JPS63211624A - 照明光学装置 - Google Patents
照明光学装置Info
- Publication number
- JPS63211624A JPS63211624A JP62043688A JP4368887A JPS63211624A JP S63211624 A JPS63211624 A JP S63211624A JP 62043688 A JP62043688 A JP 62043688A JP 4368887 A JP4368887 A JP 4368887A JP S63211624 A JPS63211624 A JP S63211624A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- reflection mirror
- beams
- mirror surface
- light
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、照明光学装置に係り、特に、微細パターン形
成のための露光用光源等として可干渉性の光（コヒーレ
ント光）を用いる際の干渉による悪影響を軽減する構造
に関する。
成のための露光用光源等として可干渉性の光（コヒーレ
ント光）を用いる際の干渉による悪影響を軽減する構造
に関する。
半導体技術の進歩と共に超ＬＳＩをはじめ、半導体装置
の高集積化が進められてきている。半導体装置の高集積
化は素子の微細化によって実現されるため、微細かつ高
精度のパターン形成技術への要求が高まっている。
の高集積化が進められてきている。半導体装置の高集積
化は素子の微細化によって実現されるため、微細かつ高
精度のパターン形成技術への要求が高まっている。
通常、微細パターンの形成には、フォトリソグラフィー
技術が用いられる。
技術が用いられる。
近年、フォトリソグラフィーの使用波長である紫外域の
光を高出力で発振するエキシマレーザ等のレーザの開発
により、レーザ光が半導体露光装置の新しい光源として
注目されてきている。
光を高出力で発振するエキシマレーザ等のレーザの開発
により、レーザ光が半導体露光装置の新しい光源として
注目されてきている。
一般にレーザ光は高い輝度と指向性を有することから、
露光用光源として用いる場合、極めて有効であるが、レ
ーザ光特有の強い干渉性によって、マスク面および像面
においてスペックルが発生し、これが解像度の向上をは
ばむ問題となっている。
露光用光源として用いる場合、極めて有効であるが、レ
ーザ光特有の強い干渉性によって、マスク面および像面
においてスペックルが発生し、これが解像度の向上をは
ばむ問題となっている。
そこで、マスク面および像面におけるスペックルを軽減
するため、段数のオプチカルファイバを用いて可干渉距
離分だけの光路差をもたせたのち複数の光線束に分岐し
、再び結合する方法（特開昭６Ｏ−２４７６４３） 、
段差プリズムを用いて可干渉距離分だけの光路差を与え
る方法（特開昭６ｌ−１６９８１５） 、あるいは、レ
ーザ光束からの光源像を形成させるレンズへの入射角度
を変化させることにより光源像を移動せしめるスキャン
ミラ一方式（ソリッドステートテクノロジー、夏８０’
、１１５〜１２１）等が提案されている。
するため、段数のオプチカルファイバを用いて可干渉距
離分だけの光路差をもたせたのち複数の光線束に分岐し
、再び結合する方法（特開昭６Ｏ−２４７６４３） 、
段差プリズムを用いて可干渉距離分だけの光路差を与え
る方法（特開昭６ｌ−１６９８１５） 、あるいは、レ
ーザ光束からの光源像を形成させるレンズへの入射角度
を変化させることにより光源像を移動せしめるスキャン
ミラ一方式（ソリッドステートテクノロジー、夏８０’
、１１５〜１２１）等が提案されている。
ところで、従来の自然発振のエキシマレーザのレーザ光
は半値全幅が０．３ｍｍ程度、可干渉距離が２００μｍ
程度と短いため、オプチカルファイバーまたは段差ブリ
ズマで生起せしめる光路差は小さいためオプチカルファ
イバや段差プリズムの製作は容品である。
は半値全幅が０．３ｍｍ程度、可干渉距離が２００μｍ
程度と短いため、オプチカルファイバーまたは段差ブリ
ズマで生起せしめる光路差は小さいためオプチカルファ
イバや段差プリズムの製作は容品である。
しかしながら、石英のみのレンズ素材による縮小レンズ
