JPS63199865A - イオンビ−ムミキシング装置 - Google Patents
イオンビ−ムミキシング装置Info
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- JPS63199865A JPS63199865A JP3037687A JP3037687A JPS63199865A JP S63199865 A JPS63199865 A JP S63199865A JP 3037687 A JP3037687 A JP 3037687A JP 3037687 A JP3037687 A JP 3037687A JP S63199865 A JPS63199865 A JP S63199865A
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- JP
- Japan
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- workpiece
- work
- ion beam
- ion
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はイオンビームミキシング装置に係り。
特に中空形状の加工物の内面のイオンビームミキシング
の方法による処理をおこなうのに好適な装置に関する。
の方法による処理をおこなうのに好適な装置に関する。
イオンビームミキシングとは従来の真空蒸着によって加
工物の表面を加工する際に同時に加工表面にイオンビー
ムを照射する方法である。イオンビームが高い運動エネ
ルギーを有し得ることから。
工物の表面を加工する際に同時に加工表面にイオンビー
ムを照射する方法である。イオンビームが高い運動エネ
ルギーを有し得ることから。
蒸着物質の付着力を向上させたり蒸着物質とイオンとの
間で化学反応が起き別の化合物を形成し得る等の効果を
有する。このイオンビームミキシングの従来技術として
は「電子、イオンビームハンドブック第２版日本学術振
興会第１３２委員会編、日刊工業発行ｒＰ、５１８の表
及び１９・１真空蒸着とイオン照射を併用する方法の項
参照）」に記載される技術や、「ザイメット社、モデル
Ｚ−２００仕様書（仕様香気＃８５−０００２０ ）
Ｊに記戟される技術等が存在する。
間で化学反応が起き別の化合物を形成し得る等の効果を
有する。このイオンビームミキシングの従来技術として
は「電子、イオンビームハンドブック第２版日本学術振
興会第１３２委員会編、日刊工業発行ｒＰ、５１８の表
及び１９・１真空蒸着とイオン照射を併用する方法の項
参照）」に記載される技術や、「ザイメット社、モデル
Ｚ−２００仕様書（仕様香気＃８５−０００２０ ）
Ｊに記戟される技術等が存在する。
後者の技術を第４図に示す。後者の資料においてはイオ
ンビームミキシングはイオンビームエンハンスドデポジ
ション（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｄｅｐ
ｏ−ｓｉｔｉｏｎ）とよばれており、第４図に示される
ように加工物は平板状のものが採用されている。すなわ
ち真空容器１の中央に置かれた平板状の加工物２に対し
、真空容器１の下方から蒸着物質３の蒸気が送られる。
ンビームミキシングはイオンビームエンハンスドデポジ
ション（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｄｅｐ
ｏ−ｓｉｔｉｏｎ）とよばれており、第４図に示される
ように加工物は平板状のものが採用されている。すなわ
ち真空容器１の中央に置かれた平板状の加工物２に対し
、真空容器１の下方から蒸着物質３の蒸気が送られる。
蒸着物質３はエレクトロビームによって溶かされ蒸発す
る。蒸気は絞りの働きをするプレート４を通り蒸気調整
シャッター５の開いているときには加工物２の表面に向
って送られることになる。なお６は測定器である。この
加工物２の表面には、真空容器１の外部がらはイオンビ
ーム７が照射される。このイオンビームのイオン源は図
示されていない。
る。蒸気は絞りの働きをするプレート４を通り蒸気調整
シャッター５の開いているときには加工物２の表面に向
って送られることになる。なお６は測定器である。この
加工物２の表面には、真空容器１の外部がらはイオンビ
ーム７が照射される。このイオンビームのイオン源は図
示されていない。
上記従来技術を示す第４図の如き装置においては、加工
物２は平板状あるいは凸形状のものしが加工できず、中
空形状の加工物の内側表面を加工することはできないと
いう問題点があった。ここにいう中空形状の加工物とは
、例えば両端が開口しているパイプの如き円筒状加工物
をいう。
物２は平板状あるいは凸形状のものしが加工できず、中
空形状の加工物の内側表面を加工することはできないと
いう問題点があった。ここにいう中空形状の加工物とは
、例えば両端が開口しているパイプの如き円筒状加工物
をいう。
本発明は以上の問題点を鑑みてなされたものであり、中
空形状の加工物の内側表面をもイオンビームミキシング
の方法によって加工処理することのできる装置を提供す
ることを目的とする。
空形状の加工物の内側表面をもイオンビームミキシング
の方法によって加工処理することのできる装置を提供す
ることを目的とする。
本発明のイオンビームミキシング装置は、イオンビーム
ミキシングの方法において必要なイオン発生源と蒸発し
た蒸着物質を提供する蒸着源とを加工物の開口部から加
