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘテロ
芳香族基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、置換アルケニル基を表わす。また
R2とR6は共に非金属原子から成る環を形成していて
も良い。
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘテロ
芳香族基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、置換アルケニル基を表わす。また
R2とR6は共に非金属原子から成る環を形成していて
も良い。
Xは酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有する窒素原子
を表わす。
を表わす。
G、 、G!は互いに同一でも異なっていてもよく、各
々水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、置換アリールオキジカルボニル基、アシル基、置換ア
シル基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル
基を表わす、ただしGl と02は共に水素原子ではな
い、またGl−Gxはそれが結合せる炭素原子と共に非
金属原子から成る環を形成していても良い、) 覧以下、本発明について詳細に説明する。
々水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、置換アリールオキジカルボニル基、アシル基、置換ア
シル基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル
基を表わす、ただしGl と02は共に水素原子ではな
い、またGl−Gxはそれが結合せる炭素原子と共に非
金属原子から成る環を形成していても良い、) 覧以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に使用するエチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物とは、その化学構造中に少な(とも1個のエ
チレン性不飽和結合を有する化合物である0例えばモノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸およびそ
の塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸脂肪族多価アミン化合
物とのアミド等があげられる。
能な化合物とは、その化学構造中に少な(とも1個のエ
チレン性不飽和結合を有する化合物である0例えばモノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸およびそ
の塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸脂肪族多価アミン化合
物とのアミド等があげられる。
不飽和カルボン酸のモノマーの具体例としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソク
ロトン酸、マレイン酸などがある。
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソク
ロトン酸、マレイン酸などがある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。
塩およびカリウム塩などがある。
また、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸
とのエステルの七ツマ−の具体例としては、アクリル酸
エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、1.3−ブタ
ンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコール
ジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート
、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロ
ールプロバントアクリレート、トリメチロールプロパン
トリ (アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ
メチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオール
ジアクリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート
、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールへキサアクリレート、ソルビトールトリアクリ
レート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトー
ルペンタアクリレート、ソルビトールへキサアクリレー
ト、トリ (アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレ
ート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
とのエステルの七ツマ−の具体例としては、アクリル酸
エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、1.3−ブタ
ンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコール
ジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート
、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロ
ールプロバントアクリレート、トリメチロールプロパン
トリ (アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ
メチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオール
ジアクリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート
、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールへキサアクリレート、ソルビトールトリアクリ
レート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトー
ルペンタアクリレート、ソルビトールへキサアクリレー
ト、トリ (アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレ
ート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメ
チロールエタントリメタクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、ソ
ルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメ
タクリレート、ビス−(p−(3−メタクリルオキシ−
2−ヒト9キシプロポキシ)フエ・ニル〕ジメチルメタ
ン、ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシ)フェニル
フジメチルメタン等がある。
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメ
チロールエタントリメタクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、ソ
ルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメ
タクリレート、ビス−(p−(3−メタクリルオキシ−
2−ヒト9キシプロポキシ)フエ・ニル〕ジメチルメタ
ン、ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシ)フェニル
フジメチルメタン等がある。
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールシイ
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
,3−ブタンジオールシイタコネート、1.4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
,3−ブタンジオールシイタコネート、1.4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラジクロトネート等がある。
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールシマ
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげること
ができる。
ができる。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸との
アミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1.
6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1.6−ヘ
キサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリ
アミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリル
アミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
アミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1.
6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1.6−ヘ
キサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリ
アミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリル
アミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭4B−41708号公報中
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付
加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる。
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付
加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる。
CH,=C(R)COOCHtCH(R’)OH(n)
(ただし、RおよびR′はHあるいはCH,を示す。) また、昭51−37193号各公報に記載されているよ
うな、特開昭48−64183号、特公昭49−431