を用いて縮小投影露光を行なう場合は、光源として狭帯
域発振のエキシマレーザを用いざるをえない。この場合
、半値全幅は０．Ｏ０５ｎｍ程度であり、可干渉距離は
１２．５ｍ＋ｓ程度であるため、オプチカルファイバの
１本１本あるいは段差プリズムの１段１段の長さの差が
１２．５ｍ＋ｓ程度必要となるため製造が困難である。
を用いて縮小投影露光を行なう場合は、光源として狭帯
域発振のエキシマレーザを用いざるをえない。この場合
、半値全幅は０．Ｏ０５ｎｍ程度であり、可干渉距離は
１２．５ｍ＋ｓ程度であるため、オプチカルファイバの
１本１本あるいは段差プリズムの１段１段の長さの差が
１２．５ｍ＋ｓ程度必要となるため製造が困難である。
また、エキシマレーザはパルスレーザであるため、スキ
ャンミラ一方式では、パルス数１０００以上で露光しな
いと干渉性をなくすことができず、繰り返し数５００Ｈ
ｚとして露光時間が２秒以上必要となり、スルーブツト
が極めて悪くなるという問題があった。
ャンミラ一方式では、パルス数１０００以上で露光しな
いと干渉性をなくすことができず、繰り返し数５００Ｈ
ｚとして露光時間が２秒以上必要となり、スルーブツト
が極めて悪くなるという問題があった。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、コヒーレ
ント光源から複数の２次光源を形成するに際し、構造が
簡単でこれらの２次光源からの光束が被照明物体面上で
互いに干渉しないようにした照明光学装置を提供するこ
とを目的とする。
ント光源から複数の２次光源を形成するに際し、構造が
簡単でこれらの２次光源からの光束が被照明物体面上で
互いに干渉しないようにした照明光学装置を提供するこ
とを目的とする。
そこで本発明では、コヒーレント光源と、該コヒーレン
ト光源から供給される光束から複数の２次光源を形成す
るための２次光源形成部材を具えた照明光学装置におい
て、 該コヒーレント光源と該２次光源形成部との間に、互い
に平行となるように相対向して配設された全反射ミラー
と部分反射ミラーとからなる光路差生起手段を配設し、
これら全反射ミラー又は部分反射ミラーの１部に形成さ
れたレーザ光入射口から該コヒーレント光源からの光が
これらの反射ミラーの法線方向に対して傾斜して入射し
繰り返し反射しながら部分反射ミラー側に射出せしめら
れるようにしている。
ト光源から供給される光束から複数の２次光源を形成す
るための２次光源形成部材を具えた照明光学装置におい
て、 該コヒーレント光源と該２次光源形成部との間に、互い
に平行となるように相対向して配設された全反射ミラー
と部分反射ミラーとからなる光路差生起手段を配設し、
これら全反射ミラー又は部分反射ミラーの１部に形成さ
れたレーザ光入射口から該コヒーレント光源からの光が
これらの反射ミラーの法線方向に対して傾斜して入射し
繰り返し反射しながら部分反射ミラー側に射出せしめら
れるようにしている。
すなわち、例えば、第５図にこの繰り返し反射ミラーの
原理を示すように、全反射ミラー面Ｃと部分反射ミラー
面Ｒとが距離ｄだけ離間するように相対向し゛ζ平行に
配設されており、全反射ミラー面Ｃの一端に幅Ｗのレー
ザ光入射口■が配設されると共に、部分反射ミラー面Ｒ
の他端にも幅Ｗのレーザ光出射口Ｏが配設された繰り返
し反射ミラーの構造を考えてみる。まずレーザ光りがこ
れらの反射ミラー面の法線に対して角θをなすようにレ
ーザ光入射口から入射せしめられるとする。
原理を示すように、全反射ミラー面Ｃと部分反射ミラー
面Ｒとが距離ｄだけ離間するように相対向し゛ζ平行に
配設されており、全反射ミラー面Ｃの一端に幅Ｗのレー
ザ光入射口■が配設されると共に、部分反射ミラー面Ｒ
の他端にも幅Ｗのレーザ光出射口Ｏが配設された繰り返
し反射ミラーの構造を考えてみる。まずレーザ光りがこ
れらの反射ミラー面の法線に対して角θをなすようにレ
ーザ光入射口から入射せしめられるとする。
このとき、レーザ光入射口から入ったレーザ光りは部分
反射ミラーの領域Ｒ１に当たり、１部は透過光Ｔ１とし
て出射すると共に、残りは前記領域Ｒ１で反射せしめら
れ、全反射ミラー面の領域Ｃ１に当たる。
反射ミラーの領域Ｒ１に当たり、１部は透過光Ｔ１とし
て出射すると共に、残りは前記領域Ｒ１で反射せしめら
れ、全反射ミラー面の領域Ｃ１に当たる。
