JPS63190724A - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
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- JPS63190724A JPS63190724A JP2280487A JP2280487A JPS63190724A JP S63190724 A JPS63190724 A JP S63190724A JP 2280487 A JP2280487 A JP 2280487A JP 2280487 A JP2280487 A JP 2280487A JP S63190724 A JPS63190724 A JP S63190724A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ゾル−ゲル法によるガラスの製造方法に関す
る。
る。
従来のゾル−ゲル法によるガラスの製造においては、金
属アルコキシドあるいは、金属アルコキシドおよび金1
i[化物の微粒子を主原料として目的ガラス成分組成の
液状ゾルを調整する際、途中で中断し保存する場合、あ
るいは、調整したゾルを保存する場合、温度管理のみ行
なっていた。
属アルコキシドあるいは、金属アルコキシドおよび金1
i[化物の微粒子を主原料として目的ガラス成分組成の
液状ゾルを調整する際、途中で中断し保存する場合、あ
るいは、調整したゾルを保存する場合、温度管理のみ行
なっていた。
しかし、前述の従来技術では、該ゾル保存後、粒子の凝
集、反応の進行などにより粘性が上昇し安定性が失なわ
れ、円滑に次工程に移行することが困難であるという問
題点を仔する。
集、反応の進行などにより粘性が上昇し安定性が失なわ
れ、円滑に次工程に移行することが困難であるという問
題点を仔する。
そこで、本発明の目的は、液状ゾルの安定性を長時間維
持し、工程の移行を円滑化し、スケールアップを容易に
するゾル−ゲル法によるガラスの製造方法を提供すると
ころにある。
持し、工程の移行を円滑化し、スケールアップを容易に
するゾル−ゲル法によるガラスの製造方法を提供すると
ころにある。
本発明のゾル−ゲル法によるガラスの製造方法は、金属
アルコキシドあるいは、金属アルコキシドおよび金@醋
化物の微粒子を主原料として、目的ガラス成分組成の液
状ゾルを調整し、該液状ゾルを所望形状の密閉容器中に
てゲル化させウェットゲルを作製した後、該ウェットゲ
ルを乾燥、焼結するガラスの製造において、目的ガラス
組成の液状ゾルを調整する工程中、処理途中の該液状ゾ
ルを保存する場合、該液状ゾルのP II値を調整した
後、保存することを特徴とする。
アルコキシドあるいは、金属アルコキシドおよび金@醋
化物の微粒子を主原料として、目的ガラス成分組成の液
状ゾルを調整し、該液状ゾルを所望形状の密閉容器中に
てゲル化させウェットゲルを作製した後、該ウェットゲ
ルを乾燥、焼結するガラスの製造において、目的ガラス
組成の液状ゾルを調整する工程中、処理途中の該液状ゾ
ルを保存する場合、該液状ゾルのP II値を調整した
後、保存することを特徴とする。
本発明の方法によれば、液状ゾルのall(nを適当な
値に調整することで、微粒子の分散性において長時間凝
集などの生じない安定な伏通を維持することが可能であ
り、また金属アルコキシドのm合反応の進行を抑制する
効果もあるため、該液状ゾルを保存した後も、保存前の
安定な伏歯を維持し、次工程への移行が円滑化されると
共に、処理量のスケールアップが容易になるものである
。
値に調整することで、微粒子の分散性において長時間凝
集などの生じない安定な伏通を維持することが可能であ
り、また金属アルコキシドのm合反応の進行を抑制する
