JPS6320476A - 連続ドライプレ−テイング装置におけるストリツプの蛇行制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、連続ドライプレーティング装置におけるス
トリップの蛇行制御装置に関し、とくに高温、高真空下
の処理槽内を高速通行中の金属ストリップについて、そ
の蛇行の兆候を早期に検出して、迅速かつ適切に対処す
ることにより、連続ブレーティング処理が阻害されるほ
どの蛇行に進展するのを効果的に防止しようとするもの
である。

（従来の技術） 最近、真空蒸着や、スパッタリング、イオンブレーティ
ングさらには化学的気相蒸着（ＣＶＤ）などのドライプ
レーティング技術が各分野で使用されている。

たとえば鉄鋼分野においては、金属ストリップの表面特
性たとえば耐食性、耐摩耗性および表面硬さなどの改良
を目的として、ＴｉＮやＴｉＣなどのセラミックスの被
覆処理が行われている。

しかしながらこのような金属ストリップに対するドライ
プレーティング処理を、連続的にしかも工業的規模で実
施するには、解決すべき種々の問題が残されていて、そ
の一つにストリップの蛇行がある。

すなわち比較的広幅のストリップを連続的にしかも大量
に処理するためには、ラインスピードを高める必要があ
るが、ラインスピードを上げると処理槽内のストリップ
長が長くなることもあって、ストリップは蛇行し易くな
る。ストリップの蛇行が生じると、蒸着膜の形成に悪影
響を与えるだけでな（、甚だしい場合にはストリップの
破断に至る。

一旦破断すると、処理槽内は高真空に保持されているこ
ともあって、その復旧作業には長時間を要し、生産能率
の低下を招く。

従って処理槽内におけるストリップの蛇行は権力防止す
る必要があり、かかる蛇行修正装置としてはステアリン
グ装置がある。この装置は、ストリップが巻掛けられた
ロールを傾動させることによってストリップの位置を修
正をするものである。

ここにかかるステアリング装置を適切に作動させるため
には、常時、ストリップの位置を正確に把握しておくこ
とが肝要である。

このようなストリップの位置検出装置としては、第６図
に示したような、不活性ガス（たとえばＮ、）の噴射圧
力を利用した装置がある。同図において記号Ｏは噴射ノ
ズル、■は受圧ノズル、Ｏは圧力発信機、■はシリンダ
ー、■は位置発信器である。

上記の装置において、噴射ノズルＯから射出されたガス
がストリップＳで遮られれば受圧ノズルＯにおける受圧
はほぼ０であり、一方ストリップＳが両ノズルＯ２■間
のすき間に存在しない場合には噴射ガス圧をそのまま受
けとることになる。

そこで受圧がＯの場合にはシリンダー〇によってノズル
対を壁側に移動させ、一方受圧がある場合にはノズル対
を内側に移動させることによってストリップＳのエツジ
部に追従させ、この追従位置を位置発信器■で検出する
ことによって、ストリップの位置を把握するのである。

その他、光学的手段によってストリップの位置を検出す
る方法もある。これはストリップの両エツジ部にそれぞ
れ、該ストリップを挟んで投光器と受光器とを設け、両
エツジ部における光量差によってストリップの位置を検
出するものである。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら前者のガス噴射圧力を利用する方法では、
処理槽の真空度の低下を招くので蒸着に悪影響を及ぼし
、他方後者の光学的方法では、装置内が高温であること
の他、蒸着物質の蒸気（ストレイペーパー）が投光器や
受光器に付着して感度の低下を招くので、そのメンテナ
ンスの維持が難しく、いずれにしても的確にストリップ
の蛇行を防止することはできなかったのである。

この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、高温
（４００℃以上）、高真空（Ｉ　Ｘ　１０−’ｔｏｒｒ
以下）に保持されたドライプレーティング処理槽を高速
走行中（１００ａｐｓ＋以上）のストリップについても
その位置を正確に検出し、ひいては蛇行の発生を効果的
に防止することができるストリップの蛇行制御装置を提
案することを目的とする。

（問題点を解決するための手段） すなわちこの発明は、高真空に保持したドライプレーテ
ィング処理槽内に導入したストリップを、該処理槽内に
配置したステアリングロールを含む通板用ロール群を介
して迂曲通板させる間に連続してドライプレーティング
を施す装置において、ストリップのステアリングロール
の出側に該ストリップのエツジを検出するセンサーを配
置すると共に、該センサーの検出信号に基づいて該ステ
アリングロールを傾動させる駆動手段をそなえて成る、
連続ドライプレーティング装置におけるストリップの蛇
行制御装置である。

（実施例） 第１図に、この発明に従うストリップの蛇行制御装置の
好適例を組み込んだ連続ドライプレーティング装置の全
体を模式で示す。

図中番号１はペイオフリール、２ａ、　２ｂ、　２ｃ、
　２ｄはいずれもディフレクタ−ロール、３ａ、　３ｂ
はそれぞれ入側および出側の差圧室、４ａ、　４ｂは予
熱室、５ａ、　５ｂはそれぞれストリップＳの表面およ
び裏面にドライプレーティング処理を施すための真空蒸
着室、６はステアリングロール、そして７がストリップ
Ｓの蛇行検出部であり、予熱室４ａから同４ｂまでの間
で高真空処理槽を形成する。また８は冷加窒、９はテン
ションリールである。