91号、特公昭52−30490号各公報に、記載され
ているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(
メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類
等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげるこ
とができる。さらに、日本接着協会誌νo1.20、P
Ih7.300〜308ページに光硬化性七ツマ−及び
オリゴマーとして紹介されているものも使用することが
できる。なお、これらの使用量は、全成分に対して5〜
50重量%(以下%と略称する。)好ましくは、10〜
40%である。
(ただし、RおよびR′はHあるいはCH,を示す。) また、昭51−37193号各公報に記載されているよ
うな、特開昭48−64183号、特公昭49−431
91号、特公昭52−30490号各公報に、記載され
ているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(
メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類
等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげるこ
とができる。さらに、日本接着協会誌νo1.20、P
Ih7.300〜308ページに光硬化性七ツマ−及び
オリゴマーとして紹介されているものも使用することが
できる。なお、これらの使用量は、全成分に対して5〜
50重量%(以下%と略称する。)好ましくは、10〜
40%である。
次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤について説明する。
本発明で用いられる一般式(1)
で表わされる2、4.6−置換−1,3,5−トリアジ
ン化合物としては若株ら著「ブリティン・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサエティー・オプ・ジャパン(Bullet
in of Chemical 5ociety of
Japan)■主、2924 (1969)記載の化
合物、たとえば、2−フェニル−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−3−トリアジン、2−(4−アセチルフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3−ト
リアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−3−)、リアジン、2−(p−
トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−5−ト
リアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2− (2
’、4’−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−3−トリアジン、2,4.6−トリス(
トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−メチル−4
,6−ビス(トリクロルメチル)−8−トリアジン、2
−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3
−トリアジン、2−(α。
ン化合物としては若株ら著「ブリティン・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサエティー・オプ・ジャパン(Bullet
in of Chemical 5ociety of
Japan)■主、2924 (1969)記載の化
合物、たとえば、2−フェニル−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−3−トリアジン、2−(4−アセチルフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3−ト
リアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−3−)、リアジン、2−(p−
トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−5−ト
リアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2− (2
’、4’−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−3−トリアジン、2,4.6−トリス(
トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−メチル−4
,6−ビス(トリクロルメチル)−8−トリアジン、2
−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3
−トリアジン、2−(α。
α、β−トリクロルエチル)−4,6〜ビス(トリクロ
ルメチル)−3−トリアジン等が挙げられる。その他、
英国特許1388492号明細書記載の化合物、たとえ
ば、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)
−3−1リアジン、2− <p−メチルスチリル)−4
,6−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2
−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−3−トリアジン、2−(p−メトキシスチ
リル)−4−アミノー6−トリクロルメチルーS−トリ
アジン等、特開昭53−133428号公報記載の化合
物、たとえば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル
)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン
、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−
ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2− (4
−(2−エトキシエチル)ナフト−1−イル)−4,6
−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4
,7−ジメトキシ−ナフトー1−イル)−4゜6−ビス
(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−(アセナ
フト−5−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−
S−トリアジン等、独国特許3337024号明細書記
載の化合物、たとえばししh 等やその他 CC1゜ 等を挙げることができる。
ルメチル)−3−トリアジン等が挙げられる。その他、
英国特許1388492号明細書記載の化合物、たとえ
ば、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)
−3−1リアジン、2− <p−メチルスチリル)−4
,6−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2
−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−3−トリアジン、2−(p−メトキシスチ
リル)−4−アミノー6−トリクロルメチルーS−トリ
アジン等、特開昭53−133428号公報記載の化合
物、たとえば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル
)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン
、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−
ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2− (4
−(2−エトキシエチル)ナフト−1−イル)−4,6
−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4
,7−ジメトキシ−ナフトー1−イル)−4゜6−ビス
(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−(アセナ
フト−5−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−
S−トリアジン等、独国特許3337024号明細書記
載の化合物、たとえばししh 等やその他 CC1゜ 等を挙げることができる。
また、F、 C,5chaefer等によるJ、 Or
g、Chem、 ;1工、1527 (1964)記載
の化合物、たとえば2−メチル−4,6−ビス(トリブ
ロムメチル)−3−トリアジン、2.4.6−1−リス
(トリブロムメチル)二S−トリアジン、2.4.6−
トリス(ジブロムメチル)−3−トリアジン、2−アミ
ノ−4−メチル−6−トリブロムメチル−S−トリアジ
ン、2−メトキシ−4−メチルー6−ドリクロルメチル
ーs−トリアジン等を挙げることができる。
g、Chem、 ;1工、1527 (1964)記載
の化合物、たとえば2−メチル−4,6−ビス(トリブ
ロムメチル)−3−トリアジン、2.4.6−1−リス
(トリブロムメチル)二S−トリアジン、2.4.6−
トリス(ジブロムメチル)−3−トリアジン、2−アミ
ノ−4−メチル−6−トリブロムメチル−S−トリアジ
ン、2−メトキシ−4−メチルー6−ドリクロルメチル
ーs−トリアジン等を挙げることができる。
さらに特願昭60−198868号明細書記載の化合物
、たとえば 等を挙げることができる。
、たとえば 等を挙げることができる。
また特願昭61−186238、特願昭61−2274
89号明細書記載の化合物、たとえばである。
89号明細書記載の化合物、たとえばである。
次に一般式(II)
で表わされる光重合開始剤において、R1〜R。
のアルキル基としては、メチル、エチル、t−ブチル等
炭素数1〜20個までのものを用いることができる。ま
た、了り−ル基としては、フヱニル等炭素数1〜10個
までのものを用いることができる。さらにRI〜R4の
アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等
炭素数1〜6個までのものを用いることができる。
炭素数1〜20個までのものを用いることができる。ま
た、了り−ル基としては、フヱニル等炭素数1〜10個
までのものを用いることができる。さらにRI〜R4の
アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等
炭素数1〜6個までのものを用いることができる。
また、R1へR4の置換アミノ基としては、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ等炭素数1〜20個を有す
るアルキルアミノ基、了り−ルアミノ基を用いることが
できる。
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ等炭素数1〜20個を有す