効果もあるため、該液状ゾルを保存した後も、保存前の
安定な伏歯を維持し、次工程への移行が円滑化されると
共に、処理量のスケールアップが容易になるものである
。
〔実施例〕
市販のエチルシリケー) (Si (OEL)、)13
2/、O,0IN11夏C/ 108/、および超微
粒子シリカ(商品名:アエロジル0×50(デグサ社)
45kgを混合、撹拌し、エチルシリケートの加水分解
反応を行なうと共に超微粒子シリカなじませ、ある程度
の分散伏因にした。この後、更に分散性を向上させるた
め、該ゾルに、超音波照射(撹拌併用)を3〜5時間行
なった。なお、この際、超音波照射による該当ゾルm度
の上昇を防ぐため、冷却装置により該ゾル温度を一定に
保持した。
2/、O,0IN11夏C/ 108/、および超微
粒子シリカ(商品名:アエロジル0×50(デグサ社)
45kgを混合、撹拌し、エチルシリケートの加水分解
反応を行なうと共に超微粒子シリカなじませ、ある程度
の分散伏因にした。この後、更に分散性を向上させるた
め、該ゾルに、超音波照射(撹拌併用)を3〜5時間行
なった。なお、この際、超音波照射による該当ゾルm度
の上昇を防ぐため、冷却装置により該ゾル温度を一定に
保持した。
次工程として、該ゾル中の半ゲル化ゼリーV物や不純物
含有粗大粒子およびゴミなどを除去するため該ゾルに対
し遠心分離処理(3,00Orpm、15m1n)を加
えた。更に該ゾルを濾過し、250/程度のゾルを調整
した。この時点における該当ゾル中のシリカ粒子の平均
粒子径は0.12μmであり、粘度は1Ocpであった
。
含有粗大粒子およびゴミなどを除去するため該ゾルに対
し遠心分離処理(3,00Orpm、15m1n)を加
えた。更に該ゾルを濾過し、250/程度のゾルを調整
した。この時点における該当ゾル中のシリカ粒子の平均
粒子径は0.12μmであり、粘度は1Ocpであった
。
このようにして得られたゾルを507ずつ5等分し酸も
しくはアルカリを滴下し、pH値を1゜0.1.5,2
.0.2.5.3.0に、それぞれ調整した後、密閉伏
態にし、恒温槽中に250間保存した。保存後の平均粒
子径と粘度の測定結果を表1に示す。
しくはアルカリを滴下し、pH値を1゜0.1.5,2
.0.2.5.3.0に、それぞれ調整した後、密閉伏
態にし、恒温槽中に250間保存した。保存後の平均粒
子径と粘度の測定結果を表1に示す。
表1.保存後のゾル伏頌
表1に示したように、保存前の伏@を維持していたもの
は、pH=1.5の場合だけであり、p11=2.0の
場合も、かなり良好な吠面であったが、pH=3.0に
おいては、m合反応の進行のため、ゲル化して処理でき
ず、f)ll=1.0.2.5に関しては、■分散処理
を施さなければ、次工程の処理ができなかった。
は、pH=1.5の場合だけであり、p11=2.0の
場合も、かなり良好な吠面であったが、pH=3.0に
おいては、m合反応の進行のため、ゲル化して処理でき
ず、f)ll=1.0.2.5に関しては、■分散処理
を施さなければ、次工程の処理ができなかった。
保存f&、f)II=1.5および2.0のゾルに対し
ては、pH値の再調整(p II = 3〜6〉→再遠
心分離→再濾過の処理を施し、それぞれ、大きさ30X
30X15(cm)のボリプ0ピレン製の容器に各1.
01.50個に注入し密閉伏態にてゲル化させた。また
、pH=1.0および2.5のゾルに対しては、再び超
音波を11<(CHI、 、凝集した粒子の再分散を行
なった後、pH=1.5および2.0のゾルと同様の処
理!をした。
ては、pH値の再調整(p II = 3〜6〉→再遠
心分離→再濾過の処理を施し、それぞれ、大きさ30X
30X15(cm)のボリプ0ピレン製の容器に各1.