この領域Ｃ１に当った光は全反射せしめられ、部分反射
ミラーの領域Ｒ２を照射する。そしてこの領域Ｒ２を照
射した光の１部は透過光Ｔ２として出射すると共に、残
りは前記領域Ｒ２で反射せしめられ、全反射ミラーの領
域Ｃ２を照射する。
ミラーの領域Ｒ２を照射する。そしてこの領域Ｒ２を照
射した光の１部は透過光Ｔ２として出射すると共に、残
りは前記領域Ｒ２で反射せしめられ、全反射ミラーの領
域Ｃ２を照射する。
このようにして順次、透過および反射をｎ回繰り返して
いくと、最後にレーザ光出射口Ｏに当たった光は全て透
過光Ｔｎとして出射せしめられ、ｎ個の互いに光路差を
もつ光線からなる光束を生起することができる。
いくと、最後にレーザ光出射口Ｏに当たった光は全て透
過光Ｔｎとして出射せしめられ、ｎ個の互いに光路差を
もつ光線からなる光束を生起することができる。
ここで、繰り返し反射ミラーの法線方向に対して入射レ
ーザ光のなす角をθ、全反射ミラー面Ｃと部分反射ミラ
ー面の間隔をｄミラー間の媒質の屈折率をｎとすると Ｘ ｍ ２ ｎ ｄ ｃｏｓθ （１
）なお、可干渉距離の詳細についてはマックスホルンお
よびエミルウルフの共著“光学原理（Ｐｒｉｎｃｉｐｌ
ｅｓ ｏｆ ０ｐｔｉｃｓ）の第４版″に記載され
ており、コヒーレント光源から供給される光束の中心波
長をλ、波長幅をΔλとするとき、可干渉距離 は 一λ２／Δλ ・・・・・・・・・ （
２）で与えられる。
ーザ光のなす角をθ、全反射ミラー面Ｃと部分反射ミラ
ー面の間隔をｄミラー間の媒質の屈折率をｎとすると Ｘ ｍ ２ ｎ ｄ ｃｏｓθ （１
）なお、可干渉距離の詳細についてはマックスホルンお
よびエミルウルフの共著“光学原理（Ｐｒｉｎｃｉｐｌ
ｅｓ ｏｆ ０ｐｔｉｃｓ）の第４版″に記載され
ており、コヒーレント光源から供給される光束の中心波
長をλ、波長幅をΔλとするとき、可干渉距離 は 一λ２／Δλ ・・・・・・・・・ （
２）で与えられる。
従って、Ｘ〉 となるように、繰り返し反射ミラーを設
計することにより互いに干渉しない光束を得ることがで
きる。
計することにより互いに干渉しない光束を得ることがで
きる。
以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に
説明する。
説明する。
この照明光学装置は、第１図に示す如く、半値全幅０．
００５ｎａ＋のコヒーレントなレーザ光を出力する狭帯
域発振エキシマレーザ光源１と、該レーザ光から、互い
に光路差をもつ光線束を生起せしめる繰り返し反射ミラ
ー２と、射出面近傍に複数の２次光源３を形成するイン
テグレータ（フライアイレンズ）４と、該２次光源から
の光を集光させるコンデンサレンズ５とから構成されて
おり、レチクル６の面上にレーザ光が照射せしめられる
ようになっている。
００５ｎａ＋のコヒーレントなレーザ光を出力する狭帯
域発振エキシマレーザ光源１と、該レーザ光から、互い
に光路差をもつ光線束を生起せしめる繰り返し反射ミラ
ー２と、射出面近傍に複数の２次光源３を形成するイン
テグレータ（フライアイレンズ）４と、該２次光源から
の光を集光させるコンデンサレンズ５とから構成されて
おり、レチクル６の面上にレーザ光が照射せしめられる
ようになっている。
そして、この繰り返し反射ミラー２は、第２図に部分拡
大図を示すように、屈折率ｎ−１，５０８３８厚さｄ＝
４．５ｍｍの石英基板２Ｓの両面に夫々全反射ミラー面
２Ｃおよび部分反射ミラー面２Ｒをコーティングしてな
るもので、レーザ光りの入射方向に対して法線がθ−１
５＠傾斜するように配設され、一端にあるレーザ光の入
射位置は全反射ミラー面を構成せず、反射防止コートを
施されて入射口Ｉを形成している。一方、他端側の部分
反射ミラー面にも１部反射防止コートが施され、透過口
Ｏを形成しており、前述の繰り返し反射ミラーと同様に
部分反射ミラー面Ｒにあたった光は１部透過光と反射光
とに分岐され、反射光は更に反射ミラー面Ｃで反射され
、再び部分反射ミラー面Ｒで透過光と反射光とに分岐さ
れる・・・というふうに光路差 ２ ｎ ｄ ｃｏｓθ
を生起しつつ繰り返し反射を続け、非可渉光束を形成す
るように構成されている。
大図を示すように、屈折率ｎ−１，５０８３８厚さｄ＝
４．５ｍｍの石英基板２Ｓの両面に夫々全反射ミラー面
２Ｃおよび部分反射ミラー面２Ｒをコーティングしてな