るアルキルアミノ基、了り−ルアミノ基を用いることが
できる。
これらのアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アル
キルアミノ基、アリールアミノ基は、置換基を有してい
ても良い。
キルアミノ基、アリールアミノ基は、置換基を有してい
ても良い。
さらに置換基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲ
ン原子、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基、メトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、フェニル
等のアリール基、シ゛アノ基等がある。
ン原子、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基、メトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、フェニル
等のアリール基、シ゛アノ基等がある。
R1−R4がそれと結合せる炭素原子と共に非金属原子
から成る環を形成する場合、環を含む構造としては下記
(A)(B)(C)に示すものが挙げられる。
から成る環を形成する場合、環を含む構造としては下記
(A)(B)(C)に示すものが挙げられる。
また、Rs 、R6がアシル基の場合、アセチル、ベン
ゾイル等炭素数1〜lO個のアルキル基、アリール基を
有するもの、アルコキシカルボニル基の場合エトキシカ
ルボニル基の炭素数1〜6個のアルキル基を有するもの
があげられる。さらに、置換アルケニル基の場合、スチ
リル基環炭素数2〜lO個のものを用いることができる
。ヘテロ芳香族基の場合、下記(D)〜(F)に示すも
のを用いることができる。
ゾイル等炭素数1〜lO個のアルキル基、アリール基を
有するもの、アルコキシカルボニル基の場合エトキシカ
ルボニル基の炭素数1〜6個のアルキル基を有するもの
があげられる。さらに、置換アルケニル基の場合、スチ
リル基環炭素数2〜lO個のものを用いることができる
。ヘテロ芳香族基の場合、下記(D)〜(F)に示すも
のを用いることができる。
■
H3
飄
また、Rs、Rhは共にそれと結合せる炭素原子と共に
環を形成しても良い。例としては、下記(G)に示され
る構造が挙げられる。
環を形成しても良い。例としては、下記(G)に示され
る構造が挙げられる。
R。
Xが置換基を有する窒素の場合、置換基としてはR0〜
R4で挙げたアルキル基、了り−ル基と同等のものを用
いることができる。
R4で挙げたアルキル基、了り−ル基と同等のものを用
いることができる。
G、Gtは互いに同一でも異なっていてもよく、各々水
素原子、シアノ基、エトキシカルボニル基等の炭素数1
〜10個のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基
、フェノキシカルボニル基等炭素数6〜10個のアリー
ル基を有するアリールオキシカルボニル基、アセチル基
、プロピオニル基等炭素数1〜6個のアシル基、ベンゾ
イル基等炭素数7〜11個のアリールカルボニル基、メ
チルチオ基、エチルチオ基等炭素数1〜6個のアルキル
チオ基、フェニルチオ基等炭素数6〜10個のアリール
チオ基、フェニルスルホニル基等の炭素数6〜lO個ア
リールスルホニル基、メチルスルホニル基、エチルスル
ホニル基等の炭素数1〜6個のアルキルスルホニル基、
またはフルオロスルホニル暴を表わす。
素原子、シアノ基、エトキシカルボニル基等の炭素数1
〜10個のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基
、フェノキシカルボニル基等炭素数6〜10個のアリー
ル基を有するアリールオキシカルボニル基、アセチル基
、プロピオニル基等炭素数1〜6個のアシル基、ベンゾ
イル基等炭素数7〜11個のアリールカルボニル基、メ
チルチオ基、エチルチオ基等炭素数1〜6個のアルキル
チオ基、フェニルチオ基等炭素数6〜10個のアリール
チオ基、フェニルスルホニル基等の炭素数6〜lO個ア
リールスルホニル基、メチルスルホニル基、エチルスル
ホニル基等の炭素数1〜6個のアルキルスルホニル基、
またはフルオロスルホニル暴を表わす。
これらのアルコキシカルボニル基、了り−ルオキシカル
ボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキル
チオ基、了り−ルチオ基、アリールスルホニル基、アル
キルスルホニル基4:! il fi 基を有していて
も良い。置換基としては、塩素等のハロゲン原子、炭素
数1〜6個のアルキル基を有するアルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、炭素数6〜10個の了り−ル基、
炭素数1〜6個のアルコキシ基、シアノ基が挙げられる
。またアリールオキシカルボニル基、アリールカルボニ
ル基、アリールチオ基、了り−ルスルホニル基の場合上
記の置換基の外にメチル基等の炭素数1〜6個のアルキ
ル基も用いることができる。
ボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキル
チオ基、了り−ルチオ基、アリールスルホニル基、アル
キルスルホニル基4:! il fi 基を有していて
も良い。置換基としては、塩素等のハロゲン原子、炭素
数1〜6個のアルキル基を有するアルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、炭素数6〜10個の了り−ル基、
炭素数1〜6個のアルコキシ基、シアノ基が挙げられる
。またアリールオキシカルボニル基、アリールカルボニ
ル基、アリールチオ基、了り−ルスルホニル基の場合上
記の置換基の外にメチル基等の炭素数1〜6個のアルキ
ル基も用いることができる。
またG1と02はそれが結合せる炭素原子と共に非金属
原子から成る環を形成する場合、環としては、通常メロ
シアニン色素で酸性核として用いられるもので以下のも
のを挙げることができる。
原子から成る環を形成する場合、環としては、通常メロ
シアニン色素で酸性核として用いられるもので以下のも
のを挙げることができる。
(a)1,3−ジカルボニル核、例えば1.3−インダ
ンジオン、1.3−シクロヘキサンジオン、5.5−ジ
メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1.3−ジオ
キサン−4,6−ジオン等である。
ンジオン、1.3−シクロヘキサンジオン、5.5−ジ
メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1.3−ジオ
キサン−4,6−ジオン等である。
tb) ピラゾリノン核、例えば3−メチル−1−フ
ェニル−2−ピラゾリン−5−オン、■−フェニルー2
−ピラゾリンー5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル
)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オン等である。
ェニル−2−ピラゾリン−5−オン、■−フェニルー2
−ピラゾリンー5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル
)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オン等である。
(C1イソオキサシリノン核、例えば3−フェニル−2
−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソ
オキサゾリン−5−オン等である。
−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソ
オキサゾリン−5−オン等である。
(d) オキシインドール核、例えば1−アルキル−
2,3−ジヒドロ−2−オキシインドール等である。
2,3−ジヒドロ−2−オキシインドール等である。
(e) 2,4.6−ドリケトへキサヒドロピリミジ
ン核、例えばバルビッル酸または2−チオバルビッル酸
及びその誘導体である。かかる誘導体としては、l−メ
チル、■−エチル等の1−アルキル体、1,3−ジエチ
ル、1.3−ジブチル等の1.3−ジアルキル体、1,
3−ジフェニル、1.3−’; (p−クロロロフェニ
ル)、1.3−’; (p−エトキシカルボニルフェニ
ル)等の1,3−ジアリール体、1−エチル−3−フェ
ニル等の1−アルキル−3−了り−ル体等が挙げられる
。
ン核、例えばバルビッル酸または2−チオバルビッル酸
及びその誘導体である。かかる誘導体としては、l−メ
チル、■−エチル等の1−アルキル体、1,3−ジエチ
ル、1.3−ジブチル等の1.3−ジアルキル体、1,
3−ジフェニル、1.3−’; (p−クロロロフェニ
ル)、1.3−’; (p−エトキシカルボニルフェニ
ル)等の1,3−ジアリール体、1−エチル−3−フェ
ニル等の1−アルキル−3−了り−ル体等が挙げられる
。
(f)2−千オー2,4−チアゾリジンジオン核、例え
ばローダニン及びその誘導体である。かかる誘導体とし
ては3−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の
3−アルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の
3−アリールローダニン等が挙げられる。
ばローダニン及びその誘導体である。かかる誘導体とし
ては3−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の
3−アルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の
3−アリールローダニン等が挙げられる。
(g)2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン(2−
チオ−2,4(3H,5H)−オキサゾールジオン)核
、例えば2−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリジ
ンジオンである。
チオ−2,4(3H,5H)−オキサゾールジオン)核
、例えば2−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリジ
ンジオンである。
(hl チアナフチノン核、例えば3(2H)−チア
ナフチノンおよび3(2H)−チアナフチノン−1,1
−ジオキサイドである。
ナフチノンおよび3(2H)−チアナフチノン−1,1
−ジオキサイドである。
(1) 2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核、例
えば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオ
ンである。
えば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオ
ンである。
012.4−チアゾリジンジオン核、例えば2゜4−チ
アゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジン
ジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオンで
ある。
アゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジン
ジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオンで
ある。
(k) チアシリジオン核、例えば4−チアゾリジノ
ン、3−エチル−4−チアゾリジノンである。
ン、3−エチル−4−チアゾリジノンである。
(1)4−チアゾリジン核、例えば2−エチルメルカプ
ト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェニル
アミノ−5−チアゾリン−4−オンである。
ト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェニル
アミノ−5−チアゾリン−4−オンである。
(ff11 2−イミノ−2−オキソゾリン−4−オン
(凝ヒダントイン核)である。
(凝ヒダントイン核)である。
[n12.4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイン)
核である。
核である。
例えば、2.4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−
2,4−イミダゾリジンジオンである。
2,4−イミダゾリジンジオンである。
(0)2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2−
チオヒダントイン)核である。
チオヒダントイン)核である。
例えば2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、3−
エチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオンであ
る。
エチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオンであ
る。
(p)2−イミダシリン−5−オン核、例として2−n
−プロピル−メルカプト−2−イミダシリン−5−オン
である。
−プロピル−メルカプト−2−イミダシリン−5−オン
である。
(q) フラン−5−オンである。
本発明で用いられる前記一般式(1)で表わされる光重
合開始剤は、一般式(n)又は(I[[)で表わされる
化合物および(IV)で表わされる化合物から合成する
ことができる。
合開始剤は、一般式(n)又は(I[[)で表わされる
化合物および(IV)で表わされる化合物から合成する
ことができる。
(上式でLl、Ltはアルキル基、Z−はアニオンを表
わす。) 本発明で用いられる一般式(K)で表わされる光重合開
始剤の具体例を下記に示す。
わす。) 本発明で用いられる一般式(K)で表わされる光重合開
始剤の具体例を下記に示す。
c!Hs
H3
■
本発明の組成物中のこれらの光重合開始剤系の含有濃度
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は、有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発
明における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高
分子重合体との合計に対して0.01%から60%の範
囲で使用するのが好ましい。より好ましくは、1%から
30%の範囲での使用で良好な結果を得る。
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は、有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発
明における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高
分子重合体との合計に対して0.01%から60%の範
囲で使用するのが好ましい。より好ましくは、1%から
30%の範囲での使用で良好な結果を得る。
また、本発明の光重合性組成物では必要により、種々の
有機アミン化合物を併用することができる。
有機アミン化合物を併用することができる。
更に光重合開始能を増大せしめることができる。
これらの有機アミン化合物としては、例えば、トリエタ
ノールアミン、ジメチルアミン、ジェタノールアニリン
、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ミヒラ
ーズケトン等があげられる。
ノールアミン、ジメチルアミン、ジェタノールアニリン
、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ミヒラ
ーズケトン等があげられる。
有機アミン化合物の添加量は、全光重合開始剤量の約5
0%〜約200%程度が好ましい。
0%〜約200%程度が好ましい。
更に、本発明で用いる光重合開始剤に必要に応じてN−
フェニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、
N、N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素
供与性化合物を加えることによって更に光重合開始能力
を高めることができる。水素供与性化合物の添加量は、
全光重合開始剤量に対して約50%〜約100%が好ま
しい。
フェニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、
N、N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素
供与性化合物を加えることによって更に光重合開始能力
を高めることができる。水素供与性化合物の添加量は、
全光重合開始剤量に対して約50%〜約100%が好ま
しい。
また、本発明に使用することのできる「線状有機高分子
重合体」としては、当然光重合可能なエチレン性不飽和
化合物と相溶性を有している線状有機高分子重合体であ
る限り、どれを使用しても構わない。望ましくは、水現
像或は弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アル
カリ水可溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体を
選択すべきである。線状有機高分子重合体は、該組成物
の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水成は
有機溶剤現像剤としての用途に応じて使用される0例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。この様な線状有機高分子重合体としては、側鎖
にカルボン酸を有する付加重合体、例えば特開昭59−
44615号、特公昭54−34327号、特公昭5B
−12577号、特公昭54−25957号、特開昭5
4−92723号、特開昭59−53836号、特開昭
59−71048号各公報定記載されているようなメタ
クリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共
重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部
分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に
側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体である
。この外には、水酸基を有する付加重合体に環状酸無水
物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中
で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕
共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモ
ノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性線状有
機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレン
オキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度をあげ
るためにアルコール可溶性ナイロンや2.2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエビクロロヒド
リンのポリエーテル等も有用である。これらの線状有機
高分子重合体は、全組成中に任意な量を混和させること
ができる。しかし、90重量%を越える場合は、形成さ
れる画像強度等の点で好ましい結果を与えない、好まし
くは約30〜約85%である。また光重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、重量比で
0、5 / 9.5〜515の範囲とするのが好ましい
。
重合体」としては、当然光重合可能なエチレン性不飽和
化合物と相溶性を有している線状有機高分子重合体であ
る限り、どれを使用しても構わない。望ましくは、水現
像或は弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アル
カリ水可溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体を
選択すべきである。線状有機高分子重合体は、該組成物
の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水成は
有機溶剤現像剤としての用途に応じて使用される0例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。この様な線状有機高分子重合体としては、側鎖
にカルボン酸を有する付加重合体、例えば特開昭59−
44615号、特公昭54−34327号、特公昭5B
−12577号、特公昭54−25957号、特開昭5
4−92723号、特開昭59−53836号、特開昭
59−71048号各公報定記載されているようなメタ
クリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共
重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部
分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に
側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体である
。この外には、水酸基を有する付加重合体に環状酸無水
物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中
で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕
共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモ
ノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性線状有
機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレン
オキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度をあげ
