JPS60105149A - 電子線装置 - Google Patents
電子線装置Info
- Publication number
- JPS60105149A JPS60105149A JP58212186A JP21218683A JPS60105149A JP S60105149 A JPS60105149 A JP S60105149A JP 58212186 A JP58212186 A JP 58212186A JP 21218683 A JP21218683 A JP 21218683A JP S60105149 A JPS60105149 A JP S60105149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- circuit
- signal
- sample
- correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明はj91謂中至円錐(ホ11−コーン)状に電子
線を試料に照射して、試わ1を観察することのでさる電
子線装置Niに関りる。
線を試料に照射して、試わ1を観察することのでさる電
子線装置Niに関りる。
[従来技術]
電子FIl装買を用いて、試料に光軸に対して傾斜した
電子線を照射し、シ(斜を透過した11に荒波のうち光
軸方向に進行した散乱波を結像に用い−C試籾の暗視野
像を観察Jることが1r<J、すi)なわ4′者(いる
が、この場合には結像に%T与Jる散乱波か一部の散乱
波に過ぎないため、強磨が小さクツ′)向111を持つ
。そこで、近時、同じ散乱角を右りる仝Cの散乱波を結
像に用いるl〔め、第゛1図に示=J J、うなドーナ
ツ状のアパーチャAを有づる遮光板Mを使用し、レンズ
Lによって集束され、この匣ソ541)Mを通過した電
子線E8を試料の一点Pに照q・1シたり、又、この遮
光板Mを使用する代りに、第2図に示すように電子線を
2段の偏向系1a、1bにより偏向して、試v12への
入射点及び1りl fjl (1〕0を略固定したまま
、方位角φを走査りることにJ、す、実質的に中空円錐
状の電子線を試オ゛+1の一1i、jに照Oil L、
その結果試料を透過した散乱波を結像して透過電子顕微
鏡像を観察することが行なわれ−Cいる。この第2図に
示づ型の装置におい’CkL、試料に入用1−る電子線
の傾斜角θを容易に変化さ[屯得るという長所がある反
面、電子線EB(7)傾斜方面が回転するため、対物レ
ンズの卵白収差方向が人々穴なり、球面収゛差を充分補
止りることができず、高分解能の像を1i11察りるこ
とはできなかった。
電子線を照射し、シ(斜を透過した11に荒波のうち光
軸方向に進行した散乱波を結像に用い−C試籾の暗視野
像を観察Jることが1r<J、すi)なわ4′者(いる
が、この場合には結像に%T与Jる散乱波か一部の散乱
波に過ぎないため、強磨が小さクツ′)向111を持つ
。そこで、近時、同じ散乱角を右りる仝Cの散乱波を結
像に用いるl〔め、第゛1図に示=J J、うなドーナ
ツ状のアパーチャAを有づる遮光板Mを使用し、レンズ
Lによって集束され、この匣ソ541)Mを通過した電
子線E8を試料の一点Pに照q・1シたり、又、この遮
光板Mを使用する代りに、第2図に示すように電子線を
2段の偏向系1a、1bにより偏向して、試v12への
入射点及び1りl fjl (1〕0を略固定したまま
、方位角φを走査りることにJ、す、実質的に中空円錐
状の電子線を試オ゛+1の一1i、jに照Oil L、
その結果試料を透過した散乱波を結像して透過電子顕微
鏡像を観察することが行なわれ−Cいる。この第2図に
示づ型の装置におい’CkL、試料に入用1−る電子線
の傾斜角θを容易に変化さ[屯得るという長所がある反
面、電子線EB(7)傾斜方面が回転するため、対物レ
ンズの卵白収差方向が人々穴なり、球面収゛差を充分補
止りることができず、高分解能の像を1i11察りるこ
とはできなかった。
「発明のl”l的」
本発明は、このj、うな従来の欠j;、(をW決し−(
、電子線の傾斜〕”ノ向の回転にもかが1つらず、球面
収差を補正して高分解能像をlS(察Jることのでさる
装置を提供りることを目的どしている。
、電子線の傾斜〕”ノ向の回転にもかが1つらず、球面
収差を補正して高分解能像をlS(察Jることのでさる
装置を提供りることを目的どしている。
[発明の4rli成」
本発明は対物レンズ゛の前段に配置されl、:&l向器
と、試料土の一点に任意のl1ji斜角CM斜の方位角
を回転させながら電子線を入用さけるだめの偏向信号を
該偏向器に供給するための1段と、該対物レンズの球面
収Zを補止りるための非1’ja収差袖止レンスと、前
記傾斜角及び方位角を表わり一信号に遍、↓づい−C非
点袖正イ58を作成し前記非点収差補正レンズに供給り
るIこめの手段を只11i11シたことを特徴とし”C
いる。
と、試料土の一点に任意のl1ji斜角CM斜の方位角
を回転させながら電子線を入用さけるだめの偏向信号を
該偏向器に供給するための1段と、該対物レンズの球面
収Zを補止りるための非1’ja収差袖止レンスと、前
記傾斜角及び方位角を表わり一信号に遍、↓づい−C非
点袖正イ58を作成し前記非点収差補正レンズに供給り
るIこめの手段を只11i11シたことを特徴とし”C
いる。
[実施例]
以下、図面に11tづぎ本発明の実施例をFiT述づる
第3図は、本発明の一実施例を示Jためのらので、図中
3は電子銃であり、この電子銃3よりの電子線は集束レ
ンズ4にJ、り集束され7.: ff2、試オ815に
入射する。6は対物レンズであり、7(,1対′1カレ
ンズ絞りである。8は中間レンズであり、1)は投影レ
ンズである。前記集束レンズ4どス・1物レンズ6との
間には二段の偏向コイル10F〕、 ’I Obが配置