工物内に挿入し、加工物に対し相対的に移動できる機構
とするものである。
ミキシングの方法において必要なイオン発生源と蒸発し
た蒸着物質を提供する蒸着源とを加工物の開口部から加
工物内に挿入し、加工物に対し相対的に移動できる機構
とするものである。
イオン発生源と蒸着源とを加工物の内部に挿入すること
により、内側表面のイオンビームミキシングの方法によ
る処理が容易におこなえる。
により、内側表面のイオンビームミキシングの方法によ
る処理が容易におこなえる。
本発明の一実施例を第１図〜第３図において説明する。
これらの実施例において採用することのできる加工物、
蒸着物質及びイオンビームの一例を以下の表に示す。
蒸着物質及びイオンビームの一例を以下の表に示す。
表
第１図及び第２図に本発明の一実施例を示す。
真空容器１内に置かれた円筒状の加工物２は、真空容器
１の外側に存在する加工物ホルダー駆動袋Ｗ１１１から
延びた軸１２の先端に設けられる加〒物ホルダー１３に
よって、その一端を保持されている。他端は加工物２の
中央部への開口部となっている。この開口部１４に向っ
てスライド可能な軸１５が真空装置１の外に存在するミ
キシングホルダー駆動装置１６から真空容器１の内部に
延びており、該軸１５の先端にイオン発生源１７及び蒸
着源１８が取付けられている。これにより、軸１５がス
ライドすることによりイオン発生源１７と蒸着源１８は
円筒状の加工物２内部に挿入され得る。加工物ホルダー
駆動装置１１は加工物２を加工物２の円筒状の軸中心に
回動させることができる。イオン源に使用される希ガス
イオン（Ａｒ＋。
１の外側に存在する加工物ホルダー駆動袋Ｗ１１１から
延びた軸１２の先端に設けられる加〒物ホルダー１３に
よって、その一端を保持されている。他端は加工物２の
中央部への開口部となっている。この開口部１４に向っ
てスライド可能な軸１５が真空装置１の外に存在するミ
キシングホルダー駆動装置１６から真空容器１の内部に
延びており、該軸１５の先端にイオン発生源１７及び蒸
着源１８が取付けられている。これにより、軸１５がス
ライドすることによりイオン発生源１７と蒸着源１８は
円筒状の加工物２内部に挿入され得る。加工物ホルダー
駆動装置１１は加工物２を加工物２の円筒状の軸中心に
回動させることができる。イオン源に使用される希ガス
イオン（Ａｒ＋。
Ｎ＋、Ｈ＋）は軸１５の内部を通って外部がら送り込ま
れる。蒸着源１８内において蒸着物質はヒータによって
蒸発させられる。前記スライド運動と回動運動とにより
、イオン発生源１７と蒸発蒸着源１８とは加工物２に対
し内側表面の全ての部分に加工処理をおこなうべく相対
運動が可能となる。
れる。蒸着源１８内において蒸着物質はヒータによって
蒸発させられる。前記スライド運動と回動運動とにより
、イオン発生源１７と蒸発蒸着源１８とは加工物２に対
し内側表面の全ての部分に加工処理をおこなうべく相対
運動が可能となる。
また、イオン発生源１７のイオンビーム照射角度は傾い
ており、蒸着源１８から蒸発する蒸着物質が蒸着する加
工物の内側表面に対し、イオンビームの照射が同時にお
こなわれるようになっている。
ており、蒸着源１８から蒸発する蒸着物質が蒸着する加
工物の内側表面に対し、イオンビームの照射が同時にお
こなわれるようになっている。
また、第３図のようにミキシングホルダーの軸１５の先
端部に設けるイオン発生源１７を、イオンビームが加工
物内側表面に垂直に入射するように設置してもかまわな
い。この場合イオン発生源１７より引き出されるイオン
の照射位置と蒸着される場所は異なるが、加工物２とミ
キシングホルダーの軸１５を第１図と同様に相対運動さ
せることにより、加工物２の内側表面に均一な表面改質
のための加工処理をおこなうことができる。
端部に設けるイオン発生源１７を、イオンビームが加工
物内側表面に垂直に入射するように設置してもかまわな
い。この場合イオン発生源１７より引き出されるイオン
の照射位置と蒸着される場所は異なるが、加工物２とミ
キシングホルダーの軸１５を第１図と同様に相対運動さ
せることにより、加工物２の内側表面に均一な表面改質
のための加工処理をおこなうことができる。
なお、これら第１図〜第３図において加工物２と、ミキ
シングホルダーの軸１５の相対運動させるため加工物２
に回動運動、可動ミキシングホルダー１５に前後のスラ
イド運動をさせているが、これらの運動は互いに入れ替
わったものとなる構成としてもよいし、また二つの運動
をともにどちらか片方におこなわせ、他方は固定として
も同様の効果が得られる。
シングホルダーの軸１５の相対運動させるため加工物２
に回動運動、可動ミキシングホルダー１５に前後のスラ
イド運動をさせているが、これらの運動は互いに入れ替
わったものとなる構成としてもよいし、また二つの運動
をともにどちらか片方におこなわせ、他方は固定として
も同様の効果が得られる。
本実施例によれば中空形状をした長さの長い加工物に対
しても、ミキシングホルダーの軸１５を動かすことによ
り、加工物内側表面の表面改質の加工処理をおこなうこ
とができるという効果がある。
しても、ミキシングホルダーの軸１５を動かすことによ
り、加工物内側表面の表面改質の加工処理をおこなうこ
とができるという効果がある。
本発明のイオンビームミキシング装置によれば、開口部
を有する中空形状の加工物の内側表面にイオンビームミ
キシングの方法による加工処理をおこなうことができる
。
を有する中空形状の加工物の内側表面にイオンビームミ
キシングの方法による加工処理をおこなうことができる
。