るためにアルコール可溶性ナイロンや2.2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエビクロロヒド
リンのポリエーテル等も有用である。これらの線状有機
高分子重合体は、全組成中に任意な量を混和させること
ができる。しかし、90重量%を越える場合は、形成さ
れる画像強度等の点で好ましい結果を与えない、好まし
くは約30〜約85%である。また光重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、重量比で
0、5 / 9.5〜515の範囲とするのが好ましい
。
より好ましくは1/9〜4/6の範囲である。
更に、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい、適当な熱重
合防止剤としては、ハイドロキノン、P−メトキシフェ
ノール、ジ−t−7’チル−P−クレゾール、ピロガロ
ール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4’
−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、2.2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール、
N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム等
があげられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物に対
して約0.01%〜1%〜約5ましい。また、必要に応
じて酸素による重合阻害を防止するために高級脂肪酸誘
導体等を添加して表面に浮かせてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物に対して約0.5%〜約10
%が好ましい。さらに、感光層の着色を目的として染料
もしくは顔料を添加してもよい。染料および顔料の添加
量は、全組成物に対して約0.5%〜約5%が好ましい
。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他の公知の添加剤を加えてもよい。
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい、適当な熱重
合防止剤としては、ハイドロキノン、P−メトキシフェ
ノール、ジ−t−7’チル−P−クレゾール、ピロガロ
ール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4’
−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、2.2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール、
N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム等
があげられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物に対
して約0.01%〜1%〜約5ましい。また、必要に応
じて酸素による重合阻害を防止するために高級脂肪酸誘
導体等を添加して表面に浮かせてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物に対して約0.5%〜約10
%が好ましい。さらに、感光層の着色を目的として染料
もしくは顔料を添加してもよい。染料および顔料の添加
量は、全組成物に対して約0.5%〜約5%が好ましい
。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他の公知の添加剤を加えてもよい。
本発明の光重合性組成物は、塗布する際には種々の有機
溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
、3−メトキシプロパツール、メトキシメトキシエタノ
ール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N、N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−
ブチロラクトンなどがある。これらの溶媒は、単独ある
いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液
中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
、3−メトキシプロパツール、メトキシメトキシエタノ
ール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N、N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−
ブチロラクトンなどがある。これらの溶媒は、単独ある
いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液
中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
その被覆量は乾燥後の重量で0.1g/rrr〜10g
/rrrの範囲が適当であり、より好ましくは0.5〜
5 g / rdである。
/rrrの範囲が適当であり、より好ましくは0.5〜
5 g / rdである。
上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなと)がラミネートされた紙、また、例えば、アルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などの
ような金属の板、さらに、例えば、二酢酸セルロース、
三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セル
ロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタ
ールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き
金属がラミネートもしくは蒸着された祇もしくはプラス
チックフィルムなどがあげられる。これらの支持体のう
ち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しか
も安価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−1
8327号公報に記載されているようなポリエチレンテ
レフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合さ
れた複合体シートも好ましい。
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなと)がラミネートされた紙、また、例えば、アルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などの
ような金属の板、さらに、例えば、二酢酸セルロース、
三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セル
ロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタ
ールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き
金属がラミネートもしくは蒸着された祇もしくはプラス
チックフィルムなどがあげられる。これらの支持体のう
ち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しか
も安価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−1
8327号公報に記載されているようなポリエチレンテ
レフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合さ
れた複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸
漬処理されたアルミニウム板、特公昭47−5125号
公報に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化
処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処
理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、
例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若し
くは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩
の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせ
た電解駅中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこ
とにより実施される。
漬処理されたアルミニウム板、特公昭47−5125号
公報に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化
処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処
理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、
例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若し
くは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩
の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせ
た電解駅中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこ
とにより実施される。
また、米国特許第3,658,662号公報に記載され
ているようなシリケート電着も有効である。
ているようなシリケート電着も有効である。
更に、特公昭46−27481号公報、特開昭52−5
8602号公報、特開昭52−30503号公報に開示
されているような電解ダレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。
8602号公報、特開昭52−30503号公報に開示
されているような電解ダレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。
また、特開昭56−28893号公報に開示されている
ような機械的粗面化、化学エッチ、電解ダレイン、陽極
酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適
である。
ような機械的粗面化、化学エッチ、電解ダレイン、陽極
酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適
である。
更にこれらの処理を行った後ち、水溶性の樹脂、たとえ