されている。これら偏向コイルの各/ZはX偏向コイル
とY偏向コイルJ:り成る。史に、対物レンズ6の後段
にはコイル11x、11yJ、り成る卵白収差補正レン
ズ11が配置され(いる1、この非点収差補正レンズ1
1の後段には蛍光板12が配置されている。13はtを
時間、ωを定数どJるとき、任意の振幅成分Rを有づる R51nωt・・・・・・(1−1) 及び RcosωL・・・・・・(1−2) なる信号を発生づ−る走査回転回路C゛あり、この走査
回転回路13の出力信号は加粋回路14及び平衡回路1
5を介して前記2段の偏向コイル10E1及び10L)
に供給され(いる。Jの加偉回路14にはアライメント
用信舅発」−同1i1f 16よりアライメン1〜用の
11向1.−1号が供給され、走査回転回路13よりの
走白回転f曹シJは、回路′14においてアライメン1
〜用15号と加算されて前ii1!1lii向コイル1
0a、10bに供給される。平191回路15は偏向コ
イル10aによつ(偏向された電子線IE Bが偏向=
1イル10bにJ、っ−C振り戻さン1. T試片31
の同一点Pに入射りるJ、うに、両輪向−+−(ル10
a、10[)に供給される信号の強瓜比を調節するため
の回路である。前記、走査回転回路13よりの信号は卵
白収差抽II−電源17に供給されている。この非点収
を補正電源17には補正信号発生回路18より生卵IA
iをン山直■ニするためのfムシ弓−ら供j負ときれて
おり、J1貞収差補正電源17はこれら供給された信号
に七4づいC 3X=1で+(R)cosωを 十R2S団ω]IC×・・・・・・(2−1>Sy =
R’+ sinω1− +[マzcosωl:+Cy・・−−(2−2)なる補
正信号Sx 、Syを作成して、各々前記卵白補正コイ
ルllx、’i’lyに供給づる。4H3,l、 十式
ニJ3 イT、R+ (R) &ヒR2(R) 1.、
L41+v幅1&分R+、RzがRの関数として与えら
れる、二と4表わしている。このIL+(1?)及びR
2(1’<)の関数型については理論的にめても良いが
、この実施例においては、実験的に予めめらi′t k
bのを使用している。この式で最初(7) 21fiは
電子線の走査回転に基づく非点収差を補止りるための捕
j1侶号を表わしており、最終項は生卵点収差(電子線
を軸上照射しl〔場合に生じる非点収戸二)を補jlリ
−るための補正信号を表わしており、この生卵点を補正
りるための信号は非点収着補正電源I El 、J。
第3図は、本発明の一実施例を示Jためのらので、図中
3は電子銃であり、この電子銃3よりの電子線は集束レ
ンズ4にJ、り集束され7.: ff2、試オ815に
入射する。6は対物レンズであり、7(,1対′1カレ
ンズ絞りである。8は中間レンズであり、1)は投影レ
ンズである。前記集束レンズ4どス・1物レンズ6との
間には二段の偏向コイル10F〕、 ’I Obが配置
されている。これら偏向コイルの各/ZはX偏向コイル
とY偏向コイルJ:り成る。史に、対物レンズ6の後段
にはコイル11x、11yJ、り成る卵白収差補正レン
ズ11が配置され(いる1、この非点収差補正レンズ1
1の後段には蛍光板12が配置されている。13はtを
時間、ωを定数どJるとき、任意の振幅成分Rを有づる R51nωt・・・・・・(1−1) 及び RcosωL・・・・・・(1−2) なる信号を発生づ−る走査回転回路C゛あり、この走査
回転回路13の出力信号は加粋回路14及び平衡回路1
5を介して前記2段の偏向コイル10E1及び10L)
に供給され(いる。Jの加偉回路14にはアライメント
用信舅発」−同1i1f 16よりアライメン1〜用の
11向1.−1号が供給され、走査回転回路13よりの
走白回転f曹シJは、回路′14においてアライメン1
〜用15号と加算されて前ii1!1lii向コイル1
0a、10bに供給される。平191回路15は偏向コ
イル10aによつ(偏向された電子線IE Bが偏向=
1イル10bにJ、っ−C振り戻さン1. T試片31
の同一点Pに入射りるJ、うに、両輪向−+−(ル10
a、10[)に供給される信号の強瓜比を調節するため
の回路である。前記、走査回転回路13よりの信号は卵
白収差抽II−電源17に供給されている。この非点収
を補正電源17には補正信号発生回路18より生卵IA
iをン山直■ニするためのfムシ弓−ら供j負ときれて
おり、J1貞収差補正電源17はこれら供給された信号
に七4づいC 3X=1で+(R)cosωを 十R2S団ω]IC×・・・・・・(2−1>Sy =
R’+ sinω1− +[マzcosωl:+Cy・・−−(2−2)なる補
正信号Sx 、Syを作成して、各々前記卵白補正コイ
ルllx、’i’lyに供給づる。4H3,l、 十式
ニJ3 イT、R+ (R) &ヒR2(R) 1.、
L41+v幅1&分R+、RzがRの関数として与えら
れる、二と4表わしている。このIL+(1?)及びR
2(1’<)の関数型については理論的にめても良いが
、この実施例においては、実験的に予めめらi′t k
bのを使用している。この式で最初(7) 21fiは
電子線の走査回転に基づく非点収差を補止りるための捕
j1侶号を表わしており、最終項は生卵点収差(電子線
を軸上照射しl〔場合に生じる非点収戸二)を補jlリ
−るための補正信号を表わしており、この生卵点を補正
りるための信号は非点収着補正電源I El 、J。
りの信号に基づいて予め調1lijされる。
このような414成において、ま−づ゛、電子顕微1Ω
を透過像観察モードにしておく。即ら、電子銃3よりの
電子1jQ E Bが集束レンズ4により試料F)に5
1′行度良く照射され、試料5を透過した電子線に基づ
く試料3の像が蛍光板10上に粘性されるようにする。
を透過像観察モードにしておく。即ら、電子銃3よりの