01.50個に注入し密閉伏態にてゲル化させた。また
、pH=1.0および2.5のゾルに対しては、再び超
音波を11<(CHI、 、凝集した粒子の再分散を行
なった後、pH=1.5および2.0のゾルと同様の処
理!をした。
ゲル化後、収縮が始まった時点で、容器のフタを乾燥速
度副産のため4.0%の開孔率に穴をあけたものに変え
、乾燥機に入れ、80℃に2511間で大きさ210X
210X7.5 (■−〕の乾燥ゲルを得た。
度副産のため4.0%の開孔率に穴をあけたものに変え
、乾燥機に入れ、80℃に2511間で大きさ210X
210X7.5 (■−〕の乾燥ゲルを得た。
ここで得た乾燥ゲルを焼結炉に没入し、加熱焼結し、1
330℃にて透明なガラス体を得た。このガラスノ大き
さは、152X152X5.5(s+s ) 、III
、fl) Li 325 g テアツタ。
330℃にて透明なガラス体を得た。このガラスノ大き
さは、152X152X5.5(s+s ) 、III
、fl) Li 325 g テアツタ。
以上のようにして得たこれらのガラスに関する諸物性分
析の結果は、ビッカース硬度、比m1熱膨張係数、赤外
吸収スペクトル、近赤外吸収スベー クトル、屈折率な
ど市販の石英ガラスと一致した。
析の結果は、ビッカース硬度、比m1熱膨張係数、赤外
吸収スペクトル、近赤外吸収スベー クトル、屈折率な
ど市販の石英ガラスと一致した。
この実施例の他に、エチルシリケートと微粒子シリカの
割合、微粒子のシリカのi[Tおよび保存する時期など
を種々変えた場合に関しても、ゾルのρ11値とゾル安
定性との相関を見たが、前記同様にゾル安定性を維持す
るp II値が存在した。
割合、微粒子のシリカのi[Tおよび保存する時期など
を種々変えた場合に関しても、ゾルのρ11値とゾル安
定性との相関を見たが、前記同様にゾル安定性を維持す
るp II値が存在した。
このように、本発明の方法によれば、目的ガラス前駆体
であるゾルの安定性が長時間維持可能となり、工程が円
滑に流れると共に、長時間を要する大量処理にも対応で
きるため、量産化および低コスト比が容易になるもので
ある。
であるゾルの安定性が長時間維持可能となり、工程が円
滑に流れると共に、長時間を要する大量処理にも対応で
きるため、量産化および低コスト比が容易になるもので
ある。
したがって、これまで石英ガラスを使用していたし)野
ではもちろんのことICフォトマスク基板、光フアイバ
ー用母材、光学関係など種々の分野に応用が広がるもの
と考える。また、ゾル伏[F]において異種の元素を混
合することにより、多成分系の種々の優れた特性をもつ
ガラスの製造も容易である。
ではもちろんのことICフォトマスク基板、光フアイバ
ー用母材、光学関係など種々の分野に応用が広がるもの
と考える。また、ゾル伏[F]において異種の元素を混
合することにより、多成分系の種々の優れた特性をもつ
ガラスの製造も容易である。
以 上
Claims (1)
- (1)金属アルコキシドあるいは、金属アルコキシドお
よび金属酸化物の微粒子を主原料として、目的ガラス成
分組成の液状ゾルを調整し、該液状ゾルを所望形状の密
閉容器中にてゲル化させウェットゲルを作製した後、該
ウェットゲルを乾燥、焼結するゾル−ゲル法によるガラ
スの製造方法において、目的ガラス成分組成の液状ゾル
を調整する工程中、処理途中の該液状ゾルを保存する場
合、該液状ゾルのpH値を調整した後保存することを特
徴とするガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2280487A JPS63190724A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2280487A JPS63190724A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63190724A true JPS63190724A (ja) | 1988-08-08 |
Family
ID=12092869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2280487A Pending JPS63190724A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63190724A (ja) |
-
1987
- 1987-02-03 JP JP2280487A patent/JPS63190724A/ja active Pending
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