るもので、レーザ光りの入射方向に対して法線がθ−１
５＠傾斜するように配設され、一端にあるレーザ光の入
射位置は全反射ミラー面を構成せず、反射防止コートを
施されて入射口Ｉを形成している。一方、他端側の部分
反射ミラー面にも１部反射防止コートが施され、透過口
Ｏを形成しており、前述の繰り返し反射ミラーと同様に
部分反射ミラー面Ｒにあたった光は１部透過光と反射光
とに分岐され、反射光は更に反射ミラー面Ｃで反射され
、再び部分反射ミラー面Ｒで透過光と反射光とに分岐さ
れる・・・というふうに光路差 ２ ｎ ｄ ｃｏｓθ
を生起しつつ繰り返し反射を続け、非可渉光束を形成す
るように構成されている。
ここで用いた狭帯域発振エキシマレーザの半値全幅は０
．００５ｎ−である丈、可干渉距離は１２゜５１１Ｉ１
１程度である。
．００５ｎ−である丈、可干渉距離は１２゜５１１Ｉ１
１程度である。
これに対し、繰り返し反射ミラーで生起される光路差は
前記（１）式から ２ ｎ ｄ ｃｏｓ θ −２Ｘ１． ５０８３
８Ｘ４． ５ｍＩＩＸｃｏｓ１５” 舞 １３．４ｍｍ となり可干渉距離１２．５龍より大となっている。
前記（１）式から ２ ｎ ｄ ｃｏｓ θ −２Ｘ１． ５０８３
８Ｘ４． ５ｍＩＩＸｃｏｓ１５” 舞 １３．４ｍｍ となり可干渉距離１２．５龍より大となっている。
従って、この照明光学装置をフォトリソグラフィーにお
ける露光に用いた場合、スペックルもなく極めて高精度
の微細パターンの形成が可能となる。
ける露光に用いた場合、スペックルもなく極めて高精度
の微細パターンの形成が可能となる。
また、ここで用いている繰り返し反射ミラーは構造が簡
単で安価で製作し易い。
単で安価で製作し易い。
更に、この繰り返し反射ミラーは光の利用効率が１００
％であり、光路差生起手段としてオプチカルファイバを
用いた従来の方法に比べ、光の利用効率が大幅に高めら
れる。
％であり、光路差生起手段としてオプチカルファイバを
用いた従来の方法に比べ、光の利用効率が大幅に高めら
れる。
また、容易に無数の光路差を有する光束を発生せしめた
ることができる。
ることができる。
加えて、従来のスキャンミラ一方式に比べ、低いパルス
数で干渉性のない露光を行なうことができるため、露光
時間の低減をはかることができ、スルーブツトが向上す
る。
数で干渉性のない露光を行なうことができるため、露光
時間の低減をはかることができ、スルーブツトが向上す
る。
なお、実施例では部分反射ミラーの反射率を全面にわた
って一定となるようにしたが、実際は各ミラー領域Ｒ１
・・・Ｒｎからの透過光線は、強度が多少不均一となる
。
って一定となるようにしたが、実際は各ミラー領域Ｒ１
・・・Ｒｎからの透過光線は、強度が多少不均一となる
。
従って部分反射ミラーの反射等を各領域毎に変えること
によって、強度の均一化をはかることも可能である。
によって、強度の均一化をはかることも可能である。
すなわち、第５図において部分反射ミラーＲをＲ１・・
・Ｒｎの領域に分けｎ個の光束に分けるとし、入射光強
度を１としたときの各領域からの透過光の強度Ｔ １−
Ｔ ｎがＴ １ ｍ Ｔ ２− Ｔ ３ ・＝ −−Ｔ
ｎ−１／ｎの関係を満たすようにする。各領域Ｒ１・
・・Ｒｎにおける反射率をＲ１・・・Ｒｎで表わすと、
ＴＩ−（１−Ｒ１） Ｔ２− （１−Ｒ１−ＴＩ）（１−Ｒ２）−（１−Ｒ１
−１／ｎ）（１−Ｒ２） Ｔｋ−（１−に／ｎ）（１−Ｒｋ） Ｔ ｎ −（１−ｎ ／ ｎ ） （１−Ｒｎ ）上
記ｎ個の式を満たすように各領域の反射率Ｒ１・・・Ｒ
ｎを決定すれば全面にわたって均一な光強度を有する光
照射を行なうことが可能となる。
・Ｒｎの領域に分けｎ個の光束に分けるとし、入射光強
度を１としたときの各領域からの透過光の強度Ｔ １−
Ｔ ｎがＴ １ ｍ Ｔ ２− Ｔ ３ ・＝ −−Ｔ
ｎ−１／ｎの関係を満たすようにする。各領域Ｒ１・
・・Ｒｎにおける反射率をＲ１・・・Ｒｎで表わすと、
ＴＩ−（１−Ｒ１） Ｔ２− （１−Ｒ１−ＴＩ）（１−Ｒ２）−（１−Ｒ１
−１／ｎ）（１−Ｒ２） Ｔｋ−（１−に／ｎ）（１−Ｒｋ） Ｔ ｎ −（１−ｎ ／ ｎ ） （１−Ｒｎ ）上
記ｎ個の式を満たすように各領域の反射率Ｒ１・・・Ｒ
ｎを決定すれば全面にわたって均一な光強度を有する光
照射を行なうことが可能となる。
また、実施例では、繰り返し反射ミラーを石英基板２Ｓ
