JPS6320475A - 連続ドライプレ−テイング装置におけるストリツプエツジの検出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、連続ドライプレーティング装置におけるス
トリップエツジの検出装置に関し、とくに高温、高真空
度のドライプレーティング処理槽内を走行中のストリッ
プについても、その位置を的確に把握しようとするもの
である。

（従来の技術） 最近、真空蒸着や、スパフタリング、イオンブレーティ
ングさらには化学的気相蒸着（ＣＶＤ）などのドライプ
レーティング技術が各分野で使用されている。

たとえば鉄鋼分野においては、金属ストリップの表面特
性たとえば耐食性、耐摩耗性および表面硬さなどの改良
を目的として、ＴｉＮやＴｉＣなどのセラミックスの被
覆処理が行われている。

しかしながらこのような金属ストリップに対するドライ
プレーティング処理を、連続的にしかも工業的規模で実
施するには、解決すべき種々の問題が残されていて、そ
の一つにストリップの蛇行がある。

すなわち比較的広幅のストリップを連続的にしかも大量
に処理するためには、ラインスピードを高める必要があ
るが、ラインスピードを上げると処理槽内のストリップ
長が長くなることもあって、ストリップは蛇行し易くな
る。ストリップの蛇行が生じると、蒸着膜の形成に悪影
響を与えるだけでなく、甚だしい場合にはストリップの
破断に至る。

一旦破断すると、処理槽内は高真空に保持されているこ
ともあって、その復旧作業には長時間を要し、生産能率
の低下を招く。

従って処理槽内におけるストリップの蛇行は極力防止す
る必要があり、かかる蛇行修正装置としてはステアリン
グ装置がある。この装置は、ストリップが巻掛けられた
ロールを傾動させることによってストリップの位置を修
正をするものである。

ここにかかるステアリング装置を適切に作動させるため
には、常時、ストリップの位置を正確に把握してお（こ
とが肝要である。

このようなストリップの位置検出装置としては、第３図
に示したような、不活性ガス（たとえばＮ８）の噴射圧
力を利用した装置がある。同図において記号■は噴射ノ
ズル、■は受圧ノズル、○は圧力発信機、■はシリンダ
ー、■は位置発信器である。

上記の装置において、噴射ノズル■から射出されたガス
がストリップＳで遮られれば受圧ノズル＠における受圧
はほぼＯであり、一方ストリップＳが両ノズルＯ９■間
のすき間に存在しない場合には噴射ガス圧をそのまま受
けとることになる。

そこで受圧が０の場合にはシリンダー■によってノズル
対を壁側に移動させ、−力受圧がある場合にはノズル対
を内側に移動させることによってストリップＳのエツジ
部に追従させ、この追従位置を位置発信器ので検出する
ことによって、ストリップの位置を把握するのである。

その他、光学的手段によってストリップの位置を検出す
る方法もある。これはストリップの両エツジ部にそれぞ
れ、該ストリップを挟んで投光器と受光器とを設け、両
エツジ部における光量差によってストリップの位置を検
出するものである。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら前者のガス噴射圧力を利用する方法では、
処理槽の真空度の低下を招くので蒸着に悪影響を及ぼし
、他方後者の光学的方法では、装置内が高温であること
の他、蒸着物質の蒸気（ストレイペーパー）が投光器や
受光器に付着して感度の低下を招くので、そのメンテナ
ンスの維持が難しいところにそれぞれ問題を残していた
。

この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、高温
、高真空に保持されたドライプレーティング処理槽を走
行中のストリップについてもその位置を的確に検出する
ことができるストリップエツジの検出装置を提案するこ
とを目的とする。

（問題点を解決するための手段） すなわちこの発明は、高真空に保持したドライプレーテ
ィング処理槽内を走行するストリップに対し、その表面
に連続してドライプレーティング処理を施す装置におい
て、ストリップの走行ラインの途中に、少なくとも該ス
トリップの表裏面に対向する壁面が透明であるストリッ
プの位置検出室を設け、この位置検出室の透明壁の外側
に投光器と受光器とを対設すると共に、該位置検出室の
前後にはそれぞれ、該検出室内へのストレイペーパーの
侵入を阻止する差圧室を配設したことを特徴とする、連
続ドライプレーティング装置におけるストリップエツジ
の検出装置である。

（実施例） 第１図に、この発明に従うストリップエツジの検出装置
の好適例を断面で、また第２図にはこの好適例を組み込
んだ連続ドライプレーティング装置の全体を模式で示す
。