ばポリビニルフォスホン酸、スルボン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属
塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等
を下塗りしたものも好適である。
ばポリビニルフォスホン酸、スルボン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属
塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等
を下塗りしたものも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
環のために施されるものである。
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
環のために施されるものである。
支持体上に設けられた光重合性組成物の層の上には、空
気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例えば
ポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのような
酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けても
よい。この様な保護層の塗布方法については、例えば米
国特許第3.458.311号、特公昭55−4972
9号公報に詳しく記載されている。
気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例えば
ポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのような
酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けても
よい。この様な保護層の塗布方法については、例えば米
国特許第3.458.311号、特公昭55−4972
9号公報に詳しく記載されている。
また本発明の光重合性組成物は通常の光重合反応に使用
できるほか、印刷版、プリント基板等作成の際のフォト
レジスト等多方面に適用することが可能である。特に本
発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視光領
域までの幅広い分光感度特性により、Ar”レーザー等
の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好な効果
が得られる。
できるほか、印刷版、プリント基板等作成の際のフォト
レジスト等多方面に適用することが可能である。特に本
発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視光領
域までの幅広い分光感度特性により、Ar”レーザー等
の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好な効果
が得られる。
本発明の光重合性組成物を用いた印刷版を露光し、現像
液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。これらの
光重合性組成物を平版印刷版として使用する際の好まし
い現像液としては、特公昭57−7427号公報に記載
されているような現像液があげられ、ケイ酸ナトリウム
、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸アン
モニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、
アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノ
ールアミン又はジェタノールアミンなどのような有機ア
ルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が0.1
〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるよう
に添加される。
液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。これらの
光重合性組成物を平版印刷版として使用する際の好まし
い現像液としては、特公昭57−7427号公報に記載
されているような現像液があげられ、ケイ酸ナトリウム
、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸アン
モニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、
アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノ
ールアミン又はジェタノールアミンなどのような有機ア
ルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が0.1
〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるよう
に添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やベンジルアルコール、2=フエノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量含むアル
カリ水溶液であり、例えば米国特許第3,475.17
1号および同3,615,480号公報に記載されてい
るものを挙げることができる。
やベンジルアルコール、2=フエノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量含むアル
カリ水溶液であり、例えば米国特許第3,475.17
1号および同3,615,480号公報に記載されてい
るものを挙げることができる。
更に、特開昭50−26601号、同58−54341
号、特公昭56−39464号、同56−42860号
の各公報に記載されている現像液も優れている。
号、特公昭56−39464号、同56−42860号
の各公報に記載されている現像液も優れている。
「発明の効果」
本発明の光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領
域の活性光線に対して高い感度を有する。
域の活性光線に対して高い感度を有する。
したがって光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーラ
ンプ、螢光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用で
きる。
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーラ
ンプ、螢光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用で
きる。
以下実施例をもって本発明を説明するが本発明はこれに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
実施例1〜6
厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと
400メツシユのパミストンの水懸濁液とを用いその表
面を砂目室てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化
ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗
した。これをvA= 12.7 Vの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クロー
ン/di”の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。
400メツシユのパミストンの水懸濁液とを用いその表
面を砂目室てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化
ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗
した。これをvA= 12.7 Vの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クロー
ン/di”の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。
その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)
であった。ひきつづいて30%のH2SO,水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20%H2S
Oa水溶液中、電流密度2A/dm”において厚さが
2.7 g / rdになるように2分間陽極酸化処理
した。
であった。ひきつづいて30%のH2SO,水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20%H2S
Oa水溶液中、電流密度2A/dm”において厚さが
2.7 g / rdになるように2分間陽極酸化処理
した。
このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成の
感光液を乾燥塗布重量が1.5g/mとなるように塗布
し、乾燥させ感光層を形成させた。
感光液を乾燥塗布重量が1.5g/mとなるように塗布
し、乾燥させ感光層を形成させた。
開始剤 Xg銅フタロ
シアニン顔料 0.2gメチルエチル
ケトン 20gこの感光性層上にポ
リビニルアルコール(ケン化度86.5〜89モル%、
重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が
2g/rdとなるように塗布し、100℃/2分間乾燥
させた。
シアニン顔料 0.2gメチルエチル
ケトン 20gこの感光性層上にポ
リビニルアルコール(ケン化度86.5〜89モル%、
重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が
2g/rdとなるように塗布し、100℃/2分間乾燥
させた。
可視光での感光性試験は、可視光(波長=488nm)
、及び静°レーザー光(波長=488nm)の各単色
光を用いた。可視光の488nmの単色光はタングステ
ンランプを光源としにenko opticalfil
ter BP49を通して得た。感度測定には富士ps
ステップガイド(富士写真フィルム株式会社製、初段の
透過光学濃度が0.05で順次0.15増えていき15
段まであるステップタブレット)を使用して行った。画
像部での照度が25LUXで120秒露光し、現像した
ときのPSステップガイドのクリア一段数を表1に示し
た。
、及び静°レーザー光(波長=488nm)の各単色
光を用いた。可視光の488nmの単色光はタングステ
ンランプを光源としにenko opticalfil
ter BP49を通して得た。感度測定には富士ps
ステップガイド(富士写真フィルム株式会社製、初段の
透過光学濃度が0.05で順次0.15増えていき15
段まであるステップタブレット)を使用して行った。画
像部での照度が25LUXで120秒露光し、現像した
ときのPSステップガイドのクリア一段数を表1に示し
た。
レーザー光はAr0 レーザー(レフエル(LEXI!