の両面に夫々全反射ミラー面および部分反射ミラー面を
形成したものを用いたが、基板は石英基板に限定される
ことなく、使用レーザ光の可干渉距離、レーザ光の入射
角を考慮してその屈折率に応じて厚さを考慮すれば、他
の材料を用いても良く、また、２枚のミラーを所定の間
隔で相対向して配置したものすなわちエアギャップを形
成するようにしたものもを効である。例えば、実施例と
同一半値全幅のレーザ光が同一方向から入射するように
した場合、屈折率ｎ−１であるから（１）式に代入して
エアギャップｄ′は、２ｄ’ ｃｏｓ １５” ＜１２
．５ ｄ’ ＞６．４７ｍ＋ｓ となるようにすればよい。
の両面に夫々全反射ミラー面および部分反射ミラー面を
形成したものを用いたが、基板は石英基板に限定される
ことなく、使用レーザ光の可干渉距離、レーザ光の入射
角を考慮してその屈折率に応じて厚さを考慮すれば、他
の材料を用いても良く、また、２枚のミラーを所定の間
隔で相対向して配置したものすなわちエアギャップを形
成するようにしたものもを効である。例えば、実施例と
同一半値全幅のレーザ光が同一方向から入射するように
した場合、屈折率ｎ−１であるから（１）式に代入して
エアギャップｄ′は、２ｄ’ ｃｏｓ １５” ＜１２
．５ ｄ’ ＞６．４７ｍ＋ｓ となるようにすればよい。
更にまた、第３図に示す如く、第１の繰り返し反射ミラ
ー２０と第２の繰り返し反射ミラー３０と２つの繰り返
し反射ミラーを組合わせることによって格子状に非干渉
性の光線からなる光束を発生させるようにしてもよい。
ー２０と第２の繰り返し反射ミラー３０と２つの繰り返
し反射ミラーを組合わせることによって格子状に非干渉
性の光線からなる光束を発生させるようにしてもよい。
すなわち第１の繰り返し反射ミラー２０で縦方向に光束
を発生させ、第２の繰り返し反射ミラー３０で横方向に
光束を発生させ、格子状に光束を発生せしめることがで
きる。
を発生させ、第２の繰り返し反射ミラー３０で横方向に
光束を発生させ、格子状に光束を発生せしめることがで
きる。
また、第４図に示す如く、部分反射ミラー２Ｒ′に入射
口！および射出口Ｏを形成し部分反射ミラー側からレー
ザ光を入射させ、繰り返し反射させるようにした繰り返
し反射ミラーも有効である。
口！および射出口Ｏを形成し部分反射ミラー側からレー
ザ光を入射させ、繰り返し反射させるようにした繰り返
し反射ミラーも有効である。
以上説明してきたように、本発明の照明光学装置によれ
ば、レーザ光のコヒーレント光源を用いながらも光路差
を生起手段として、全反射ミラー面と部分反射ミラー面
とを所定の距離だけ離間するように相対向して配置する
と共に、２つのミラー而のうちのいずれかに光入射口を
設けたものを光入射方向に対して傾斜して光路上に配置
し、光入射口から入射したレーザ光が反射を繰り返し、
光路差を生起しながら複数の光線束を形成するようにし
ているため、構造が簡単で極めて均一性に優れた高輝度
照明を行なうことが可能となり、フォトリソグラフィー
における露光用に用いる場合、スループットが向上する
上より短波長（レーザ）の光を用いることができるため
、極めて高精度の微細パターンを得ることができる。
ば、レーザ光のコヒーレント光源を用いながらも光路差
を生起手段として、全反射ミラー面と部分反射ミラー面
とを所定の距離だけ離間するように相対向して配置する
と共に、２つのミラー而のうちのいずれかに光入射口を
設けたものを光入射方向に対して傾斜して光路上に配置
し、光入射口から入射したレーザ光が反射を繰り返し、
光路差を生起しながら複数の光線束を形成するようにし
ているため、構造が簡単で極めて均一性に優れた高輝度
照明を行なうことが可能となり、フォトリソグラフィー
における露光用に用いる場合、スループットが向上する
上より短波長（レーザ）の光を用いることができるため
、極めて高精度の微細パターンを得ることができる。
第１図は、本発明実施例の照明光学装置の説明図、第２
図は同装置で用いられている繰り返し反射ミラーを示す
図、第３図および第４図は、繰り返し反射ミラーの変形
例、第５図は、本発明の繰り返し反射ミラーの原理説明
図である。 Ｃ・・・全反射ミラー面、 Ｒ・・・部分反射ミラー而、 Ｌ・・・レーザ光、 １・・・エキシマレーザ光源、２・・・繰り返し反射ミ
ラー、２Ｓ・・・石英基板、２Ｃ・・・全反射ミラー面