図中番号１はペイオフリール、２ａ＋　２ｂｔ　２ｃ＋
　２ｄはいずれもディフレクタ−ロール、３ａ、　３ｂ
はそれぞれ入側および出側の差圧室、４ａ、　４ｂは予
熱室、５ａ、　５ｂはそれぞれストリップＳの表面およ
び裏面にドライプレーティング処理を施すための真空蒸
着室、６はステアリングロール、そして７がストリップ
Ｓの位置検出室であり、予熱室４ａから同４ｂまでの間
で高真空処理槽を形成する。また８は冷加窒、９はテン
ションリールである。

そしてペイオフリール１で巻戻されたストリップＳは、
差圧室３ａを経て真空蒸着室５ａおよび５ｂに順次に導
かれ、かかる真空蒸着室５ａ、　５ｂを通過する間にス
トリップＳの表裏面にはそれぞれドライプレーティング
処理が施され、しかるのち差圧室３ｂ、冷却室８を経て
テンションリール９によって巻取られることになる。

さて位置検出室７において、少なくともストリップＳの
表裏面に対向する壁面は強化ガラスなどの透明物質で構
成され、またかかる透明壁１０ａ。

１０ｂの外側には投光器１１と受光器１２とが対設され
ている。ここに受光器１２はストリップＳの両エツジ部
に位置する配置とすることが必要である。

また１３ａ、　１３ｂおよび１４ａ、　１４ｂはそれぞ
れ位置検出室７の入側および出側に設けられた差圧室で
ある。

（作　用） このようにストリップＳの位置検出室７の壁面の一部を
透明壁１０ａ、　１０ｂとしたので、通常の光学的手段
によって、真空度に悪影響を及ぼすことなしにストリッ
プエツジの的確な検出が実現されることになる。

なお、真空蒸着室５ａ、　５ｂにおける蒸着効率が悪い
場合には、ストレイペーパーが検出室７に侵入し、透明
壁の内面に付着して光学的検出手段に支障が生じること
が懸念されるが、この発明では検出室７の人、出側にそ
れぞれかかるストレイペーパーを排出するための差圧室
１３．１４を設けているので、かかるおそれもない。

なお検出室７にはＮｔガスなどの不活性ガスを供給して
室内の圧力を高めることが、ストレイペーパーの侵入を
防止する上でより好適である。

（発明の効果） かくしてこの発明によれば、高温、高真空の処理槽内を
高速通板するストリップに対して連続的にドライプレー
ティングを施す場合でっても、該処理槽内を走行中のス
トリップの位置を正確にネ食出することができ、従って
得られた情報をストリップの位置制御に活用することに
よって的確な位置制御が実現される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明に従うストリップエツジの検出装置
の好適例を示した断面図、 第２図は、上記の好適例を組み込んだ連続ドライプレー
ティング装置の全体図、 第３図は、従来の検出装置の模式図である。 １・・・ペイオフリール ２・・・ディフレクタ−ロール ３・・・差圧室　　　　　　４・・・予熱室５・・・真
空蒸着室　　　　６・・・ステアリングロール７・・・
位置検出室　　　　８・・・冷却室９・・・テンション
リール　１０・・・透明壁１１・・・投光器　　　　　
　１２・・・受光器１３・・・差圧室 Ａ″″Ａ天伐如 第２図 １・−一マイオフリール ４−・予軌室 ５−・−耳を工着室 デ・−テンソヨンリーν Ｓ〜−−ストプッフ０ 第３図 Ｓ・−・ストリッツ０ イー　ｏｌＪ寸ノにル ロ・・−磨圧ノガル 八・・・圧力上１」畿。 二・−シリンター １、：−−イ１【置Ｎイ言益

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、高真空に保持したドライプレーティング処理槽内を
   走行するストリップに対し、その表面に連続してドライ
   プレーティング処理を施す装置において、 ストリップの走行ラインの途中に、少なくとも該ストリ
   ップの表裏面に対向する壁面が透明であるストリップの
   位置検出室を設け、この位置検出室の透明壁の外側に投
   光器と受光器とを対設すると共に、該位置検出室の前後
   にはそれぞれ、該検出室内へのストレイベーパーの侵入
   を阻止する差圧室を配設したことを特徴とする、連続ド
   ライプレーティング装置におけるストリップエッジの検
   出装置。