そしてペイオフリール１で巻戻されたストリップＳは、
差圧室３ａを経て真空蒸着室５ａおよび５ｂに順次に導
かれ、かかる真空蒸着室５ａ、　５ｂを通過する間にス
トリップＳの表裏面にそれぞれドライプレーティング処
理が施され、しかるのち差圧室３ｂ、冷却室８を経てテ
ンシぢンリール９によって巻取られることになる。

さて蛇行検出器としては、第２図に示したような光学的
検出装置が有利に適合する。同図に示したところにおい
て、１０ａ、　１０ｂはそれぞれ強化ガラスなどの透明
物質からなる透明壁であり、少なくとも蛇行検出部７に
おいてストリップＳの表裏面に対向する壁面については
上記の如き透明壁１０ａ。

１０ｂとする必要がある。また１１は投光器、１２は受
光器であり、とくに受光器１２はストリップＳの両エツ
ジ部に対向する配置とすることが肝要である。

さらに１３ａ、　１３ｂおよび１４ａ、　１４ｂはそれ
ぞれ蛇行検出部７の入側および出側に設けた差圧室であ
る。

このようにストリップＳの蛇行検出部７の壁面の一部を
透明壁１０ａ、　１０ｂとしたので、通常の光学的手段
によって、真空度に悪影響を及ぼすことなしにストリッ
プエツジの的確な検出が実現されることになる。

なお、真空蒸着室５ａ、　５ｂにおける蒸着効率が悪い
場合には、ストレイペーパーが検出部７に侵入し、透明
壁の内面に付着して光学的検出手段に支障が生じること
が懸念されるが、この発明では検出部７の人、出側にそ
れぞれかかるストレイペーパーを排出するための差圧室
１３．１４を設けているので、かかるおそれもない。

次に第３図に、別の蛇行検出装置を断面で示す。

この装置においては、検出部７の壁面はとくに透明物質
で形成する必要はなく、たとえばセラミックスなどの絶
縁体であればよい。そしてかかる絶縁壁の外部から渦流
式変位センサーからなるを可とする導電体の変位を検出
するセンサー１５によって、ストリップのエツジを検出
するのである。

（作　用） 次に、か（して得られた検出データに基いてステアリン
グロールを制御する、制御要領を第４図に基いて説明す
る。

さてたとえば渦流式変位センサー１５で、常時ストリッ
プの位置を監視しておき、所定位置からのストリップＳ
のずれが検出された場合、この検出された変位量Ｕは演
算装置１６に送られる。ここでは該変位量Ｕに応じてそ
れを復元させるのに必要なステアリングロール６の傾動
方向および傾動量が算出され、その算出結果を制御装置
１７に送る。

制御装置１７では、送られてきた指令に基いて、シリン
ダー１８を駆動させ、ステアリングロール６を適切な姿
勢に傾動させるのである。

なお好適ステアリング装置を第５図に示しておく。

同図に示したとおり、ステアリングロール６の非駆動側
はピボット１９によって旋回可能に固定され、他方駆動
側はブラケット２０を介してシリンダー８に接続してい
る。なお２１は軸受座（可動）、２３はベース（固定）
である。

（発明の効果） か（してこの発明によれば、高温、高真空の処理槽内を
高速通板するストリップに対して連続的にドライプレー
ティングを施す場合であっても、該処理槽内を走行中の
ストリップの位置を正確に検出することができ、ひいて
は的確なストリップの蛇行制御が実現される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明に従うストリップの蛇行制御装置の
好適例を組み込んだ連続イオンブレーティング装置の全
体図、 第２図および第３図はそれぞれストリップの位置検出装
置の好適例の断面図、 第４図は、ステアリング装置によるストリップの蛇行制
御要領説明図、 第５図は、好適なステアリング装置の模式図、第６図は
、従来の位置検出装置の模式図である。 １・・・ペイオフリール ２・・・ディフレクタ−ロール ３・・・差圧室　　　　　　４・・・予熱室５・・・真
空莫着室　　　　６・・・ステアリングロール７・・・
蛇行検出部　　　　８・・・冷却室９・・・テンション
リール　１０・・・３３　明”１１１・・・投光器　　
　　　　１２・・・受光器１３、１４・・・差圧室　　
　　１５・・・渦流式変位センサー１６・・・演算装置
　　　　　１７・・・制御装置１８・・・シリンダー　
　　　１９・・・ピボット２０・・・ブラケット　　　
　２１・・・軸受２２・・・軸受座　　　　　　２３・
・・ベース特許出願人　　川崎製鉄株式会社 第２図 ＣＦＩ５：ｌ ｌゐ　　　　　１２ｂ Ａ−Ａ矢ネ見１０ 第３図 第４図 第５図 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、高真空に保持したドライプレーティング処理槽内に
   導入したストリップを、該処理槽内に配置したステアリ
   ングロールを含む通板用ロール群を介して迂曲通板させ
   る間に連続してドライプレーティングを施す装置におい
   て、ストリップのステアリングロールの出側に該ストリ
   ップのエッジを検出するセンサーを配置すると共に、該
   センサーの検出信号に基づいて該ステアリングロールを
   傾動させる駆動手段をそなえて成る、連続ドライプレー
   ティング装置におけるストリップの蛇行制御装置。