電子1jQ E Bが集束レンズ4により試料F)に5
1′行度良く照射され、試料5を透過した電子線に基づ
く試料3の像が蛍光板10上に粘性されるようにする。
そこで、所望の傾斜角θに応じてRを選択して、走査回
転回路′13J、り前記第(1〉式に示したイム弓を出
力さける。このJ、うな信号が加亦回路14及び平挽■
回路15を介し゛C,偏向]イル10a、10bに供t
8されるため、電子線LBは偏向コイル10;lにより
光軸か1)離れる向きに偏向された後、偏向コイル10
bにJ:り光軸Cに向かう向きに振り戻されるため、試
料5への入口・11位を1〕に固定した状態で且つ傾斜
角θを固定しIこまま、入射の方位角φを周+III的
に変化させる。このような電子線1’E 13の入用に
1゛1′つ(、試料5によつC回折された電子線のうち
、光軸Cの向きに進行りる電子線は中間及び投影レンズ
8.9によって結像され、蛍光板12上には、試料の透
過電子顕微鏡1α;が形成される。この時、卵白収差補
正コイル11X、11Vには、前記第(2)式で表わさ
れるような傾斜角O及び方1−“l角φを表わJ信号に
阜づいC作成された補正信号が111.給されるため、
電子線の走査回転にかかわらず、常に電子線の方位角φ
および1げ1斜角θに応じIこ最適な袖正イ3号が供給
され、非点収差を補正覆ることができる。従つて、蛍光
板12上に球面収差の影響の無い1i)i、分解能の像
を表示りることができる。
転回路′13J、り前記第(1〉式に示したイム弓を出
力さける。このJ、うな信号が加亦回路14及び平挽■
回路15を介し゛C,偏向]イル10a、10bに供t
8されるため、電子線LBは偏向コイル10;lにより
光軸か1)離れる向きに偏向された後、偏向コイル10
bにJ:り光軸Cに向かう向きに振り戻されるため、試
料5への入口・11位を1〕に固定した状態で且つ傾斜
角θを固定しIこまま、入射の方位角φを周+III的
に変化させる。このような電子線1’E 13の入用に
1゛1′つ(、試料5によつC回折された電子線のうち
、光軸Cの向きに進行りる電子線は中間及び投影レンズ
8.9によって結像され、蛍光板12上には、試料の透
過電子顕微鏡1α;が形成される。この時、卵白収差補
正コイル11X、11Vには、前記第(2)式で表わさ
れるような傾斜角O及び方1−“l角φを表わJ信号に
阜づいC作成された補正信号が111.給されるため、
電子線の走査回転にかかわらず、常に電子線の方位角φ
および1げ1斜角θに応じIこ最適な袖正イ3号が供給
され、非点収差を補正覆ることができる。従つて、蛍光
板12上に球面収差の影響の無い1i)i、分解能の像
を表示りることができる。
上述した実施例は本発明の一実施11111に過さり\
幾多の変形が考えられる。
幾多の変形が考えられる。
例えば、上述した実施例においてl311、Jl +:
、i収メτ補正コイルi1X、1”N/に供給づる補止
イ乙号を非点補正電源より発生覆るようにしたが、電子
M算機によりソフト的に非点補正電源を作成し−cJI
点収差補正レンズに供給りるようにしても良い。
、i収メτ補正コイルi1X、1”N/に供給づる補止
イ乙号を非点補正電源より発生覆るようにしたが、電子
M算機によりソフト的に非点補正電源を作成し−cJI
点収差補正レンズに供給りるようにしても良い。
[発明の効果コ
上述した説明から明らかなように、本発明により試料上
にお(〕る入入位置を一点に固定りると共に、任意の傾
斜角を保持した状態にd3い−U、jj位角を周期的に
変化させて電子線を試オ゛11に人OJさl、その透過
電子線に基づいて蛍光根土1こ透過電子l!11微鏡像
を形成させて観察づる場合に、球面収19を完全に補正
して高分解「j!8の像を観54りることかCきる。
にお(〕る入入位置を一点に固定りると共に、任意の傾
斜角を保持した状態にd3い−U、jj位角を周期的に
変化させて電子線を試オ゛11に人OJさl、その透過
電子線に基づいて蛍光根土1こ透過電子l!11微鏡像
を形成させて観察づる場合に、球面収19を完全に補正
して高分解「j!8の像を観54りることかCきる。
第1図及び第2図は従来装置を説明りるノζめの図、第
3図は本発明の一実施例を示り−ための図である。 IE 13 : ?u 二I’ 線、 c : 光+I
qh 、 2 、5 : 試fil 、 3 :電子銃
、4:狂東レンズ、6:λ・[物レンズ、7:対物紋り
、ε〕:中間レンしン9:Juiンレンズ、1oa、1
0b:偏向コイル、1゛1ニツト魚収差補正レンス、1
2:蛍光板、13 :走査回転回路、14:加篩回路、
15:平衡回路、16:アライメン1〜用信号光生回路
、′17:非+:、t11!lf差補正電源、18 :
?ili正信9発生回路。 1ぜt i+’l出願人 I」本電子株式会ネ1 代表者 ()liii 人
3図は本発明の一実施例を示り−ための図である。 IE 13 : ?u 二I’ 線、 c : 光+I
qh 、 2 、5 : 試fil 、 3 :電子銃
、4:狂東レンズ、6:λ・[物レンズ、7:対物紋り
、ε〕:中間レンしン9:Juiンレンズ、1oa、1
0b:偏向コイル、1゛1ニツト魚収差補正レンス、1
2:蛍光板、13 :走査回転回路、14:加篩回路、
15:平衡回路、16:アライメン1〜用信号光生回路
、′17:非+:、t11!lf差補正電源、18 :
?ili正信9発生回路。 1ぜt i+’l出願人 I」本電子株式会ネ1 代表者 ()liii 人
Claims (1)
- 対物レンズの前段に配置8れた偏向器と、試料上の一点
に(、F、 D、の傾斜角で傾斜の方位角を回転さμな
がら電子線を入用ざUるための偏向信号を該偏向器に供
給づるIこめの手段ど、該対物レンズの34;面収差を
袖;1りる1=めの非点収差補正レンズと、前記(Φ斜
