JP3146596B2 - 3−ヒドロキシメチル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオンの製造法 - Google Patents
3−ヒドロキシメチル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオンの製造法Info
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Description
して有用な3−ヒドロキシメチル−1−プロパルギルイ
ミダゾリジン−2,4−ジオンの製造法に関するもので
ある。
ヒドロキシメチル−1−プロパルギルイミダゾリジン−
2,4−ジオンは、米国特許第4176189号明細書
に記載される殺虫剤の有効成分化合物を製造する上で、
有用な製造中間体であることが知られており、有利な製
造法の開発が望まれていた。
キシメチル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4
−ジオンの製造法について種々検討した結果、一般式
化4
アラルキル基を表す。〕で示される化合物と、一般式
化5
塩基の存在下に反応させて、一般式 化6
プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオン誘導体を
得、これを加水分解することにより、3−ヒドロキシメ
チル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオ
ンが容易に得られることを見出し、本発明を完成した。
ル基やエチル基等の低級アルキル基、メトキシエチル基
やエトキシエチル基等の低級アルコキシ低級アルキル
基、またはベンジル基等の、フェニル基で置換された低
級アルキル基が挙げられる。また、一般式 化5で示さ
れる化合物において、Xの脱離基としては例えば塩素原
子、臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子、メタンスル
ホナート、パラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホ
ナート等のスルホナートが挙げられる。
化合物と一般式 化5で示される化合物とを反応させる
際に用いられる塩基としては、例えば、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩
が挙げられる。一般式 化4で示される化合物と一般式
化5で示される化合物との反応は、通常溶媒中で行わ
れ、使用される溶媒としてはメチルイソブチルケトン、
アセトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化アルキル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。該反応は、一般に−10〜
50℃の範囲内の温度で1〜24時間かけて行われ、用
いられる試剤の量比は、一般式 化4で示される化合物
1当量に対して一般式 化5で示される化合物が1〜5
当量、塩基が1〜2当量の割合である。反応終了後は、
例えば反応混合物に水を加えて有機溶媒で抽出し、該溶
媒を減圧下に除去するなどの通常の後処理を行うことに
より、一般式 化6で示される1−プロパルギルイミダ
ゾリジン−2,4−ジオン誘導体を得ることができる。
該反応は、相間移動触媒等の反応助剤の存在下に行うの
が好ましく、その使用量は一般式 化4で示される化合
物1当量に対して該反応助剤が0.001〜0.2当量
の割合である。用いられる反応助剤としてはトリス〔2
−(2−メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリス
(3,6−ジオキサヘプチル)アミン、トリス(3,6
−ジオキサオクチル)アミン等の第三級アミン類、テト
ラ−n−ブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド、テトラ−n−ブチルアンモ
ニウムスルフェート等の第四級アンモニウム塩類、18
−クラウン−6、ジシクロヘキサノ−18−クラウン−
6等のクラウンエーテル類、ポリエチレングリコール4
00、ポリエチレングリコール1540等のポリエチレ
ングリコールなどの相間移動触媒などが挙げられ、これ
らを一種単独でまたは二種以上を混合して使用すること
ができる。
パルギルイミダゾリジン−2,4−ジオン誘導体は、粗
製物のままで、またはクロマトグラフィー処理等を行っ
た後、加水分解反応を行うことにより3−ヒドロキシメ
チル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオ
ンに導かれる。該加水分解反応は通常、一般式 化6で
示される1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジ
オン誘導体を塩酸、硫酸等の酸性水中で20〜100℃
の範囲内の温度で5分間〜24時間処理することにより
行われる。加水分解反応終了後は、例えば溶媒を減圧下
に除去する、または水を加えて有機溶媒抽出するなどの
通常の後処理を行うことにより、3−ヒドロキシメチル
−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオンを
得ることができる。また、必要によりクロマトグラフィ
ー等で処理してもよい。
示される化合物は、例えば、入手容易な原料化合物であ
るイミダゾリジン−2,4−ジオンと一般式 化7
アラルキル基を表す。Yは脱離基を表す。〕で示される
化合物とを塩基の存在下に反応させることにより製造す
ることができる。一般式 化7で示される化合物におい
て、Yの脱離基としては例えば塩素原子、臭素原子、沃
素原子等のハロゲン原子、メタンスルホナート、パラト
ルエンスルホナート、ベンゼンスルホナート等のスルホ
ナートが挙げられる。また、該反応において用いられる
塩基としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩が挙げられる。イ
ミダゾリジン−2,4−ジオンと一般式 化7で示され
る化合物との反応は、通常溶媒中で行われ、使用される
溶媒としてはメチルイソブチルケトン、アセトン等のケ
トン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチ
レン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなど
が挙げられる。反応温度は一般に−10〜50℃の範囲
内であり、反応時間は一般に1〜24時間である。用い
られる試剤の量比は、イミダゾリジン−2,4−ジオン