第１図は本発明の一実施例を示すための真空容器内部の
様子を表わす図、第２図は第１図の加工物の内部を表わ
す図、第３図は他の実施例を示すための第２図に対応す
る図、第４図は従来のイオンビームミキシングのための
装置を示す図である。 １・・・真空容器、２・・・加工物、３・・・蒸着物質
、４・・・プレート、５・・・シャッター、６・・・測
定器、１１・・・加工物ホルダー駆動装置、１２・・・
軸、１３・・・加工物ホルダー、１４・・・開口部、１
５・・・ミキシングホルダーの軸、１６・・・ミキシン
グ−駆動装置、１７・・・イオン発生源、１８・・・蒸
着源。
様子を表わす図、第２図は第１図の加工物の内部を表わ
す図、第３図は他の実施例を示すための第２図に対応す
る図、第４図は従来のイオンビームミキシングのための
装置を示す図である。 １・・・真空容器、２・・・加工物、３・・・蒸着物質
、４・・・プレート、５・・・シャッター、６・・・測
定器、１１・・・加工物ホルダー駆動装置、１２・・・
軸、１３・・・加工物ホルダー、１４・・・開口部、１
５・・・ミキシングホルダーの軸、１６・・・ミキシン
グ−駆動装置、１７・・・イオン発生源、１８・・・蒸
着源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空容器中において開口部を有する中空形状の加工
物の内側表面をイオンビームミキシングの方法で処理す
る装置であつて、 イオン発生源と蒸着源とを前記開口部から加工物内に挿
入し、加工物に対し相対物に移動できる機構を備えたこ
とを特徴とするイオンビームミキシング装置。 ２、特許請求の範囲第１項において、イオン発生源と蒸
着源とが同一のホルダによつて保持され一体的に前記移
動をするイオンビームミキシング装置。 ３、特許請求の範囲第１項において、開口部を有する中
空形状の加工物が円筒状の加工物であり相対的移動は該
加工物が円筒軸中心に回動することによる移動も含むイ
オンビームミキシング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3037687A JPS63199865A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | イオンビ−ムミキシング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3037687A JPS63199865A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | イオンビ−ムミキシング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63199865A true JPS63199865A (ja) | 1988-08-18 |
Family
ID=12302160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3037687A Pending JPS63199865A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | イオンビ−ムミキシング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63199865A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470102A (en) * | 1987-09-09 | 1989-03-15 | Stanley Electric Co Ltd | Vacuum-sublimation purifier |
| WO2002053795A1 (en) * | 2000-12-27 | 2002-07-11 | Advantest Corporation | Device and method for deposition, electron beam exposure device, deflecting device, and method of manufacturing deflecting device |
-
1987
- 1987-02-12 JP JP3037687A patent/JPS63199865A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470102A (en) * | 1987-09-09 | 1989-03-15 | Stanley Electric Co Ltd | Vacuum-sublimation purifier |
| WO2002053795A1 (en) * | 2000-12-27 | 2002-07-11 | Advantest Corporation | Device and method for deposition, electron beam exposure device, deflecting device, and method of manufacturing deflecting device |
| JP2002198300A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Advantest Corp | 蒸着装置、蒸着方法、電子ビーム露光装置、偏向装置及び偏向装置の製造方法 |
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