JPS60215531A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents

石英ガラスの製造方法

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JPS60215531A
JPS60215531A JP7056584A JP7056584A JPS60215531A JP S60215531 A JPS60215531 A JP S60215531A JP 7056584 A JP7056584 A JP 7056584A JP 7056584 A JP7056584 A JP 7056584A JP S60215531 A JPS60215531 A JP S60215531A
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JP
Japan
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sol
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quartz glass
gel
glass
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JP7056584A
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Tetsuhiko Takeuchi
哲彦 竹内
Sadao Kanbe
貞男 神戸
Motoyuki Toki
元幸 土岐
Satoru Miyashita
悟 宮下
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Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route

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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、ゾル−ゲル法による石英ガラスの製造法に関
する。
、c:従来技術〕 近年、石英ガラスは、銅、ホウ素等の不純物濃変が、0
.lppm以下の高純度のものが製造され、ゲルマニウ
ム、シリコン、その他の半導体の製造工程におけるルツ
ボやボード、拡散炉の炉心管など幅広く用いられるよう
Kなり、また理化学用機器、光学測定用のセルと1−て
も、よく使用され、さらに水酸基金Illの少ないもの
および光学的均質性に優h−a高品・改なものが開発さ
れ、各種の光学的用途に1史用され、特に光I!ハ信用
の石凋ガラスファイバーは注1コされている。このよう
に用途の広い石英ガラスtar 、現在、−収に次に示
J−る櫨類の方法でlli造されてい、6゜ 1) 天然水晶と洗浄し溶融−する方法2)高純度81
0 t4ま友はG i H4を原料として8103を製
造する方法 3)天然珪砂を溶融する方法(泡と含何する石英ガラス
が得られる) しかし、以上のいすnの製造法も原料費が高価なこと、
高温処理が必要であることなどの12−め製造コストが
高く、石英ガラスは非常VC高価である。
そこで高品質な石英ガラスの安価な製造法としてゾル−
ゲル法が注目され、この方法を用いる石英ガラス製造に
関する研究は、さまざまな所で幅広く行なわれているが
、現状では、種々の問題をかかえ実用化までは至ってい
ない。このゾル−ゲル法による石英ガラス製造の一手法
として次のような方法が考案されている。すなわち、エ
チルシリケー) (Si (002H5)4 ) と塩
酸溶液を混合し、エチルシリケートの加水分解溶液を調
製、この溶液[微粉末シリカを混合1分散させシリカゾ
ルとしアンモニア水等の弱塩基によりゾルpH値の調整
熱処理などを加え、シリカゲルとする。ここで得られた
塊状のシリカゲルを炉に入れ所定のプログラムで焼結を
行ない石英ガラスとするものであるが、この方法の問題
点の一つとして乾燥ゲル製造の歩留りを向上させること
を目的として行なう。
アンモニア水等の滴下によるゾルpH値の調整に伴なう
中オロ反応生成物が、焼結において悪影響を及ばし得ら
れ次石英ガラス中に種々の欠陥(気泡など)が存在し、
均質なガラスが得難いことがあげられる。
〔目 的〕
本発明の目的は、前述のごとき問題点を解決するもので
、pH値副調整際の中和反応生成物の生成量をできる限
シ少畦に押え、透明均質な石英ガラスの製造方法を提供
することである。
〔概 要〕
エチルシリケート([31(002H5)4) の加水
分解反応を、原料組成5i(002H,)4: T(、
O:口ot=1:2:(1072(モル化)で行ない、
混合、攪拌し溶液が透明均一な状態になったところで、
以後のゾル調整に必快なH2Oを添加混合し、さらに微
粉末シリカを添加該溶液中に分散さ忙ゾルを調整し、ア
ンモニア水によりゾルpHI直を五〇〜5.0程度に上
昇させ、ゲル化、乾燥し得友乾燥ゲルを焼結し石英ガラ
スとする方法であり、この方法で行なうとpH値の調整
による中和反応生成・吻が従来の40チになる。以下、
実施1シリに従い本発明の内容をさら匹詳細に説明する
〔実施例〕
市販のエチルシリケート5i(O[!;t)4264−
と0.02NHO6Ai2ゴとを混合し、激しく攪拌し
たところ、1時間程で外見上は均一透明な溶液となった
該溶液にH2O172,8m7!を徐々に添加した、籾
量にはやや白濁したものの、しばらく攪拌すると均一透
明な加水分解溶液となつ友。ただし、前述の原料(Si
 (Offit )4264ゴ、α02NHO445,
2nt 、 H20172,8ml )を同時に混合し
たのでは、反応が起こらず、相分離してしまった。該加
水分解溶液に、微粉末シリカ(商品名:Aθrosil
 oxs。
(DiguSSa社))901Fを攪拌しながら添加し
た。添加終了後、さらに微粉末の分散性を高めるために
、攪拌を6時間、超音波を3時間照射した後、遠心分離
(1500F、 10m1n )および(LINアンモ
ニア水を滴下し、ゾルのpH値を4.0程度Vc L、
友。(1娯序は関係ない) 該ゾルを濾過(200me
shのフィルター)し、ポリプロピレン製容器(27X
22X1t5cm)K入れ、ふitして密閉状態でゲル
化させfc。この状態で2〜3日間静置した後、蓋を乾
燥速度の調節可能なものに取り替え、乾燥機に入れ30
℃から昇温速度 5− 3℃7nrKで60℃まで温度を上昇させ、以後60℃
に保持、し乾燥を行ないほぼ5日間で、大きさ1115
X14.5X[L6cInの板状の乾燥ゲルを得た。こ
の乾燥ゲルを焼結炉に入れ、昇温速度1801117n
rで、加熱、焼結を行ない1260℃にて、大きさ1五
0XIQ、OXo、4zの透明な石英ガラスを得た。
このガラスを光学顕微鏡で覗祭したところ、以前原料中
のHCl瞼が多かったものに比べ、ガラス中に存在する
異物(気泡など)は、大きさ、数ともにかなり少なくな
り、10μm以上の異物はなかった。ま交、このガラス
に関する諸物性分析の結果は、ビッカース硬度800 
V4/J、比重2.2、赤外吸収スペクトル、近赤外吸
収スペクトル、および屈折率など、溶融石英ガラスと一
致し、ここで得九石英ガラスは、非常に高品質な石英ガ
ラスであることが明らかになつ皮。
〔効 果〕
このようにして、本発明により製造される石英ガラスは
、従来の方法(溶融法)よりも、低コストでできる等の
大きな利点により、これまで石英 6 − ガラスを使用していた分野ではもちろんのこと、品質的
にも良好な石英ガラスが容易Kmm造詣能なるために、
光学的用途などさらにその応用は広範囲に広がってゆく
ものと考える。
以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最上 務  7−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルキルシリケートおよび微粉末シリカを王原料とし−
    ご用いるゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方法にお
    いて、アルキルシリケートとしてエチルシリケー) (
    5t(oa2Hs)4)を用い、この加水分解反応全化
    学着論量の%のH20(HO/!、溶液)で進行させ、
    以後、ゾル調整に必要な口20を祭加することを特徴と
    する石英ガラスの製造方法。
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JPS5019520A (ja) * 1973-05-31 1975-03-01

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