L)製モデル95−3)の波長488rvのシングルラ
インをビーム径100μで使用し、Arレーザーの強度
を変え、スキャンした。(NDフィルター使用。)現像
後に、得られた線巾を測定し100μの線11が再現さ
れた時のArレーザーの強度を感度とし、表1に示した
。
L)製モデル95−3)の波長488rvのシングルラ
インをビーム径100μで使用し、Arレーザーの強度
を変え、スキャンした。(NDフィルター使用。)現像
後に、得られた線巾を測定し100μの線11が再現さ
れた時のArレーザーの強度を感度とし、表1に示した
。
現像には下記の現像液に25℃、1分間浸漬して行った
。
。
光重合開始剤の組み合わせを変えた時の感度の結果を表
1に示す。
1に示す。
表1で明らかなように実施例1〜6は比較例1〜9に対
して非常に高い感度を有している。
して非常に高い感度を有している。
実施例7〜9
実施例1のアルミニウム基板の作製において20%II
zSOa水溶液中で陽極酸化処理する代りに5%りん酸
水溶液中で電流密度2 A / d triにおいて厚
さが0.8 g / mになるように2分間陽極酸化処
理した後、3%のケイ酸ナトリウム水溶液で70℃、1
0秒間処理した基板を用いて、次の感光液処方に従った
感光板を作製した。
zSOa水溶液中で陽極酸化処理する代りに5%りん酸
水溶液中で電流密度2 A / d triにおいて厚
さが0.8 g / mになるように2分間陽極酸化処
理した後、3%のケイ酸ナトリウム水溶液で70℃、1
0秒間処理した基板を用いて、次の感光液処方に従った
感光板を作製した。
開始剤 Xg銅フタロシア
ニン顔料 0.’2 gメチルエチルケ
トン 20 gこの感光板の乾燥塗布
重量は1.5g/%であった。そして実施例1と同様に
この感光板上にポリビニルアルコールからなる酸素遮断
層を設け、実施例1と同様に露光し現像は特公昭56−
42860号公報記載の現像液 で25℃、1分間浸漬して未露光部を除去することによ
って行った。
ニン顔料 0.’2 gメチルエチルケ
トン 20 gこの感光板の乾燥塗布
重量は1.5g/%であった。そして実施例1と同様に
この感光板上にポリビニルアルコールからなる酸素遮断
層を設け、実施例1と同様に露光し現像は特公昭56−
42860号公報記載の現像液 で25℃、1分間浸漬して未露光部を除去することによ
って行った。
開始剤系の組み合わせを変えた時の感度の結果を表2に
示す。
示す。
表2で明らかなように実施例7〜9は比較例1O〜15
に対して非常に高い感度を有している。
に対して非常に高い感度を有している。
手続補正書
3、補正をする者
事件との関係 出願人
名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
7、補正の内容 〔1)明細書中、下記の誤記をそれぞれ次の如く訂正す
る。
理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
7、補正の内容 〔1)明細書中、下記の誤記をそれぞれ次の如く訂正す
る。
(2)明細書第35頁の式“(III)”を以下の如く
訂正する。
訂正する。
[
(3)同書36頁の式“(3)”を以下の如く訂正する
。
。
「
」
(4)同書第37頁の式“(5)”を以下の如く訂正す
る。
る。
[
Claims (2)
- (1)エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有す
る付加重合可能な化合物と光重合開始剤とを含む光重合
性組成物において、該光重合開始剤が少なくとも1種の
下記一般式( I )で表わされる2,4,6−置換−1
,3,5−トリアジン化合物と ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、式中、X、YおよびZはそれぞれアルキル基
、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラ
ルキル基をあらわし、互いに同一でも異なってもよいが
、それらのうちの少なくとも1つはモノ−、ジ−又はト
リハロゲン置換メチル基を表わす。) 下記一般式(II)で表わされる化合物とを含有すること
を特徴とする光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (ただし、式中R_1〜R_4は互い独立して水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換ア
ルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表わす。またR
_1〜R_4はそれが結合せる炭素原子と共に非金属原
子から成る環を形成していても良い。 R_5、R_6は互いに独立して、水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘ
テロ芳香族基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルボキシル基、置換アルケニル基を表わす。 またR_5とR_6は共に非金属原子から成る環を形成
していても良い。 XはO、S、NH、又は置換基を有する窒 素原子を表わす。 G_1、G_2は互いに同一でも異っていてもよく、各
々水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、置換アリールオキシカルボニル基、アシル基、置換ア
シル基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル
基を表わす。ただしG_1とG_2は共に水素原子では
ない。またG_1、G_2はそれが結合せる炭素原子と
共に非金属原子から成る環を形成していても良い。) - (2)更に線状有機高分子重合体を含む特許請求の範囲
第(1)項記載の光重合性組成物。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62007671A JPH0699496B2 (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 光重合性組成物 |
| US07/142,185 US4810618A (en) | 1987-01-16 | 1988-01-11 | Photopolymerizable composition |
| DE3801065A DE3801065A1 (de) | 1987-01-16 | 1988-01-15 | Photopolymerisierbare zusammensetzung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62007671A JPH0699496B2 (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63178105A true JPS63178105A (ja) | 1988-07-22 |
| JPH0699496B2 JPH0699496B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=11672263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62007671A Expired - Fee Related JPH0699496B2 (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 光重合性組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4810618A (ja) |
| JP (1) | JPH0699496B2 (ja) |
| DE (1) | DE3801065A1 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0695971A1 (en) | 1994-08-03 | 1996-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
| US6030748A (en) * | 1996-04-01 | 2000-02-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate having a layer of a hydrolyzed and polycondensed organometallic compound |
| US7014984B2 (en) | 2004-02-05 | 2006-03-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable lithographic printing plate precursor |
| EP2042532A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound |
| WO2009119610A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2128704A2 (en) | 2008-05-29 | 2009-12-02 | Fujifilm Corporation | Processing Liquid for Lithographic Printing Plate Development and Method of Producing Lithographic Printing Plates |
| EP2131239A1 (en) | 2008-05-29 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates |
| EP2157478A2 (en) | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Method of producing lithographic printing plate |