角及び方1f角を表わり信号に基づいC非点補正信>〕
を作成し前記非点収差補止レンズに供給づるlこめの手
段を具備したことを特徴とJる電子Fit装買。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58212186A JPS60105149A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 電子線装置 |
| US06/668,096 US4608491A (en) | 1983-11-11 | 1984-11-05 | Electron beam instrument |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58212186A JPS60105149A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 電子線装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60105149A true JPS60105149A (ja) | 1985-06-10 |
| JPH0313700B2 JPH0313700B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=16618344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58212186A Granted JPS60105149A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 電子線装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4608491A (ja) |
| JP (1) | JPS60105149A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01276552A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
| JP2007299604A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Jeol Ltd | 透過型電子顕微鏡 |
| WO2011071008A1 (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 透過型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0654639B2 (ja) * | 1987-02-06 | 1994-07-20 | 株式会社日立製作所 | 透過形電子顕微鏡における電子線制御装置 |
| JP2686492B2 (ja) * | 1988-12-12 | 1997-12-08 | 株式会社日立製作所 | 透過形電子顕微鏡の照射位置決め方法 |
| US5866905A (en) * | 1991-05-15 | 1999-02-02 | Hitachi, Ltd. | Electron microscope |
| US5576543A (en) * | 1995-08-21 | 1996-11-19 | Texsem Laboratories, Inc. | Method and apparatus for determining crystallographic characteristics |
| US6107637A (en) * | 1997-08-11 | 2000-08-22 | Hitachi, Ltd. | Electron beam exposure or system inspection or measurement apparatus and its method and height detection apparatus |
| JP3987276B2 (ja) * | 2000-10-12 | 2007-10-03 | 株式会社日立製作所 | 試料像形成方法 |
| EP1489641B1 (en) | 2003-06-18 | 2019-08-14 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle deflecting system |
| US6894278B1 (en) * | 2003-07-30 | 2005-05-17 | The Regents Of The University Of California | Electron radiography |
| JP2006040777A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡 |
| US8642959B2 (en) * | 2007-10-29 | 2014-02-04 | Micron Technology, Inc. | Method and system of performing three-dimensional imaging using an electron microscope |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50143462U (ja) * | 1974-05-13 | 1975-11-27 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE563662A (ja) * | 1957-01-03 | |||