1当量に対して一般式 化7で示される化合物が0.3
〜3当量、塩基が0.3〜3当量の割合である。反応終
了後は、例えば反応混合物に水を加えて有機溶媒で抽出
し、該溶媒を減圧下に除去するなどの通常の後処理を行
うことにより、一般式 化4で示される化合物を得るこ
とができる。該反応は、相間移動触媒等の反応助剤の存
在下に行うのが好ましく、その使用量はイミダゾリジン
−2,4−ジオン1当量に対して該反応助剤が0.00
1〜0.2当量の割合である。用いられる反応助剤とし
ては、上述の一般式 化4で示される化合物と一般式
化5で示される化合物とを反応させる際に用いられる反
応助剤と同じものを挙げることができる。
するが、本発明は以下の例のみに限定されるものではな
い。 実施例1−1 3−ベンジルオキシメチルイミダゾリジン−2,4−ジ
オン 500mgとテトラブチルアンモニウムブロミド 37mg
とをメチルイソブチルケトン 8ml中に溶解し、これに水
酸化ナトリウム 114mgを室温攪拌下に加えた。次いで、
プロパルギルメシラート 610mgを室温攪拌下に滴下した
後、さらに7時間室温で攪拌した。反応混合物に水を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、さらに飽和食
塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧下に留去した後、シリカゲルクロマトグラフィ
ー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で処理
し、3−ベンジルオキシメチル−1−プロパルギルイミ
ダゾリジン−2,4−ジオン 461mgを得た。 収率 79%1 H−NMR δ (CDCl3 ) 2.35(1H,t,J=2Hz) 3.90(2H,
s) 4.20(2H,d,J=2Hz)4.65(2H,s) 5.05(2H,s) 7.20-7.45
(5H,m) 実施例1−2 3−ベンジルオキシメチル−1−プロパルギルイミダゾ
リジン−2,4−ジオン 0.55gに濃塩酸25mlを加え、60
℃で1時間攪拌した。濃塩酸を減圧下に留去した後、シ
リカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:2
−プロパノール=3:1)で処理し、3−ヒドロキシメ
チル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオ
ン 0.20gを得た。 収率 56%1 H−NMR δ (CDCl3 ) 2.35(1H,t,J=2Hz) 4.05(2H,
s) 4.25(2H,d,J=2Hz)5.05(2H,s) 5.30(1H,s,-OH)
化4で示される化合物の製造例を参考例として示す。 参考例1 水酸化カリウム 216mgとトリス〔2−(2−メトキシエ
トキシ)エチル〕アミン 73mg とをメチルイソブチルケ
トン 5mlに懸濁させ、これにイミダゾリジン−2,4−
ジオン900mg を加え、室温で10分間攪拌した。次いで、
ベンジルオキシメチルクロリド 704mgを0℃で滴下し、
室温で3時間攪拌した後反応混合物に水を加え、有機層
を分取し水洗、さらに飽和食塩水で洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去した後、
シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:
酢酸エチル=1:1)で処理し、3−ベンジルオキシメ
チルイミダゾリジン−2,4−ジオン 687mgを得た。 収率 70% (ベンジルオキシメチルクロリドを基準
として)1 H−NMR δ (CDCl3 ) 3.90(2H,s) 4.60(2H,s) 5.0
5(2H,s)6.00-6.20(1H,brs,-NH) 7.20-7.45(5H,m) 参考例2 参考例1において、トリス〔2−(2−メトキシエトキ
シ)エチル〕アミン 73mg にかえてテトラブチルアンモ
ニウムスルフェート 73mg を用いた以外は、全て参考例
1と同様の操作を行い、3−ベンジルオキシメチルイミ
ダゾリジン−2,4−ジオン 612mgを得た。 収率 62% (ベンジルオキシメチルクロリドを基準
として) 参考例3 参考例1において、トリス〔2−(2−メトキシエトキ
シ)エチル〕アミン 73mg にかえてテトラブチルアンモ
ニウムブロミド 73mg を用いた以外は、全て参考例1と
同様の操作を行い、3−ベンジルオキシメチルイミダゾ
リジン−2,4−ジオン 556mgを得た。 収率 56% (ベンジルオキシメチルクロリドを基準
として) 参考例4 参考例1において、トリス〔2−(2−メトキシエトキ
シ)エチル〕アミン 73mg にかえてポリエチレングリコ
ール1540を346mg 用いた以外は、全て参考例1と同様の
操作を行い、3−ベンジルオキシメチルイミダゾリジン
−2,4−ジオン 562mgを得た。 収率 57% (ベンジルオキシメチルクロリドを基準
として)
化合物を製造するための有用な中間体である3−ヒドロ
キシメチル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4
−ジオンが容易に製造できる。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 化1 【化1】 〔式中、Rはアルキル基、アルコキシアルキル基または
アラルキル基を表す。〕で示される化合物と、一般式
化2 【化2】CH≡C−CH2 −X 〔式中、Xは脱離基を表す。〕で示される化合物とを、
塩基の存在下に反応させて、一般式 化3 【化3】 〔式中、Rは上述と同じ意味を表す。〕で示される1−
プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオン誘導体を
得、これを加水分解することにより、3−ヒドロキシメ
チル−1−プロパルギルイミダゾリジン−2,4−ジオ
ンを製造する方法。
Priority Applications (7)
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|---|---|---|---|
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| KR1019930003501A KR100264067B1 (ko) | 1992-03-10 | 1993-03-09 | 3-히드록시메틸-1-프로파르길이미다졸리딘-2,4-디온의 제조방법 |
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