、２Ｒ，２Ｒ’・・・部分反射ミラー面、３・・・２次
光源、４・・・インテグレータ、５・・・コンデンサレ
ンズ、６・・・レチクル、２０・・・第１の繰り返し反
射ミラー、３０・・・第２の繰り返し反射ミラー、■・
・・入射口、０・・・射出口。 第１図 Ｓ 第２図 手続？■正書（自発） 昭和６２年４月１日 ２、発明の名称 照明光学装置 ３、補正をする名 事件との関係 特許出願人 （１２３）株式会社小松製作所 ４、代理人 （〒１０４）東京都中央区銀座２丁目１１番２号銀座大
作ビル６階 電話０３−５４５−３５０８ （代表）５
、補正の対象 明ｗＵｍの発明の詳細な説明の欄及び図面の簡単な説明
の欄６、補正の内容 （１）本願の明ＩｉＩ＠の第４ページ第７行目の「プリ
ズマ」を「プリズム」に訂正する。 （２）同第８ページ第２行目の「Ｘ〉」を「Ｘ〉ｌ」に
訂正する。 （３）同１３ページ第１９行目の「光路差を」を「光路
差」に訂正する。 （４）同１４ページ第１１行目の「できる。４゜図面の
節」を「できる。」に訂正する。 （５）同第−ジ第２行目の「単な説明」を「４、図面の
簡単な説明」に訂正する。
図は同装置で用いられている繰り返し反射ミラーを示す
図、第３図および第４図は、繰り返し反射ミラーの変形
例、第５図は、本発明の繰り返し反射ミラーの原理説明
図である。 Ｃ・・・全反射ミラー面、 Ｒ・・・部分反射ミラー而、 Ｌ・・・レーザ光、 １・・・エキシマレーザ光源、２・・・繰り返し反射ミ
ラー、２Ｓ・・・石英基板、２Ｃ・・・全反射ミラー面
、２Ｒ，２Ｒ’・・・部分反射ミラー面、３・・・２次
光源、４・・・インテグレータ、５・・・コンデンサレ
ンズ、６・・・レチクル、２０・・・第１の繰り返し反
射ミラー、３０・・・第２の繰り返し反射ミラー、■・
・・入射口、０・・・射出口。 第１図 Ｓ 第２図 手続？■正書（自発） 昭和６２年４月１日 ２、発明の名称 照明光学装置 ３、補正をする名 事件との関係 特許出願人 （１２３）株式会社小松製作所 ４、代理人 （〒１０４）東京都中央区銀座２丁目１１番２号銀座大
作ビル６階 電話０３−５４５−３５０８ （代表）５
、補正の対象 明ｗＵｍの発明の詳細な説明の欄及び図面の簡単な説明
の欄６、補正の内容 （１）本願の明ＩｉＩ＠の第４ページ第７行目の「プリ
ズマ」を「プリズム」に訂正する。 （２）同第８ページ第２行目の「Ｘ〉」を「Ｘ〉ｌ」に
訂正する。 （３）同１３ページ第１９行目の「光路差を」を「光路
差」に訂正する。 （４）同１４ページ第１１行目の「できる。４゜図面の
節」を「できる。」に訂正する。 （５）同第−ジ第２行目の「単な説明」を「４、図面の
簡単な説明」に訂正する。
Claims (2)
- （１）コヒーレント光源と、 該コヒーレント光源から供給される光束から複数の２次
光源を形成するための２次光源形成部材と、 該コヒーレント光源と２次光源形成部材との間に介在せ
しめられた光路差生起手段とを具備してなる照明光学装
置において、 前記光路差生起手段が、 所定の間隔だけ離間して互いに平行となるように相対向
して配設された全反射ミラー面と部分反射ミラー面とを
具え、 前記コヒーレント光源からの光が前記２つのミラー面の
うちいずれか一方の一端に配設された入射口に対して傾
斜して入射せしめられ、部分反射ミラー面では透過光と
して一部を射出しながら、２つのミラー面の間で繰り返
し反射を生ぜしめ所定の光路差を有する複数の光束を生
起せしめるように構成されていることを特徴とする照明
光学装置。 - （２）前記部分反射ミラー面は、複数の領域に分割せし
められ、各領域の反射率が順次段階的に変化するように
構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の照明光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62043688A JPS63211624A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | 照明光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62043688A JPS63211624A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | 照明光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63211624A true JPS63211624A (ja) | 1988-09-02 |