| WO2010021364A1 (ja) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2159640A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| EP3182204A1 (en) | 2004-09-10 | 2017-06-21 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition |
| JPWO2016035896A1 (ja) * | 2014-09-05 | 2017-06-29 | 日産化学工業株式会社 | 光硬化性無電解めっき下地剤 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3710281A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| US5034156A (en) * | 1988-04-18 | 1991-07-23 | Mallinckrodt Specialty Chemicals Company | Method for inhibiting the polymerization of acrylic acid |
| JPH0820734B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
| DE3830914A1 (de) * | 1988-09-10 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von kopien |
| US4971892A (en) * | 1988-11-23 | 1990-11-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High sensitivity photopolymerizable composition |
| US6010824A (en) * | 1992-11-10 | 2000-01-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same |
| US6787286B2 (en) * | 2001-03-08 | 2004-09-07 | Shipley Company, L.L.C. | Solvents and photoresist compositions for short wavelength imaging |
| DE10307451A1 (de) * | 2003-02-21 | 2004-09-16 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente |
| KR101222947B1 (ko) | 2005-06-30 | 2013-01-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 인쇄용 용제, 및 그를 이용한 인쇄용 패턴 조성물 및 패턴 형성방법 |
| US20080008957A1 (en) * | 2006-06-27 | 2008-01-10 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable elements |
| JP6687907B2 (ja) * | 2014-09-05 | 2020-04-28 | 日産化学株式会社 | 感光性無電解めっき下地剤 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2850445A (en) * | 1955-01-19 | 1958-09-02 | Oster Gerald | Photopolymerization |
| US2902356A (en) * | 1956-05-16 | 1959-09-01 | Du Pont | Certain 2-phenylimino, 3-alkyl oxazolidines, compositions and methods of use as herbicides |
| NL218803A (ja) * | 1956-07-09 | |||
| JPS4420189B1 (ja) * | 1965-06-03 | 1969-08-30 | ||
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| JPS5148516B2 (ja) * | 1973-02-07 | 1976-12-21 | ||
| US4147552A (en) * | 1976-05-21 | 1979-04-03 | Eastman Kodak Company | Light-sensitive compositions with 3-substituted coumarin compounds as spectral sensitizers |
| JPS5415521A (en) * | 1977-06-06 | 1979-02-05 | Hitachi Ltd | Liquid feeding device |
| JPS5928328B2 (ja) * | 1977-11-29 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPS5495687A (en) * | 1978-01-11 | 1979-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
| JPS54151024A (en) * | 1978-05-18 | 1979-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
| JPS6053300B2 (ja) * | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| US4289844A (en) * | 1979-06-18 | 1981-09-15 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
| US4366228A (en) * | 1980-09-05 | 1982-12-28 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
-
1987
- 1987-01-16 JP JP62007671A patent/JPH0699496B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-01-11 US US07/142,185 patent/US4810618A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-15 DE DE3801065A patent/DE3801065A1/de active Granted
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0695971A1 (en) | 1994-08-03 | 1996-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
| US6030748A (en) * | 1996-04-01 | 2000-02-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate having a layer of a hydrolyzed and polycondensed organometallic compound |
| US7014984B2 (en) | 2004-02-05 | 2006-03-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable lithographic printing plate precursor |
| EP3182204A1 (en) | 2004-09-10 | 2017-06-21 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition |
| EP2042532A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound |
| WO2009119610A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2128704A2 (en) | 2008-05-29 | 2009-12-02 | Fujifilm Corporation | Processing Liquid for Lithographic Printing Plate Development and Method of Producing Lithographic Printing Plates |
| EP2131239A1 (en) | 2008-05-29 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates |
| EP2157478A2 (en) | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Method of producing lithographic printing plate |
| WO2010021364A1 (ja) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2159640A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| JPWO2016035896A1 (ja) * | 2014-09-05 | 2017-06-29 | 日産化学工業株式会社 | 光硬化性無電解めっき下地剤 |
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