JPS6320073A - プラスチツク表面への成膜方法 - Google Patents

プラスチツク表面への成膜方法

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JPS6320073A
JPS6320073A JP16298686A JP16298686A JPS6320073A JP S6320073 A JPS6320073 A JP S6320073A JP 16298686 A JP16298686 A JP 16298686A JP 16298686 A JP16298686 A JP 16298686A JP S6320073 A JPS6320073 A JP S6320073A
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JP
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film
plastic surface
plastic
plasma
forming film
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Shigeki Kato
茂樹 加藤
Yuichi Sakamoto
雄一 坂本
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、プラスチック表面への成膜方法に関し、より
詳細には、プラスチック表面にプラズマ照射による前処
理を施して、プラスチック表面に密着性の良い成膜を行
う方法に関するものである。
（従来技術） 従来、光学部品にはガラスを材料とするものが使用され
てきたが、非球面レンズさえも容易に成形加工が可能で
あるということに加え、軽量、安価、耐衝撃性という点
でも利点を有するプラスチック、とりわけアクリル系樹
脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）　）の使用
が増加しつつある。また、上記と同様の利点によってプ
ラスチック製機械部品は幅広く使用されており、また、
プラスチック製外装部品も金属等のものに代って用いら
れるようになっている。ところが、これらのプラスチッ
ク部品は、ガラスや金属と比較して耐摩耗性、耐擦傷性
が悪く、また光学部品としてのプラスチックは、その反
射率の大きさから光透過率が悪いという欠点がある。こ
れらの欠点に対して、一般的にプラスチック表面に強化
硬質膜や反射防止膜を形成し、表面改質を行う必要が生
じる。この膜形成に先立ちプラスチック表面に対する前
処理、すなわち表面洗浄が行われる。現在、これらの前
処理としては、大気中で溶液を用いた除襄、脱脂、脱水
等の表面洗浄化処理、フレオン蒸気洗浄等が行われてい
る。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、これら従来の前処理法では、その後の膜
形成までに再汚染があること、密着性の問題から膜の材
質が限られること等の問題点があった。すなわち、強化
硬質膜としてはこれまで主に密着性の問題からシリコン
樹脂系の高分子膜が選ばれてきたが、このような高分子
膜では、基板となるプラスチックの硬度の数倍程度の硬
さしかなく充分とは言えない。また、反射防止膜として
用いられている膜についても充分な密着性が達成できて
いない。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであっ
て、プラスチック表面にプラズマ照射による前処理を施
した後に膜形成を行うことを特徴とするものである。
く作　用） 本発明のプラズマを利用したプラスチック表面の処理方
法においては、プラズマから供給される電子、イオンに
よって誘起される衝撃脱離、衝撃分解、あるいは例えば
水素プラズマならば水素原子によるプラズマ化学的表面
水素引き抜き作用等の現象により、プラスチック表面に
吸着した油分水分等の不純物を除去し、続いてそれらプ
ラズマ粒子によってプラスチック表面を構成する分子の
活性化も行う。
（発明の効果） 従って、プラスチック表面と膜との界面に存在し、健全
な膜形成を防げる不純物の影響が解消されるばかりでな
く、プラスチック表面を活性化するので、従来以上に蒸
着原子、分子の表面に対する結合を増進し、かつ健全な
膜成長も行われて、結果的にプラスチック表面と膜の密
着性および耐候性も優れたものになる。このため、従来
主として密着性の問題から実用化されていない５１０２
膜をプラスチック表面に形成することができ、強度を極
めて向上できる。
（実施例） 以下、本発明を実施例により詳述する。
射出圧縮成形によるアクリル系樹脂（ポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ））　　製光学レンズの切片試料を
フレオン蒸気洗浄後、真空装置内に配置し、水素による
高周波プラズマ（５Ｘ　１　ｏ−’ｐａ、　４２ＭＨｚ
、　４０　Ｗ）を照射した。水素プラズマ処理を施した
アクリル系樹脂が有する清浄度、活性度は、一般に行れ
ている純水によるヌレ試験で判断した。
その結果、プラズマ処理を施した試料表面は、プラズマ
処理を施さなかった以外は同一の条件の試料表面と比較
して、極めてよい拡張ヌレを呈し、高い活性度を示した
。次にこのアクリル系樹脂表面に電子ビーム蒸着法でＳ
ｉＯ２膜を形成した。この５ｉＣｈ　膜の密着性をひっ
かき試験法により確認した結果、実用化に耐えうろこと
がわかった。
更に、この表面に同じく電子ビーム蒸着法で反射防止膜
としてＭｇＦ２膜を形成し、ひっかき試験法で密着性を
確認した。
また、プラズマ処理後、直接ＪＦ２膜を形成した場合も
同様の極めて良好な密着性が達成された。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）プラスチック表面にプラズマ照射による前処理を
    施した後に膜形成を行うことを特徴とするプラスチック
    表面への成膜方法。
  2. （２）前記プラスチックがアクリル系樹脂であることを
    特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載のプラスチッ
    ク表面への成膜方法。
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