Family
ID=12670778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62043688A Pending JPS63211624A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | 照明光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63211624A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01290276A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Nikon Corp | 照明装置 |
| JPH01292821A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Nikon Corp | 光学装置 |
| JPH04134868U (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-15 | 三菱重工業株式会社 | パルスレーザ光発生装置 |
| WO2004008225A1 (ja) * | 2002-07-11 | 2004-01-22 | Sony Corporation | 画像表示装置における照明光学装置及び画像表示装置 |
| JP2009512883A (ja) * | 2005-09-21 | 2009-03-26 | アブ−アジール、ナイェフ・エム | レーザ・スペックルを低減する方法および装置 |
| US8870383B2 (en) | 2011-04-12 | 2014-10-28 | Panasonic Corporation | Incoherence device and optical apparatus using same |
-
1987
- 1987-02-26 JP JP62043688A patent/JPS63211624A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01290276A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Nikon Corp | 照明装置 |
| JPH01292821A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Nikon Corp | 光学装置 |
| JPH04134868U (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-15 | 三菱重工業株式会社 | パルスレーザ光発生装置 |
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| CN100374903C (zh) * | 2002-07-11 | 2008-03-12 | 索尼株式会社 | 图像显示设备中的照射光学装置和图像显示设备 |
| US7433126B2 (en) | 2002-07-11 | 2008-10-07 | Sony Corporation | Illuminating optical device in image display device and image display device |
| JP2009512883A (ja) * | 2005-09-21 | 2009-03-26 | アブ−アジール、ナイェフ・エム | レーザ・スペックルを低減する方法および装置 |
| US8870383B2 (en) | 2011-04-12 | 2014-10-28 | Panasonic Corporation | Incoherence device and optical apparatus using same |
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