| GB1325540A (en) * | 1969-10-10 | 1973-08-01 | Texas Instruments Ltd | Electron beam apparatus |
| NL7604553A (nl) * | 1975-08-28 | 1977-03-02 | Siemens Ag | Met corpusculaire stralen werkende doorstraal- rastermicroscoop met energie-analysator. |
| DE2541915A1 (de) * | 1975-09-19 | 1977-03-31 | Max Planck Gesellschaft | Korpuskularstrahlenmikroskop mit ringzonensegmentabbildung |
-
1983
- 1983-11-11 JP JP58212186A patent/JPS60105149A/ja active Granted
-
1984
- 1984-11-05 US US06/668,096 patent/US4608491A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50143462U (ja) * | 1974-05-13 | 1975-11-27 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01276552A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
| JP2007299604A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Jeol Ltd | 透過型電子顕微鏡 |
| WO2011071008A1 (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 透過型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
| JP2011119173A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 透過型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
| US8586922B2 (en) | 2009-12-07 | 2013-11-19 | Hitachi High-Technologies Corporation | Transmission electron microscope and sample observation method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0313700B2 (ja) | 1991-02-25 |
| US4608491A (en) | 1986-08-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60105149A (ja) | 電子線装置 | |
| US4983832A (en) | Scanning electron microscope | |
| JP2022058942A (ja) | 電子光学システム | |
| JPH02197050A (ja) | 走査透過型位相差電子顕微鏡 | |
| Barnett et al. | A mirror electron microscope using magnetic lenses | |
| JP3101114B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPS55121259A (en) | Elelctron microscope | |
| JPS614144A (ja) | 電子顕微鏡による回折パタ−ン表示方法 | |
| US6573502B2 (en) | Combined electron microscope | |
| US12205789B1 (en) | Transmission electron microscopy with square beams | |
| US5258617A (en) | Method and apparatus for correcting axial coma in electron microscopy | |
| JPH0234139B2 (ja) | ||
| JP2726538B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPH0238367Y2 (ja) | ||
| SU1243046A1 (ru) | Электронный микроскоп | |
| JPS606996Y2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPH0234750Y2 (ja) | ||
| JP2001076659A (ja) | 荷電粒子ビーム顕微鏡、欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| GB1563014A (en) | Electron microscope | |
| RU1778736C (ru) | Широкоугольный объектив | |
| JPS59170753A (ja) | 電子線回折装置 | |
| JPS6014739A (ja) | 電子線回折装置 | |
| JPS6093746A (ja) | 電子線偏向装置 | |
| JPH0161228B2 (ja) | ||
| JPS6252838A (ja) | 走査電子顕微鏡 |